一种含有动态立体螺旋线的反光膜及机动车号牌

    公开(公告)号:CN108615454B

    公开(公告)日:2020-03-20

    申请号:CN201810445607.9

    申请日:2016-07-08

    Abstract: 本发明公开了一种含有动态立体螺旋线的反光膜,其包括反光膜主体,反光膜主体的相对两表面上分别浮动设置有至少一曲线,相对两表面上的至少一曲线配对组成螺旋线,螺旋线分解为x、z向的往复运动和y向运动的合成,x‑y平面为反光膜主体所处的平面,z向垂直于x‑y平面,螺旋线在x、z向的往复运动中形成在一个周期内的闭合曲线或直线段的合成运动轨迹,闭合曲线在y向运动中沿着y向被拉伸展开。本发明还公开了一种机动车号牌。本发明可以满足反光膜的低成本和高安全要求,其无需在反光膜上增材制作,亦不需在反光膜内部印刷图形,螺旋线不能被扫描仪、照相机等设备复制,所制作的反光膜的动态立体螺旋线的光学特性容易被人眼所识别。

    一种含有动态立体螺旋线的反光膜及机动车号牌

    公开(公告)号:CN108615454A

    公开(公告)日:2018-10-02

    申请号:CN201810445607.9

    申请日:2016-07-08

    Abstract: 本发明公开了一种含有动态立体螺旋线的反光膜,其包括反光膜主体,反光膜主体的相对两表面上分别浮动设置有至少一曲线,相对两表面上的至少一曲线配对组成螺旋线,螺旋线分解为x、z向的往复运动和y向运动的合成,x-y平面为反光膜主体所处的平面,z向垂直于x-y平面,螺旋线在x、z向的往复运动中形成在一个周期内的闭合曲线或直线段的合成运动轨迹,闭合曲线在y向运动中沿着y向被拉伸展开。本发明还公开了一种机动车号牌。本发明可以满足反光膜的低成本和高安全要求,其无需在反光膜上增材制作,亦不需在反光膜内部印刷图形,螺旋线不能被扫描仪、照相机等设备复制,所制作的反光膜的动态立体螺旋线的光学特性容易被人眼所识别。

    一种含有动态立体螺旋线的反光膜及机动车号牌

    公开(公告)号:CN105957446B

    公开(公告)日:2018-07-03

    申请号:CN201610534526.7

    申请日:2016-07-08

    Abstract: 本发明公开了一种含有动态立体螺旋线的反光膜,其包括反光膜主体,反光膜主体的相对两表面上分别浮动设置有至少一曲线,相对两表面上的至少一曲线配对组成螺旋线,螺旋线分解为x、z向的往复运动和y向运动的合成,x‑y平面为反光膜主体所处的平面,z向垂直于x‑y平面,螺旋线在x、z向的往复运动中形成在一个周期内的闭合曲线或直线段的合成运动轨迹,闭合曲线在y向运动中沿着y向被拉伸展开。本发明还公开了一种机动车号牌。本发明可以满足反光膜的低成本和高安全要求,其无需在反光膜上增材制作,亦不需在反光膜内部印刷图形,螺旋线不能被扫描仪、照相机等设备复制,所制作的反光膜的动态立体螺旋线的光学特性容易被人眼所识别。

    变景深多视角空间动态成像激光签注系统及签注方法

    公开(公告)号:CN104149512A

    公开(公告)日:2014-11-19

    申请号:CN201410329335.8

    申请日:2014-07-10

    Abstract: 本发明涉及一种变景深多视角空间动态成像激光签注系统及签注方法,在光路中加入一或多块楔形棱镜,通过楔形棱镜对光线的偏折作用实现三维浮动成像定制视角签注。同时,在原光路中设置一斜面或球面状扩散片,可以实现签注焦深的连续变化,变化斜率及线性度可随扩散片形状定制,该实现方法可得到变景深效果的签注图形。如果在系统中同时设置上述两个光学器件,可实现变景深多视角三维浮动成像图形的签注。该方法系统实现结构简单签注效率高,通过上述两种效果的组合,同时配合二维平台的移动能够实现多种特殊效果的图形签注,为激光签注带来了新的工业化应用。

