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公开(公告)号：CN112824382A
公开(公告)日：2021-05-21
申请号：CN202011302393.3
申请日：2020-11-19
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C381/12 , C07C69/80 , C07C25/18 , C07C69/92 , C07C69/96 , C07D309/12 , C07D333/76 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/32
Abstract: 本发明涉及鎓盐化合物、化学增幅抗蚀剂组成物、以及图案形成方法。本发明的课题是提供在以KrF准分子激光、ArF准分子激光、电子束、极紫外线等高能量射线作为光源的光学光刻中，溶解对比度、酸扩散抑制能力优异，CDU、LWR、感度等光刻性能优异的化学增幅抗蚀剂组成物；并提供其所使用的酸扩散抑制剂、及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为下式(1)表示的鎓盐化合物、由该鎓盐化合物构成的酸扩散抑制剂、及含有该酸扩散抑制剂的化学增幅抗蚀剂组成物。
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公开(公告)号：CN111123651A
公开(公告)日：2020-05-08
申请号：CN201911044993.1
申请日：2019-10-30
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及基板保护膜形成用组合物和图案形成方法。包括下述组分的组合物适于形成基板与抗蚀剂膜之间的保护膜：(A)聚合物，其包含具有用酸不稳定基团保护的羧基的重复单元(a1)和具有环状酯、环状碳酸酯或环状磺酸酯结构的重复单元(a2)，(B)热致产酸剂，和(C)有机溶剂。即使使用含有金属的抗蚀剂膜，该保护膜对于防止该基板被金属污染也有效。
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公开(公告)号：CN118812364A
公开(公告)日：2024-10-22
申请号：CN202410467762.6
申请日：2024-04-18
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C69/92 , G03F7/004 , C07C69/90 , C07C381/12 , C07C25/18 , C07D333/76
Abstract: 本发明涉及单体、抗蚀剂材料、抗蚀剂组成物、及图案形成方法。本发明的课题是提供优于已知的正型抗蚀剂材料的高感度、高分辨度，且边缘粗糙度、尺寸变异小，且曝光后的图案形状良好的抗蚀剂材料，以及为前述抗蚀剂材料的原料的单体、含有前述抗蚀剂材料的抗蚀剂组成物、及图案形成方法。该课题的解决手段是一种单体，其特征为：以下述通式(a)‑1M或(a)‑2M表示。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN111522198B
公开(公告)日：2024-01-26
申请号：CN202010078997.8
申请日：2020-02-03
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明提供在以KrF准分子激光、ArF准分子激光、电子束、极端紫外线等高能射线作为光源的光刻中，光透射性、酸扩散抑制能力优异，DOF、LWR、MEF等光刻性能优异的抗蚀剂组成物、及使用该抗蚀剂组成物的图案形成方法。一种抗蚀剂组成物，包含(A)由下列式(1)表示的锍盐构成的光酸产生剂、(B)对显影液的溶解性会因酸的作用而变化的基础聚合物、及(C)有机溶剂。
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公开(公告)号：CN112824382B
公开(公告)日：2023-09-29
申请号：CN202011302393.3
申请日：2020-11-19
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C381/12 , C07C69/80 , C07C25/18 , C07C69/92 , C07C69/96 , C07D309/12 , C07D333/76 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/32
Abstract: 本发明涉及鎓盐化合物、化学增幅抗蚀剂组成物、以及图案形成方法。本发明的课题是提供在以KrF准分子激光、ArF准分子激光、电子束、极紫外线等高能量射线作为光源的光学光刻中，溶解对比度、酸扩散抑制能力优异，CDU、LWR、感度等光刻性能优异的化学增幅抗蚀剂组成物；并提供其所使用的酸扩散抑制剂、及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为下式(1)表示的鎓盐化合物、由该鎓盐化合物构成的酸扩散抑制剂、及含有该酸扩散抑制剂的化学增幅抗蚀剂组成物。#imgabs0#
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116774520A
公开(公告)日：2023-09-19
申请号：CN202310253954.2
申请日：2023-03-16
