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公开(公告)号：CN1223615C
公开(公告)日：2005-10-19
申请号：CN99803249.2
申请日：1999-02-19
IPC: C08F32/08 , C08F232/08 , C08G61/08 , G03F7/039 , G03F7/004
CPC classification number: C08F232/08 , C08G61/08 , G03F7/0045 , G03F7/0382 , G03F7/039 , Y10S430/115
Abstract: 公开了含有芳香侧基单元的多环类聚合物。聚合物对远UV波长显示出光学透明性，从而能在高分辨率照相平版印刷行业中应用。这些聚合物特别适用于化学放大的正性和负性光刻胶。
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公开(公告)号：CN1292002A
公开(公告)日：2001-04-18
申请号：CN99803249.2
申请日：1999-02-19
Applicant: B.F.谷德里奇公司 , 国际商业机器公司
IPC: C08F32/08 , C08F232/08 , C08G61/08 , G03F7/039 , G03F7/004
CPC classification number: C08F232/08 , C08G61/08 , G03F7/0045 , G03F7/0382 , G03F7/039 , Y10S430/115
Abstract: 公开了含有芳香侧基单元的多环类聚合物。聚合物对远UV波长显示出光学透明性,从而能在高分辨率照相平版印刷行业中应用。这些聚合物特别适用于化学放大的正性和负性光刻胶。
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公开(公告)号：CN101288027B
公开(公告)日：2014-12-10
申请号：CN200680034135.3
申请日：2006-08-21
Applicant: 国际商业机器公司
CPC classification number: G03F7/0045 , C07J9/005 , C07J17/00 , G03F7/0392 , Y10S430/106 , Y10S430/11 , Y10S430/111 , Y10S430/115
Abstract: 一种光致抗蚀剂组合物，它包括：聚合物；光致产酸剂；和溶解改性剂。使用该光致抗蚀剂组合物和溶解改性剂组合物，形成图像的方法。该溶解改性剂不溶于含水碱性显影剂内且抑制聚合物在显影剂内溶解，直到通过光致产酸剂暴露于光化辐射线下生成酸，其中溶解改性剂在合适的温度下变为可溶于显影剂内，并允许聚合物溶解在显影剂中。该溶解改性剂是用酸不稳定性的乙氧基乙基、四氢呋喃基和当归内酯基保护的葡糖苷、胆酸酯、柠檬酸酯和金刚烷二羧酸酯。
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公开(公告)号：CN101288027A
公开(公告)日：2008-10-15
申请号：CN200680034135.3
申请日：2006-08-21
Applicant: 国际商业机器公司
CPC classification number: G03F7/0045 , C07J9/005 , C07J17/00 , G03F7/0392 , Y10S430/106 , Y10S430/11 , Y10S430/111 , Y10S430/115
Abstract: 一种光致抗蚀剂组合物，它包括：聚合物；光致产酸剂；和溶解改性剂。使用该光致抗蚀剂组合物和溶解改性剂组合物，形成图像的方法。该溶解改性剂不溶于含水碱性显影剂内且抑制聚合物在显影剂内溶解，直到通过光致产酸剂暴露于光化辐射线下生成酸，其中溶解改性剂在合适的温度下变为可溶于显影剂内，并允许聚合物溶解在显影剂中。该溶解改性剂是用酸不稳定性的乙氧基乙基、四氢呋喃基和当归内酯基保护的葡糖苷、胆酸酯、柠檬酸酯和金刚烷二羧酸酯。
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