一种NEG吸气性能测试装置
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119666659A

    公开(公告)日:2025-03-21

    申请号:CN202411838373.6

    申请日:2024-12-13

    Abstract: 本申请涉及真空测试技术领域,涉及一种NEG吸气性能测试装置,测试单元用于样品装载、密封和预处理等,配气单元用于测试气体逐级降压和供给,抽空单元用于创造测试系统所需的真空环境,真空测量单元用于测量所需腔室的真空度,温控单元用于腔室烘烤和可能需要的NEG激活,安全监测单元用于对有毒有害、易燃易爆气体泄露监测,本申请采用对称结构的双测试工位和易更换的限流元件设计,结构合理紧凑,全金属密封设计使得系统真空度较高,充气回路与测试回路无交叉,提高了腔室和测试气体的纯净度,通过动态定压法或静态定容法实现了NEG产品性能准确与高效的综合性测试和评价,能够全面地反映NEG的吸气性能。

    一种减小感压膜片表面污染的电容压力传感器

    公开(公告)号:CN119374778A

    公开(公告)日:2025-01-28

    申请号:CN202411628471.7

    申请日:2024-11-14

    Abstract: 本发明涉及一种减小感压膜片表面污染的电容压力传感器,该电容压力传感器包括螺旋柱体;螺旋柱体可拆卸地安装于测量腔进气口内;在测量腔进气口与螺旋柱体之间形成螺旋进气通道。上述电容压力传感器通过在测量腔进气口内设置螺旋柱体,被测量气体沿螺旋柱体旋转后进入测量腔体后再与感压膜片接触,使得被测量气体首先通过螺旋柱体,并与其表面发生接触和颗粒附着并凝结在其表面,因此减小了传统电容压力传感器在测量有可凝结挥发物气体时其污染物大量凝结于感压膜片表面的缺点,显著提升了电容压力传感器的测量及计量特性,延长了使用寿命。

    一种基于连续膨胀法的维里系数测量装置

    公开(公告)号:CN119321846A

    公开(公告)日:2025-01-17

    申请号:CN202411538938.9

    申请日:2024-10-31

    Abstract: 本公开提供了一种基于连续膨胀法的维里系数测量装置。该装置中,气源、多个膨胀室和抽气机组依次串联;测量模块控制抽气机组在测量开始时打开所有截止阀先对膨胀室抽真空;然后关闭所有截止阀,从距离气源最近的膨胀室开始,通过控制截止阀,将气源提供的固定量的气体顺序引入各膨胀室中,使得各膨胀室按连接顺序被逐渐连通;每连通一个新的膨胀室,记录压力计及恒温箱数据。完成对所有膨胀室充气后,利用记录数据进行线性拟合,拟合直线两个系数就是两个维里系数。本发明可以获得静态膨胀法中不同气体适用的第一维里系数及第二维里系数,保证了静态膨胀法对真空计的精确校准。

    一种真空计控制系统
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN114326482B

    公开(公告)日:2024-11-26

    申请号:CN202111472284.0

    申请日:2021-12-06

    Abstract: 本申请涉及真空测量技术领域,具体而言,涉及一种真空计控制系统,包括高压电源模块、微弱离子流检测模块、控制板、以及人机交互界面,其中:高压电源模块与微弱离子流检测模块、控制板、以及人机交互界面分别连接,为微弱离子流检测模块、控制板、以及人机交互界面供电;高压电源模块与控制板之间、微弱离子流检测模块与控制板之间、控制面板与人机交互界面之间分别通讯,进行信息交互。本申请的真空计控制系统,电压电流输出控制精度高、灯丝发射控制精确高、微弱电流采集精度高,真正实现10‑9Pa的测量下限,满足不同电离真空计的控制要求。

    一种真空全压力与漏率综合校准影响因素测量装置及方法

    公开(公告)号:CN118347658A

    公开(公告)日:2024-07-16

    申请号:CN202410717425.8

    申请日:2024-06-04

    Abstract: 本申请涉及一种真空全压力与漏率综合校准影响因素测量装置及方法,包括:真空漏孔、静态膨胀系统、第一电容薄膜真空计、第二电容薄膜真空计、第一温度控制系统、第二温度控制系统、第三温度控制系统、多个真空阀门、充气系统、材料测试系统、质谱计、质谱室、抽气系统。本申请所述的一种真空全压力与漏率综合校准影响因素测量装置及方法,可以开展温度、材料出气率、质谱计线性等对真空全压力和漏率影响因素的测量;本申请充分考虑真空全压力与漏率综合校准影响因素,设计出了一套能够实现多个影响因素测量的装置,通过温度变化、材料出气率、质谱计线性等影响因素的测量,为真空全压力与漏率综合校准下限延伸及量限拓展提供了重要依据与保障。