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的目的为提供边缘粗糙度、尺寸偏差小，分辨性优异，曝光后的图案形状良好，且保存稳定性亦良好的抗蚀剂材料、及图案形成方法。本发明的解决手段为一种抗蚀剂材料，其特征为含有：(Ia)含有包含羟基或羧基的重复单元(A)的聚合物、(II)具有下式(1)表示的结构的交联剂、(III)具有下式(2)表示的结构的淬灭剂、(IV)有机溶剂、及(V)会因为活性光线或放射线的照射而分解并产生酸的成分。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN116515035A
公开(公告)日：2023-08-01
申请号：CN202310062007.5
申请日：2023-01-20
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C08F220/30 , C08F220/18 , C08F220/22 , C08F212/14 , C08F220/38 , G03F7/039 , G03F7/004
Abstract: 本发明提供于高能射线下为高感度、高分辨率、高对比度且能形成图案宽的变异(LWR)及图案的面内均匀性(CDU)小的图案的聚合物、抗蚀剂组成物及图案形成方法。一种聚合物，是因曝光而产生酸，且因此酸的作用而改变对于显影液的溶解性的聚合物，其特征为含有下式(A‑1)表示的重复单元、及下式(B‑1)～(B‑4)中的任一者以上表示的重复单元。式中，M‑为非亲核性相对离子，A+为鎓阳离子，n1为1或2的整数，n2为0～2的整数，n3为0～5的整数，n4为0～2的整数，c为0～3的整数。
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公开(公告)号：CN117539126A
公开(公告)日：2024-02-09
申请号：CN202310985181.7
申请日：2023-08-07
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明提供感度良好、边缘粗糙度、尺寸变异小、分辨性优良，进而保存稳定性良好的含有具有錪阳离子的感光性化合物的抗蚀剂组成物、及图案形成方法。一种抗蚀剂组成物，包含(I)下式(A)表示的酸化合物、(II)特定錪盐型光酸产生剂及/或(III)特定錪盐型光分解性淬灭剂、及(IV)对于显影液的溶解速度因酸作用而改变的基础聚合物，或包含(I)下式(A)表示的酸化合物、及(IV')含有特定錪盐型酸产生单元且对于显影液的溶解速度因酸作用而改变的基础聚合物。 式中，R1为氟原子、羟基、或也可以含有杂原子的碳数1～20的烃基。Rf1及Rf2各自独立地为氟原子或三氟甲基。
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公开(公告)号：CN111123651B
公开(公告)日：2023-08-22
申请号：CN201911044993.1
申请日：2019-10-30
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及基板保护膜形成用组合物和图案形成方法。包括下述组分的组合物适于形成基板与抗蚀剂膜之间的保护膜：(A)聚合物，其包含具有用酸不稳定基团保护的羧基的重复单元(a1)和具有环状酯、环状碳酸酯或环状磺酸酯结构的重复单元(a2)，(B)热致产酸剂，和(C)有机溶剂。即使使用含有金属的抗蚀剂膜，该保护膜对于防止该基板被金属污染也有效。
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公开(公告)号：CN113045465B
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202011454985.7
申请日：2020-12-10
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C381/12 , C07D333/76 , C07D335/12 , C07D327/08 , C07D339/08 , C07D279/20 , C07C25/18 , C07C39/367 , C07C69/708 , C07C43/225 , C07D347/00 , C07D333/46 , C07D335/02 , C07D327/06 , C07D295/00 , C07C69/76 , C07C69/84 , C07C205/58 , C07C233/54 , C07C69/92 , C07C69/86 , C07C69/94 , C07D307/54 , C07D307/33 , C07C59/135 , C07C69/753 , C07C69/40 , C07C69/732 , C07C69/36 , C07C69/96 , C07C59/56 , C07C69/07 , C07C69/63 , C07C59/64 , C07D307/80 , C07C69/78 , C07C69/767 , G03F7/004
Abstract: 本发明涉及鎓盐化合物、化学增幅抗蚀剂组成物、以及图案形成方法。本发明的课题是提供在以KrF准分子激光、ArF准分子激光、电子束、极紫外线等高能量射线作为光源的光学光刻中，为高感度，且CDU、LWR等光刻性能优异的化学增幅抗蚀剂组成物；并提供其所使用的酸扩散抑制剂、及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为下式(1)表示的鎓盐化合物、由该鎓盐化合物构成的酸扩散抑制剂、及含有该酸扩散抑制剂的化学增幅抗蚀剂组成物。
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