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公开(公告)号：CN104303104A
公开(公告)日：2015-01-21
申请号：CN201380015762.2
申请日：2013-02-22
Applicant: 佳能纳米技术公司 , 分子制模股份有限公司
Inventor： 崔炳镇 , S·H·安 , M·加纳帕斯苏伯拉曼尼安 , M·N·米勒 , S·V·斯里尼瓦桑
IPC: G03F7/00
CPC classification number: B29C59/026 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002
Abstract: 提供了使用压印光刻技术用于图案化分配在柔性衬底或平坦衬底上的可聚合材料的方法和系统。还呈现了模板复制方法和系统，其中来自主模板的图案被转印到柔性衬底以形成柔性薄膜模板。这样的柔性薄膜模板则被用来图案化大面积平坦衬底。可通过模板和衬底之间的相对平移来发起和传播压印模板和衬底之间的接触。
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公开(公告)号：CN109407463A
公开(公告)日：2019-03-01
申请号：CN201811066954.7
申请日：2013-02-22
Applicant: 分子制模股份有限公司
Inventor： 崔炳镇 , S·H·安 , M·加纳帕斯苏伯拉曼尼安 , M·N·米勒 , S·V·斯里尼瓦桑
Abstract: 提供了使用压印光刻技术用于图案化分配在柔性衬底或平坦衬底上的可聚合材料的方法和系统。还呈现了模板复制方法和系统，其中来自主模板的图案被转印到柔性衬底以形成柔性薄膜模板。这样的柔性薄膜模板则被用来图案化大面积平坦衬底。可通过模板和衬底之间的相对平移来发起和传播压印模板和衬底之间的接触。
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公开(公告)号：CN109407463B
公开(公告)日：2022-06-14
申请号：CN201811066954.7
申请日：2013-02-22
Applicant: 分子制模股份有限公司
Inventor： 崔炳镇 , S·H·安 , M·加纳帕斯苏伯拉曼尼安 , M·N·米勒 , S·V·斯里尼瓦桑
Abstract: 提供了使用压印光刻技术用于图案化分配在柔性衬底或平坦衬底上的可聚合材料的方法和系统。还呈现了模板复制方法和系统，其中来自主模板的图案被转印到柔性衬底以形成柔性薄膜模板。这样的柔性薄膜模板则被用来图案化大面积平坦衬底。可通过模板和衬底之间的相对平移来发起和传播压印模板和衬底之间的接触。
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公开(公告)号：CN104303104B
公开(公告)日：2019-02-01
申请号：CN201380015762.2
申请日：2013-02-22
Applicant: 分子制模股份有限公司
Inventor： 崔炳镇 , S·H·安 , M·加纳帕斯苏伯拉曼尼安 , M·N·米勒 , S·V·斯里尼瓦桑
IPC: G03F7/00
Abstract: 提供了使用压印光刻技术用于图案化分配在柔性衬底或平坦衬底上的可聚合材料的方法和系统。还呈现了模板复制方法和系统，其中来自主模板的图案被转印到柔性衬底以形成柔性薄膜模板。这样的柔性薄膜模板则被用来图案化大面积平坦衬底。可通过模板和衬底之间的相对平移来发起和传播压印模板和衬底之间的接触。
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