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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104884667B
公开(公告)日：2017-03-22
申请号：CN201380068235.8
申请日：2013-11-28
Applicant: 佳能安内华股份有限公司
IPC: C23C14/34
CPC classification number: H01J37/3441 , C23C14/34 , H01J37/32477 , H01J37/32715 , H01J37/32733 , H01J37/3405 , H01J37/347
Abstract: 基板处理设备具有处理腔、用以在处理腔内保持基板的基板保持器、设置在基板保持器的外周部处的第一屏蔽件以及设置在处理腔的内侧的第二屏蔽件。处理腔的内部空间至少由第一屏蔽件、第二屏蔽件以及基板保持器划分为外部空间和用以对基板进行处理的处理空间。基板保持器能够沿着与保持基板的基板保持面相垂直的驱动方向被驱动。在由第一屏蔽件和第二屏蔽件所形成的间隙中，在与驱动方向相垂直的方向上尺寸为最小的最小间隙部分的在与驱动方向相平行的方向上的长度就算是基板保持器沿驱动方向被驱动也不会改变。
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公开(公告)号：CN104884667A
公开(公告)日：2015-09-02
申请号：CN201380068235.8
申请日：2013-11-28
Applicant: 佳能安内华股份有限公司
IPC: C23C14/34
CPC classification number: H01J37/3441 , C23C14/34 , H01J37/32477 , H01J37/32715 , H01J37/32733 , H01J37/3405 , H01J37/347
Abstract: 基板处理设备具有处理腔、用以在处理腔内保持基板的基板保持器、设置在基板保持器的外周部处的第一屏蔽件以及设置在处理腔的内侧的第二屏蔽件。处理腔的内部空间至少由第一屏蔽件、第二屏蔽件以及基板保持器划分为外部空间和用以对基板进行处理的处理空间。基板保持器能够沿着与保持基板的基板保持面相垂直的驱动方向被驱动。在由第一屏蔽件和第二屏蔽件所形成的间隙中，在与驱动方向相垂直的方向上尺寸为最小的最小间隙部分的在与驱动方向相平行的方向上的长度就算是基板保持器沿驱动方向被驱动也不会改变。
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公开(公告)号：CN101970712B
公开(公告)日：2012-02-22
申请号：CN200980108513.1
申请日：2009-11-25
Applicant: 佳能安内华股份有限公司
IPC: C23C14/34 , H01L21/285
CPC classification number: C23C14/564 , C23C14/34 , H01J37/34 , H01J37/3447
Abstract: 公开了一种溅射设备，其设有：靶保持器，其放置在真空容器中并保持用于在衬底上沉积膜的靶；其上安装衬底的衬底保持器；第一遮蔽构件，其布置在衬底保持器附近，并形成衬底保持器和靶保持器之间彼此遮蔽的关闭状态或者衬底保持器和靶保持器之间彼此开放的打开状态；第一打开/关闭驱动单元，其将第一遮蔽构件打开/关闭到打开状态或关闭状态；环状的第二遮蔽构件，其布置在衬底保持器的表面和衬底的外周边部分上；和驱动单元，其适于使衬底保持器运动，以便使其上布置有第二遮蔽构件的衬底保持器靠近在关闭状态中的第一遮蔽构件。第一遮蔽构件上形成有沿着第二遮蔽构件的方向延伸的至少一个环状的第一突出部分。第二遮蔽构件上形成有沿着第一遮蔽构件的方向延伸的至少一个环状的第二突出部分。在驱动单元使衬底保持器靠近第一遮蔽构件所到达的位置处，第一突出部分和第二突出部分在非接触的状态中配合在一起。
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公开(公告)号：CN102822379A
公开(公告)日：2012-12-12
申请号：CN201080065679.2
申请日：2010-03-24
Applicant: 佳能安内华股份有限公司
IPC: C23C14/34 , H01L21/285
CPC classification number: H01J37/3441 , C23C14/0068 , C23C14/3407 , C23C14/35 , C23C14/50 , C23C14/505 , C23C14/564 , H01J37/3405 , H01J37/3447 , H01J2237/3323
Abstract: 本发明公开了一种用于电子装置的制造方法，包括：第一步骤，使得基板保持器运动成接近第一屏蔽部件以使得形成于第一屏蔽部件上并具有环形形状的第一凸出部分和具有环形形状并形成于第二屏蔽部件上的第二凸出部分定位在以非接触状态相互接合的位置处，该第二屏蔽部件安装在基板保持器的表面上并在基板的外周边部分处；第二步骤，在第一步骤之后溅射靶，同时使得第一凸出部分和第二凸出部分保持在以非接触状态相互接合的位置处；以及第三步骤，在第二步骤之后使得第一屏蔽部件设定在打开状态，通过溅射该靶在基板上形成薄膜。
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公开(公告)号：CN101970712A
公开(公告)日：2011-02-09
申请号：CN200980108513.1
申请日：2009-11-25
Applicant: 佳能安内华股份有限公司
IPC: C23C14/34 , H01L21/285
CPC classification number: C23C14/564 , C23C14/34 , H01J37/34 , H01J37/3447
Abstract: 公开了一种溅射设备，其设有：靶保持器，其放置在真空容器中并保持用于在衬底上沉积膜的靶；其上安装衬底的衬底保持器；第一遮蔽构件，其布置在衬底保持器附近，并形成衬底保持器和靶保持器之间彼此遮蔽的关闭状态或者衬底保持器和靶保持器之间彼此开放的打开状态；第一打开/关闭驱动单元，其将第一遮蔽构件打开/关闭到打开状态或关闭状态；环状的第二遮蔽构件，其布置在衬底保持器的表面和衬底的外周边部分上；和驱动单元，其适于使衬底保持器运动，以便使其上布置有第二遮蔽构件的衬底保持器靠近在关闭状态中的第一遮蔽构件。第一遮蔽构件上形成有沿着第二遮蔽构件的方向延伸的至少一个环状的第一突出部分。第二遮蔽构件上形成有沿着第一遮蔽构件的方向延伸的至少一个环状的第二突出部分。在驱动单元使衬底保持器靠近第一遮蔽构件所到达的位置处，第一突出部分和第二突出部分在非接触的状态中配合在一起。
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