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公开(公告)号：CN103068792B
公开(公告)日：2015-07-29
申请号：CN201180041250.4
申请日：2011-07-01
Applicant: 信越化学工业株式会社 , 独立行政法人日本原子力研究开发机构
IPC: C07C231/02 , C07C235/06 , C22B3/26 , C22B7/00 , C22B59/00
CPC classification number: C07C271/12 , C07C231/02 , C07C235/06 , C22B3/08 , C22B3/44 , C22B5/10 , C22B7/007 , C22B7/02 , C22B26/10 , C22B47/00 , C22B59/00 , Y02P10/234
Abstract: 稀土金属萃取剂，其包含作为萃取组分的极好地分解轻稀土元素的二烷基二甘醇酰胺酸，所述二烷基二甘醇酰胺酸以二甘醇酸(X mol)和酯化剂(Y mol)在70℃或更高的反应温度以及一小时或更长的反应时间反应，使得Y/X的摩尔比为2.5或更高；并且对其进行真空浓缩。接下来，通过除去未反应的产物和反应残余物获得反应中间产物，以及添加非质子极性溶剂作为反应溶剂。然后，将反应中间产物与二烷基胺(Z mol)反应，使得Z/X的摩尔比为0.9或更高以及除去非质子极性溶剂。结果，以低成本和高收率而不必使用昂贵的二甘醇酸酐和有害的二氯甲烷高效地合成稀土金属萃取剂。
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公开(公告)号：CN103068793A
公开(公告)日：2013-04-24
申请号：CN201180041257.6
申请日：2011-07-01
Applicant: 信越化学工业株式会社 , 独立行政法人日本原子力研究开发机构
IPC: C07C231/02 , C07C235/06 , C22B3/26 , C22B7/00 , C22B59/00
CPC classification number: C07C231/02 , C07C235/06 , C22B3/08 , C22B3/44 , C22B47/00 , C22B59/00 , Y02P10/234 , Y02W30/54
Abstract: 稀土金属萃取剂，其包含作为萃取组分的极好地分解轻稀土元素的二烷基二甘醇酰胺酸，所述二烷基二甘醇酰胺酸以二甘醇酸(X mol)和酯化剂(Y mol)在70℃或更高的反应温度以及一小时或更长的反应时间反应，使得Y/X的摩尔比为2.5或更高；并且使其进行真空浓缩。接下来，通过除去未反应的产物和反应残余物获得反应中间产物。然后添加非极性和低极性溶剂作为反应溶剂，所述溶剂是在稀土金属的溶剂萃取期间形成有机相的有机溶剂并且能够溶解二烷基二甘醇酰胺酸，以及将反应中间产物与二烷基胺(Z mol)反应，使得Z/X的摩尔比为0.9或更高。结果，以低成本和高收率而不必使用昂贵的二甘醇酸酐和有害的二氯甲烷高效地合成稀土金属萃取剂。
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公开(公告)号：CN103068793B
公开(公告)日：2016-06-08
申请号：CN201180041257.6
申请日：2011-07-01
Applicant: 信越化学工业株式会社 , 独立行政法人日本原子力研究开发机构
IPC: C07C231/02 , C07C235/06 , C22B3/26 , C22B7/00 , C22B59/00
CPC classification number: C07C231/02 , C07C235/06 , C22B3/08 , C22B3/44 , C22B47/00 , C22B59/00 , Y02P10/234 , Y02W30/54
Abstract: 稀土金属萃取剂，其包含作为萃取组分的极好地分解轻稀土元素的二烷基二甘醇酰胺酸，所述二烷基二甘醇酰胺酸以二甘醇酸(X mol)和酯化剂(Y mol)在70℃或更高的反应温度以及一小时或更长的反应时间反应，使得Y/X的摩尔比为2.5或更高；并且使其进行真空浓缩。接下来，通过除去未反应的产物和反应残余物获得反应中间产物。然后添加非极性和低极性溶剂作为反应溶剂，所述溶剂是在稀土金属的溶剂萃取期间形成有机相的有机溶剂并且能够溶解二烷基二甘醇酰胺酸，以及将反应中间产物与二烷基胺(Z mol)反应，使得Z/X的摩尔比为0.9或更高。结果，以低成本和高收率而不必使用昂贵的二甘醇酸酐和有害的二氯甲烷高效地合成稀土金属萃取剂。
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公开(公告)号：CN103068792A
公开(公告)日：2013-04-24
申请号：CN201180041250.4
申请日：2011-07-01
Applicant: 信越化学工业株式会社 , 独立行政法人日本原子力研究开发机构
IPC: C07C231/02 , C07C235/06 , C22B3/26 , C22B7/00 , C22B59/00
CPC classification number: C07C271/12 , C07C231/02 , C07C235/06 , C22B3/08 , C22B3/44 , C22B5/10 , C22B7/007 , C22B7/02 , C22B26/10 , C22B47/00 , C22B59/00 , Y02P10/234
