-
公开(公告)号：CN106947257B
公开(公告)日：2021-04-02
申请号：CN201710008671.6
申请日：2017-01-06
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C08L83/05 , C08L83/07 , C08K5/17 , C08K5/1515 , C09J183/05 , C09J183/07 , C09J11/06
Abstract: 本发明涉及环氧改性有机硅树脂、制造方法、固化性组合物和电子部件。本发明中，使用分子中具有3个或4个缩水甘油基和3个或4个(甲基)烯丙基的化合物得到的环氧改性有机硅树脂是新型的。包含该环氧改性有机硅树脂的固化性组合物固化为具有改善的耐热性和粘合性的膜。
-
公开(公告)号：CN106947257A
公开(公告)日：2017-07-14
申请号：CN201710008671.6
申请日：2017-01-06
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C08L83/05 , C08L83/07 , C08K5/17 , C08K5/1515 , C09J183/05 , C09J183/07 , C09J11/06
CPC classification number: C08G77/52 , C08G77/14 , C08G77/80 , C08L83/04 , C08G77/12 , C08G77/16 , C08G77/20 , C08G77/70 , C08L2201/08 , C08L2203/20 , C08L2205/025 , C09J11/06 , C09J183/04 , C08K5/1515 , C08K5/17
Abstract: 本发明涉及环氧改性有机硅树脂、制造方法、固化性组合物和电子部件。本发明中，使用分子中具有3个或4个缩水甘油基和3个或4个(甲基)烯丙基的化合物得到的环氧改性有机硅树脂是新型的。包含该环氧改性有机硅树脂的固化性组合物固化为具有改善的耐热性和粘合性的膜。
-
公开(公告)号：CN106610566A
公开(公告)日：2017-05-03
申请号：CN201610948118.6
申请日：2016-10-27
Applicant: 信越化学工业株式会社
CPC classification number: G03F7/0397 , G03F7/0045 , G03F7/039 , G03F7/0392 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/2004 , G03F7/322 , G03F7/40 , G03F7/00 , G03F7/004
Abstract: 提供了化学增幅型正型抗蚀剂组合物，其包括在有机溶剂中的适应于在酸的作用下变成可溶于碱性水溶液中的特定的碱溶性聚合物作为基础树脂，碱溶性聚合物和光致产酸剂。所述组合物形成抗蚀剂膜，所述抗蚀剂膜可以短时间显影从而以高感光度形成图案而不在图案侧壁中产生凹坑。
-
公开(公告)号：CN107312648B
公开(公告)日：2021-09-10
申请号：CN201710279657.X
申请日：2017-04-26
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明为清洁剂组合物和薄衬底的制备。基本上由(A)90.0‑99.9wt％的有机溶剂和(B)0.1‑10.0wt％的C3‑C6醇组成且包含(C)20‑300ppm的钠和/或钾的清洁剂组合物有效地用于清洁硅半导体衬底的表面。在短时间内并且以高的效率实现了令人满意的程度的清洁，而不导致对衬底的腐蚀。
-
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108384005A
公开(公告)日：2018-08-10
申请号：CN201810104003.8
申请日：2018-02-02
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C08G73/22 , C08G77/452
CPC classification number: C08G81/024 , C08F224/00 , C08F226/06 , C08G73/0246 , C08G73/22 , C08G77/045 , C08G77/12 , C08G77/442 , C08G77/452 , C08G77/50 , C08G77/52 , C08G77/54 , C08G77/80 , C08K5/5419 , C08L83/10
Abstract: 本发明为有机硅改性的聚苯并噁唑树脂和制备方法。通过加成聚合制备包括式(1a)和(1b)的重复单元的有机硅改性的聚苯并噁唑树脂。R1至R4为C1-C8一价烃基，m和n为0-300的整数，R5为C1-C8亚烷基或亚苯基，a和b为小于1的正数，a+b＝1，X1为式(2)的二价连接基。所述树脂是柔性的，可溶于有机溶剂并且易于使用。
-
公开(公告)号：CN105404096A
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：CN201510564914.5
申请日：2015-09-08
Applicant: 信越化学工业株式会社
CPC classification number: G03F7/0397 , G03F7/0045 , G03F7/0048 , G03F7/0392 , G03F7/11 , G03F7/168
Abstract: 待在支持膜上形成的化学增幅型正型抗蚀剂干膜包含5-40重量％的在大气压下具有55℃至250℃的沸点的组分。可以通过简单的步骤制备具有柔性和尺寸稳定性的抗蚀剂干膜。可以将所述抗蚀剂干膜有效地和简易地置于制品上并加工，以形成图案。
-
公开(公告)号：CN119156394A
公开(公告)日：2024-12-17
申请号：CN202380038461.5
申请日：2023-05-09
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 柳泽秀好
IPC: C07F7/08
Abstract: 提供由下述式(1)表示的具有含有硫代环氧基和(甲基)烯丙基的芴基的有机硅化合物。#imgabs0#(式中，R1～R8各自独立地为氢原子或甲基。R9～R12各自独立地为氢原子或碳原子数1～10的烃基。R13为碳原子数1～10的亚烃基)。
-
公开(公告)号：CN108388082B
公开(公告)日：2023-01-13
申请号：CN201810104013.1
申请日：2018-02-02
Applicant: 信越化学工业株式会社(JP)
IPC: G03F7/075
Abstract: 本发明为感光性树脂组合物、感光性干膜、感光性树脂涂层和图案形成方法。将包括(A)有机硅改性的聚苯并噁唑树脂和(B)在曝光至波长190至500nm的辐射时分解产生酸的光致产酸剂的感光性树脂组合物涂布至基材上，以形成厚涂层，将该涂层曝光至辐射，烘焙，并显影以形成图案。所述树脂涂层能够形成精细图案并且具有改进的耐开裂性和其它膜性质，和可靠性。
-
公开(公告)号：CN107312650A
公开(公告)日：2017-11-03
申请号：CN201710279647.6
申请日：2017-04-26
Applicant: 信越化学工业株式会社
CPC classification number: C11D11/0047 , C08G77/16 , C09J183/04 , C11D7/261 , C11D7/3209 , C11D7/5004 , C11D7/5022 , C11D7/5027 , H01L21/02013 , H01L21/02057 , H01L21/0209 , H01L21/31111 , H01L21/31133 , H01L21/6835 , H01L2221/68327 , H01L2221/68381 , C08L83/00 , C11D7/00 , C11D7/242 , H01L21/02043
Abstract: 本发明为清洁剂组合物和薄衬底的制备。基本上由(A)92.0wt％至小于99.9wt％的有机溶剂、(B)0.1wt％至小于8.0wt％的C3-C6醇和(C)0.001-3.0wt％的季铵盐组成的清洁剂组合物有效地用于除去硅半导体衬底上的任何有机硅粘合剂残留物。在短时间内并且以高的效率实现了令人满意的程度的清洁，而不导致对衬底的腐蚀。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
22
records
(took 0.041 seconds)
