公开(公告)号：CN113574613A

公开(公告)日：2021-10-29

申请号：CN202080020988.1

申请日：2020-03-26

Applicant: 住友重机械工业株式会社

Inventor： 樋口博纪 ,  F·圭拉戈麦斯 ,  越智重治 ,  谷口爱实 ,  村上喜信 ,  小田敬 ,  上野悟史 ,  山口雄贵

IPC: G21F7/00 ,  H05H13/00 ,  G21G1/10 ,  G21K5/00 ,  G21K5/08

Abstract: 本发明涉及靶照射系统及来自固体靶的放射性同位素的回收方法。靶照射系统对具有金属层的固体靶照射从粒子加速器射出的带电粒子束以生成金属层的放射性同位素，具备：靶照射装置，配置在设置于建筑物的室内，将固体靶保持于带电粒子束的照射位置，从而能够对固体靶照射带电粒子束；及溶解装置，配置在室内，使附着于通过靶照射装置完成了带电粒子束的照射的固体靶上的放射性同位素溶解。

公开(公告)号：CN111465165A

公开(公告)日：2020-07-28

申请号：CN201910057247.X

申请日：2019-01-22

Applicant: 住友重机械工业株式会社

Inventor： 谷口爱实 ,  村上喜信 ,  小田敬 ,  上野悟史 ,  F·圭拉 ,  山口雄贵

IPC: H05H13/00 ,  H05H7/00 ,  A61B6/03

Abstract: 本发明提供一种能够进一步提高得到放射性同位素时的对辐射的安全性的自屏蔽回旋加速器系统。输送部(22)从对靶(10)进行带电粒子束(B)的照射的靶保持部(20)向回收放射性同位素的溶解部(21)输送靶(10)。在此，靶保持部(20)、溶解部(21)及输送部(22)配置于自屏蔽体(4)内。从而，将带电粒子束(B)照射于靶(10)的工序、通过溶解放射性同位素进行回收的工序、以及两个工序之间的进行靶的输送的工序均在自屏蔽体(4)内进行。从而，在各工序中，从带电粒子束照射后的靶(10)释放的辐射通过自屏蔽体而被阻断。

公开(公告)号：CN119480203A

公开(公告)日：2025-02-18

申请号：CN202411599128.4

申请日：2020-03-26

Applicant: 住友重机械工业株式会社

Inventor： 樋口博纪 ,  F·圭拉戈麦斯 ,  越智重治 ,  谷口爱实 ,  村上喜信 ,  小田敬 ,  上野悟史 ,  山口雄贵

IPC: G21K5/08 ,  G21K5/00 ,  G21F7/00 ,  G21G1/10 ,  H05H13/00

Abstract: 本发明涉及靶照射系统及来自固体靶的放射性同位素的回收方法。靶照射系统对具有金属层的固体靶照射从粒子加速器射出的带电粒子束以生成金属层的放射性同位素，具备：靶照射装置，配置在设置于建筑物的室内，将固体靶保持于带电粒子束的照射位置，从而能够对固体靶照射带电粒子束；及溶解装置，配置在室内，使附着于通过靶照射装置完成了带电粒子束的照射的固体靶上的放射性同位素溶解。

公开(公告)号：CN113574613B

公开(公告)日：2024-11-29

申请号：CN202080020988.1

申请日：2020-03-26

Applicant: 住友重机械工业株式会社

Inventor： 樋口博纪 ,  F·圭拉戈麦斯 ,  越智重治 ,  谷口爱实 ,  村上喜信 ,  小田敬 ,  上野悟史 ,  山口雄贵

IPC: G21F7/00 ,  H05H13/00 ,  G21G1/10 ,  G21K5/00 ,  G21K5/08

Abstract: 本发明涉及靶照射系统及来自固体靶的放射性同位素的回收方法。靶照射系统对具有金属层的固体靶照射从粒子加速器射出的带电粒子束以生成金属层的放射性同位素，具备：靶照射装置，配置在设置于建筑物的室内，将固体靶保持于带电粒子束的照射位置，从而能够对固体靶照射带电粒子束；及溶解装置，配置在室内，使附着于通过靶照射装置完成了带电粒子束的照射的固体靶上的放射性同位素溶解。