公开(公告)号：CN1016449B

公开(公告)日：1992-04-29

申请号：CN89100620.6

申请日：1989-02-01

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 金井正博 ,  村上勉 ,  新井孝至 ,  川上一郎

IPC: C23C16/48 ,  C23C16/52

CPC classification number: C30B25/105 ,  C23C16/306 ,  C23C16/452 ,  C30B29/48 ,  H01L21/02422 ,  H01L21/02551 ,  H01L21/0256 ,  H01L21/02573 ,  H01L21/02581 ,  H01L21/0262 ,  Y10S148/045 ,  Y10S148/064

Abstract: 形成主要含周期表的II和VI族原子的实用沉积膜工艺，沉积膜按如下方法制成：向用以在其内一衬底上形成沉积膜的成膜空间引入用作成膜原料的，分别由下列一般公式(I)和(II)表示的化合物(1)、(2)，如果需要，再引入含作为组分元素的，能控制沉积膜价子的元素的化合物(3)，这些化含物要么都呈气态，要么至少有一个在分立于成膜空间的激发空间中被预先激发。RnMn…(I)：AaBb…(II)。

公开(公告)号：CN1038469A

公开(公告)日：1990-01-03

申请号：CN89100620.6

申请日：1989-02-01

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 金井正博 ,  村上勉 ,  新井孝至 ,  川上一郎

IPC: C23C16/48

CPC classification number: C30B25/105 ,  C23C16/306 ,  C23C16/452 ,  C30B29/48 ,  H01L21/02422 ,  H01L21/02551 ,  H01L21/0256 ,  H01L21/02573 ,  H01L21/02581 ,  H01L21/0262 ,  Y10S148/045 ,  Y10S148/064

Abstract: 形成主要含周期表的II和VI族原子的实用沉积膜工艺，沉积膜按如下方法制成：向用以在其内一衬底上形成沉积膜的成膜空间引入用作成膜原料的，分别由下列一般公式(I)和(II)表示的化合物(1)、(2)，如果需要，再引入含作为组分元素的，能控制沉积膜价电子的元素的化合物(3)，这些化合物要么都呈气态，要么至少有一个在分立于成膜空间的激发空间中被预先激发。