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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1292002A
公开(公告)日：2001-04-18
申请号：CN99803249.2
申请日：1999-02-19
Applicant: B.F.谷德里奇公司 , 国际商业机器公司
IPC: C08F32/08 , C08F232/08 , C08G61/08 , G03F7/039 , G03F7/004
CPC classification number: C08F232/08 , C08G61/08 , G03F7/0045 , G03F7/0382 , G03F7/039 , Y10S430/115
Abstract: 公开了含有芳香侧基单元的多环类聚合物。聚合物对远UV波长显示出光学透明性,从而能在高分辨率照相平版印刷行业中应用。这些聚合物特别适用于化学放大的正性和负性光刻胶。
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公开(公告)号：CN1347427A
公开(公告)日：2002-05-01
申请号：CN00806313.3
申请日：2000-03-09
Applicant: B.F.谷德里奇公司
IPC: C08G61/08
CPC classification number: C08G61/122 , C08G61/06 , C08G61/08
Abstract: 公开了用于聚合含有侧挂酸酐结构部分的多环烯烃的方法。该方法利用结构式EnNi(C6F5)2的单一组分含镍催化剂,其中n是1或2,E表示中性电子供给配体。
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公开(公告)号：CN1315906C
公开(公告)日：2007-05-16
申请号：CN99804515.2
申请日：1999-02-19
CPC classification number: G03F7/039 , C08G61/02 , C08G61/08 , G03F7/0045 , G03F7/0395 , G03F7/0397
Abstract: 本发明涉及环状聚合物和其在照相平版印刷应用中的用途。这些环状聚合物含有酸不稳定官能侧基和含保护的羟基部分的官能基团。这些聚合物通过使羟基侧基部分脱保护并使该含脱保护羟基的部分与共反应剂反应而进行后改性。发现这些后-官能化的聚合物可用于化学放大光刻胶组合物中。
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公开(公告)号：CN1223615C
公开(公告)日：2005-10-19
申请号：CN99803249.2
申请日：1999-02-19
IPC: C08F32/08 , C08F232/08 , C08G61/08 , G03F7/039 , G03F7/004
CPC classification number: C08F232/08 , C08G61/08 , G03F7/0045 , G03F7/0382 , G03F7/039 , Y10S430/115
Abstract: 公开了含有芳香侧基单元的多环类聚合物。聚合物对远UV波长显示出光学透明性，从而能在高分辨率照相平版印刷行业中应用。这些聚合物特别适用于化学放大的正性和负性光刻胶。
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公开(公告)号：CN1295587A
公开(公告)日：2001-05-16
申请号：CN99804515.2
申请日：1999-02-19
Applicant: B·F·谷德里奇公司 , 国际商业机器公司
CPC classification number: G03F7/039 , C08G61/02 , C08G61/08 , G03F7/0045 , G03F7/0395 , G03F7/0397
Abstract: 本发明涉及环状聚合物和其在照相平版印刷应用中的用途。这些环状聚合物含有酸不稳定官能侧基和含保护的羟基部分的官能基团。这些聚合物通过使羟基侧基部分脱保护并使该含脱保护羟基的部分与共反应剂反应而进行后改性。发现这些后－官能化的聚合物可用于化学放大光刻胶组合物中。
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