溅射靶
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105934533A

    公开(公告)日:2016-09-07

    申请号:CN201580005170.1

    申请日:2015-01-20

    Abstract: 本发明的目的在于实现溅射靶的长寿命化与在此期间形成在基板上的薄膜的膜厚均匀性的兼顾,并提供一种溅射靶,其为包含靶材的溅射靶,其特征在于,所述靶材在其溅射面具有位于中央的圆形的平坦的第一区域和在所述第一区域的外侧与所述第一区域呈同心圆状地配置的环状的第二区域,所述第一区域配置在比所述第二区域以最大计低所述第二区域的厚度的15%的位置,所述第一区域的直径为所述溅射面的外周的直径的60%~80%。

    溅射靶的制造方法及溅射靶

    公开(公告)号:CN108350565B

    公开(公告)日:2021-05-18

    申请号:CN201780003731.3

    申请日:2017-07-10

    Inventor: 泷川干雄

    Abstract: 溅射靶的制造方法,其包括下述工序:嵌入工序,以在背板材的框部的高度方向上、靶材的最上方位置高于背板材的框部的最上方位置的方式,将靶材嵌入至背板材的框部的内侧;以及接合工序,将靶材扩散接合于背板材。

    溅射靶及溅射靶制造用接合体

    公开(公告)号:CN113215540B

    公开(公告)日:2023-12-08

    申请号:CN202110461239.9

    申请日:2017-07-10

    Inventor: 泷川干雄

    Abstract: 本发明涉及溅射靶及溅射靶制造用接合体。溅射靶的制造方法,其包括下述工序:嵌入工序,以在背板材的框部的高度方向上、靶材的最上方位置高于背板材的框部的最上方位置的方式,将靶材嵌入至背板材的框部的内侧;以及接合工序,将靶材扩散接合于背板材。

    溅射靶
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN108690964B

    公开(公告)日:2021-02-09

    申请号:CN201810253834.1

    申请日:2018-03-26

    Abstract: 本发明涉及溅射靶,其包含靶材,所述靶材的溅射面中,在溅射时侵蚀最集中的位置处具有以所述靶材的厚度减小的方式设置的层差。

    溅射靶及溅射靶制造用接合体

    公开(公告)号:CN113215540A

    公开(公告)日:2021-08-06

    申请号:CN202110461239.9

    申请日:2017-07-10

    Inventor: 泷川干雄

    Abstract: 本发明涉及溅射靶及溅射靶制造用接合体。溅射靶的制造方法,其包括下述工序:嵌入工序,以在背板材的框部的高度方向上、靶材的最上方位置高于背板材的框部的最上方位置的方式,将靶材嵌入至背板材的框部的内侧;以及接合工序,将靶材扩散接合于背板材。

    溅射靶的制造方法及溅射靶

    公开(公告)号:CN108350565A

    公开(公告)日:2018-07-31

    申请号:CN201780003731.3

    申请日:2017-07-10

    Inventor: 泷川干雄

    CPC classification number: H01J37/3417 C23C14/34

    Abstract: 溅射靶的制造方法,其包括下述工序:嵌入工序,以在背板材的框部的高度方向上、靶材的最上方位置高于背板材的框部的最上方位置的方式,将靶材嵌入至背板材的框部的内侧;以及接合工序,将靶材扩散接合于背板材。

    溅射靶
    9.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105934533B

    公开(公告)日:2018-11-27

    申请号:CN201580005170.1

    申请日:2015-01-20

    Abstract: 本发明的目的在于实现溅射靶的长寿命化与在此期间形成在基板上的薄膜的膜厚均匀性的兼顾,并提供一种溅射靶,其为包含靶材的溅射靶,其特征在于,所述靶材在其溅射面具有位于中央的圆形的平坦的第一区域和在所述第一区域的外侧与所述第一区域呈同心圆状地配置的环状的第二区域,所述第一区域配置在比所述第二区域以最大计低所述第二区域的厚度的15%的位置,所述第一区域的直径为所述溅射面的外周的直径的60%~80%。

    溅射靶
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN108690964A

    公开(公告)日:2018-10-23

    申请号:CN201810253834.1

    申请日:2018-03-26

    Abstract: 本发明涉及溅射靶,其包含靶材,所述靶材的溅射面中,在溅射时侵蚀最集中的位置处具有以所述靶材的厚度减小的方式设置的层差。

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