Abstract: 稀土金属萃取剂，其包含作为萃取组分的极好地分解轻稀土元素的二烷基二甘醇酰胺酸，所述二烷基二甘醇酰胺酸以二甘醇酸(X mol)和酯化剂(Y mol)在70℃或更高的反应温度以及一小时或更长的反应时间反应，使得Y/X的摩尔比为2.5或更高；并且对其进行真空浓缩。接下来，通过除去未反应的产物和反应残余物获得反应中间产物，以及添加非质子极性溶剂作为反应溶剂。然后，将反应中间产物与二烷基胺(Z mol)反应，使得Z/X的摩尔比为0.9或更高以及除去非质子极性溶剂。结果，以低成本和高收率而不必使用昂贵的二甘醇酸酐和有害的二氯甲烷高效地合成稀土金属萃取剂。
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公开(公告)号：CN112782935B
公开(公告)日：2025-05-20
申请号：CN202011225387.2
申请日：2020-11-05
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供在以KrF准分子激光、电子束、极紫外线等高能射线作为光源的光学光刻中，展现特别良好的掩膜尺寸依存性(掩膜误差系数：MEF)、尺寸均匀性(CDU)的抗蚀剂组成物以及提供使用该抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂组成物，其特征为含有：(A)含有具有酸不稳定基团的重复单元，且更含有至少1种具有芳香族取代基的重复单元的树脂、(B)通式(B‑1)表示的光酸产生剂、及(C)溶剂。#imgabs0#式中，W1表示碳数4～12的含有杂原子的环状2价烃基。W2表示碳数4～14的不含杂原子的环状1价烃基。Rf为上述通式表示的2价有机基团。M+表示鎓阳离子。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119916645A
公开(公告)日：2025-05-02
申请号：CN202411526803.0
申请日：2024-10-30
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及正型抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题为提供超过已知的正型抗蚀剂材料的高感度、高分辨率，且边缘粗糙度、尺寸偏差小，曝光后的图案形状良好的正型抗蚀剂材料、及图案形成方法。本发明的解决手段为一种正型抗蚀剂材料，包含基础聚合物，该基础聚合物含有：具有经取代或非经取代的羧基及经取代或非经取代的酚性羟基的重复单元a，但，该重复单元a具有选自于非经取代的羧基及非经取代的酚性羟基中的至少1者，具有酸不稳定基团的重复单元b，及具有键结于聚合物主链的磺酸的锍盐或錪盐结构的重复单元c。
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公开(公告)号：CN111100043B
公开(公告)日：2022-08-09
申请号：CN201911021773.7
申请日：2019-10-25
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C311/48 , C07C321/20 , C07D327/08 , C07C309/31 , G03F7/00
Abstract: 本发明为鎓盐、负型抗蚀剂组合物和抗蚀剂图案形成方法。提供负型抗蚀剂组合物，其包含具有式(A)的鎓盐和基础聚合物。该抗蚀剂组合物在图案形成期间表现出高分辨率并且形成具有最小LER的图案。
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公开(公告)号：CN112782935A
公开(公告)日：2021-05-11
申请号：CN202011225387.2
申请日：2020-11-05
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供在以KrF准分子激光、电子束、极紫外线等高能射线作为光源的光学光刻中，展现特别良好的掩膜尺寸依存性(掩膜误差系数：MEF)、尺寸均匀性(CDU)的抗蚀剂组成物以及提供使用该抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂组成物，其特征为含有：(A)含有具有酸不稳定基团的重复单元，且更含有至少1种具有芳香族取代基的重复单元的树脂、(B)通式(B‑1)表示的光酸产生剂、及(C)溶剂。 式中，W1表示碳数4～12的含有杂原子的环状2价烃基。W2表示碳数4～14的不含杂原子的环状1价烃基。Rf为上述通式表示的2价有机基团。M+表示鎓阳离子。
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公开(公告)号：CN111440104A
公开(公告)日：2020-07-24
申请号：CN202010046427.0
申请日：2020-01-16
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C381/12 , C07D307/33 , C07D307/93 , C07D327/06 , C07D333/76 , C07D495/08 , G03F7/004 , G03F7/20 , G03F7/32
Abstract: 本发明涉及新颖鎓盐、化学增幅抗蚀剂组成物、以及图案形成方法。本发明的课题是提供一种新颖鎓盐，其是在以KrF准分子激光、ArF准分子激光、电子束、极紫外线等高能量射线作为光源的光刻中，高感度且酸扩散小、曝光裕度、掩膜误差因子、线宽粗糙度等光刻性能优异的化学增幅抗蚀剂组成物中使用；并提供含有该鎓盐作为光酸产生剂的化学增幅抗蚀剂组成物、及使用了该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。一种鎓盐，是以下式(1)表示的。
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