    变景深多视角空间动态成像激光签注系统及签注方法

    公开(公告)号:CN104149512B

    公开(公告)日:2016-06-29

    申请号:CN201410329335.8

    申请日:2014-07-10

    Abstract: 本发明涉及一种变景深多视角空间动态成像激光签注系统及签注方法,在光路中加入一或多块楔形棱镜,通过楔形棱镜对光线的偏折作用实现三维浮动成像定制视角签注。同时,在原光路中设置一斜面或球面状扩散片,可以实现签注焦深的连续变化,变化斜率及线性度可随扩散片形状定制,该实现方法可得到变景深效果的签注图形。如果在系统中同时设置上述两个光学器件,可实现变景深多视角三维浮动成像图形的签注。该方法系统实现结构简单签注效率高,通过上述两种效果的组合,同时配合二维平台的移动能够实现多种特殊效果的图形签注,为激光签注带来了新的工业化应用。

    一种大尺寸衍射光栅的制作方法及曝光装置

    公开(公告)号:CN105445834B

    公开(公告)日:2017-09-01

    申请号:CN201510701449.5

    申请日:2015-10-26

    Abstract: 一种大尺寸衍射光栅的制作方法及曝光装置,采用小尺寸光栅拼接而成,曝光装置包括两级缩微模块和消零级位相光栅,第一级缩微模块为4F成像系统,第二级缩微模块为双远心缩微投影干涉成像系统,该第二级缩微模块具有比第一级缩微模块更大的缩微倍数,且该第一缩微模块的成像面构成该第二级缩微模块的输入面,该第二缩微模块的输出面构成曝光成像时的记录面,其中第一级缩微模块包括第一傅立叶变化透镜或透镜组与第二傅立叶变化透镜或透镜组,所述消零级位相光栅位于该第一傅立叶变化透镜或透镜组与第二傅立叶变化透镜或透镜组之间,当曝光光斑中的条纹位置需要调整时,将该消零级位相光栅沿着垂直于栅线方向进行平移,实现光斑中条纹位置改变。

    混合光刻系统及混合光刻方法

    公开(公告)号:CN106681106A

    公开(公告)日:2017-05-17

    申请号:CN201710206374.2

    申请日:2017-03-31

    CPC classification number: G03F7/70383 G03F7/70408 G03F7/7045

    Abstract: 一种混合光刻系统,包括光源、光束整形器、光场调制器、反射镜、成像光学系统和位相器件,光束整形器用于整形光源发出的光束;光场调制器用于将整形后的光束生成图形光;成像光学系统和反射镜用于将光场传递至待曝光的光刻件表面实现直写光刻;位相器件用于在光刻件的表面形成干涉曝光场实现干涉光刻。本发明的混合光刻系统具有直写光刻和干涉光刻两种功能,可进行混合光刻,提高了纳米光刻效率,推动微纳结构相关的器件和材料应用具有重要意义。本发明还涉及一种的混合光刻方法。

    连续可调结构光照明的超分辨显微成像方法与系统

    公开(公告)号:CN105814402A

    公开(公告)日:2016-07-27

    申请号:CN201380081848.5

    申请日:2013-11-27

    Abstract: 一种连续可调结构光照明的超分辨显微成像方法与系统,包括计算机(34)、光源(12)、可变标度的傅立叶变换光路、位相分光器件(9)、双远心投影光学系统(19)、大数值孔径物镜(30)、样品平台(32)和面阵相机,特征为:傅立叶变换光路包括第一傅立叶变换透镜或透镜组(8)与第二傅立叶变换透镜或透镜组(10),位相分光器件(9)置于两者之间,与第二傅立叶变换透镜或透镜组(10)之间的距离连续可调,具有绕傅立叶变换光路的光轴旋转的运动自由度。该连续可调结构光照明的超分辨显微成像方法与系统可灵活实现连续可变空频的干涉条纹,用于共焦显微光学系统的结构光场照明,实现空间超分辨率成像;在纳秒频闪分幅照明模式下,不仅可实现超分辨率显微成像,提升纳米检测可靠性和检测速度,还可进行样品的动态检测分析,实现瞬态纳米结构的检测。

Patent Agency Ranking