公开(公告)号：CN113467191A

公开(公告)日：2021-10-01

申请号：CN202110233730.6

申请日：2021-03-03

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 安永大辅 ,  昼间健太郎

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明提供光源装置、照明装置以及曝光装置。在以LED为光源的光源装置中抑制光的总输出降低。光源装置具有LED阵列和冷却器，该LED阵列具备基板、配置在上述基板上的第一LED芯片和发光效率比上述第一LED芯片高的第二LED芯片，该冷却器用于利用从制冷剂入口流向制冷剂出口的制冷剂来冷却上述LED阵列，上述第一LED芯片相比上述第二LED芯片配置在上述冷却器的制冷剂入口侧。

公开(公告)号：CN109634064B

公开(公告)日：2022-05-17

申请号：CN201811127037.5

申请日：2018-09-27

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 安永大辅 ,  西川原朋史 ,  浅田克己 ,  柴田雄吾

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明提供曝光装置以及物品制造方法。曝光装置具有第1温度调节机构(113)和第2温度调节机构(211)，第1温度调节机构(113)通过向收容投影光学系统(104)的镜筒(110)的内部供给气体来调节镜筒内部的温度，第2温度调节机构(211)通过向被设置在对构成投影光学系统的光学元件(201)进行保持的保持部件(206)中的流路(209)供给液体来调节光学元件以及保持部件的温度，其中，第1温度调节机构的目标温度和第2温度调节机构的目标温度不同。

公开(公告)号：CN109634064A

公开(公告)日：2019-04-16

申请号：CN201811127037.5

申请日：2018-09-27

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 安永大辅 ,  西川原朋史 ,  浅田克己 ,  柴田雄吾

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70258 ,  G03F7/70891

Abstract: 本发明提供曝光装置以及物品制造方法。曝光装置具有第1温度调节机构(113)和第2温度调节机构(211)，第1温度调节机构(113)通过向收容投影光学系统(104)的镜筒(110)的内部供给气体来调节镜筒内部的温度，第2温度调节机构(211)通过向被设置在对构成投影光学系统的光学元件(201)进行保持的保持部件(206)中的流路(209)供给液体来调节光学元件以及保持部件的温度，其中，第1温度调节机构的目标温度和第2温度调节机构的目标温度不同。