    一种多组分质谱泄漏检测装置

    公开(公告)号:CN114427938B

    公开(公告)日:2024-03-15

    申请号:CN202111494803.3

    申请日:2021-12-08

    Abstract: 本申请涉及真空泄漏检测技术领域,具体而言,涉及一种多组分质谱泄漏检测装置,包括累积检漏法组件、质谱分析组件、动态检漏法组件以及抽空机组,其中:累积检漏法组件包括累积检漏法接口、累积检漏室以及第一真空计;质谱分析组件包括质谱分析室、四极质谱计以及第二真空计;动态检漏法组件包括动态检漏法接口、动态检漏室以及第三真空计;抽空机组包括涡轮分子泵、吸附泵以及前级机械泵。本申请可以实现多种组分示漏气体的测量,可以满足微小、中等、较大漏率等现有密封器件工业生产过程中的全范围漏率检测需求,既可以提高检测效率,又可以避免较大漏率对微小漏率的干扰,提高产品抗示漏气体中毒能力。

    一种SF6漏率标定无级调节装置及方法

    公开(公告)号:CN112781804B

    公开(公告)日:2023-12-26

    申请号:CN202011486930.4

    申请日:2020-12-16

    Abstract: 本发明公开了一种SF6漏率标定无级调节装置及方法。本发明通过外接SF6标准气体,采用微调阀实现配气室SF6进气压力的无级调节,由固定流导小孔和动态流量法原理实时、准确计算出产生的SF6标准漏率,能够实现宽范围SF6标准漏率的快速产生和无级调节,具有漏率调节范围宽、调节精度高、使用方便、工作可靠等优点,可以满足高压电气设备中微量SF6泄漏的精确测量和漏率标定需求,且仅需一台SF6标准漏率产生装置就能满足不同SF6漏率范围测试时的高精度漏率标定需求。

    一种连续膨胀法校准标准漏孔的装置及方法

    公开(公告)号:CN116929659A

    公开(公告)日:2023-10-24

    申请号:CN202310636161.9

    申请日:2023-05-31

    Abstract: 本申请涉及测量技术领域,具体而言,涉及一种连续膨胀法校准标准漏孔的装置及方法,所述装置包括气体微流量计、监测真空计、质谱仪、校准室、温度计、被校标准漏孔以及抽气系统,其中:气体微流量计、监测真空计、质谱仪以及抽气系统均与校准室连接;被校标准漏孔设置多个,多个被校标准漏孔均与校准室连接。本申请装置结构简单,方法容易实行,成本低,能够用于不同量级、多种校准气体的标准漏孔的校准,延伸了漏率校准范围,并且能够实现同步对多台被校准漏孔进行校准,提高了校准效率。

    一种用于密闭空间微量有害气体检测及校准的装置及方法

    公开(公告)号:CN112782264B

    公开(公告)日:2023-10-24

    申请号:CN202011464931.9

    申请日:2020-12-14

    Abstract: 本发明公开了一种用于密闭空间微量有害气体检测及校准的装置及方法。使用本发明能够用于密闭空间微量有害气体成分及浓度检测及校准,同时给出气体种类、浓度和所处位置;方法简单可行,易操作。本发明由取样管路、取样阀、取样室、质谱室、质谱计等组成的检测系统,能够对密闭空间内的微量有害气体进行巡检,并给出气体成分和浓度值;同时,为避免质谱计随着测量时间的延长和质谱计污染,其灵敏度会降低,导致其检测数据不准确,因而通过校准系统对质谱计进行校准。校准系统通过设置小体积和小孔,使得标准气进样压力衰减至分子流状态,确保微量气体进样过程中各种气体成分比例保持恒定,更加符合检测系统工况,对检测数据校准更为精确。

    一种空间质谱计测量及校准装置

    公开(公告)号:CN115966454A

    公开(公告)日:2023-04-14

    申请号:CN202211671588.4

    申请日:2022-12-25

    Abstract: 本申请涉及真空计量技术领域,具体而言,涉及一种空间质谱计测量及校准装置,包括高压气瓶、混合腔室以及超高真空腔室,其中:高压气瓶为多个,多个高压气瓶均与混合腔室连接;超高真空腔室包括依次连接的第一超高真空腔室、第二超高真空腔室以及第三超高真空腔室;混合腔室通过微调阀与第二超高真空腔室连通,通过截止阀与第一超高真空腔室连通;第一超高真空腔室的进口设置有脉冲弹簧阀和电离电极;第二超高真空腔室的进口设置有锥形孔,第二超高真空腔室的内部设置有脉冲电极;第三超高真空腔室内部设置有离子检测器。本申请不仅可以实现单一气体平衡态的校准,还可以模拟空间复杂气体的环境,实现分子束流、离子束流的测量与校准。

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