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公开(公告)号：CN101868358A
公开(公告)日：2010-10-20
申请号：CN200880116825.2
申请日：2008-11-19
Applicant: 伊斯曼柯达公司
Abstract: 制造平版印刷板的方法，包括(a)提供平版印刷板前体，其包括(i)基材；(ii)包括一个或多个层的辐射敏感涂层；和(iii)任选地不渗氧的外涂层；(b)将所述平版印刷板前体依图象曝光于具有所述辐射敏感涂层对其敏感的波长的辐射；(c)任选地使所述依图象曝光的前体经受预加热处理和/或水冲洗；(d)利用碱显影剂从所述依图象曝光的前体上除去非图象区；(e)任选地使在步骤(d)中获得的所述成象的前体经受水冲洗；(f)用整理溶液处理步骤(d)或(e)中获得的所述成象的平版印刷板；和(g)任选地对在步骤(f)中获得的所述整理液处理过的板进行选自水冲洗、干燥和烘烤的至少一个额外处理步骤；特征在于所述整理溶液包括，基于整理液总重，0.01-15wt.％的亲水聚合物，其中所述亲水聚合物包括：(m1)伯、仲和/或叔氨基，(m2)选自-COOH、-SO3H、-PO2H2和PO3H2的酸基，和(m3)任选地烯化氧单元-(CHR1-CH2-O)P-，其中每个R1独立地表示H或-CH3，p为1-50的整数。
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公开(公告)号：CN101884014B
公开(公告)日：2013-09-18
申请号：CN200880118874.X
申请日：2008-11-21
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: G03F7/033 , B41C1/1008 , B41C1/1016 , B41C2201/02 , B41C2201/14 , B41C2210/02 , B41C2210/04 , B41C2210/06 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262 , B41C2210/266 , Y10S430/121
Abstract: 辐射敏感组合物和可成像元件包括在可成像层中的聚合物或非聚合物组分，该组分包括1H-四唑基团。非聚合物组分可以为可自由基聚合化合物。聚合物组分可以具有挂在主链上的1H-四唑基团。在负片型或正片型可成像元件中使用这些成分提供了高曝光速度和改进的可显影性，以提供具有改进的耐化学品性和耐印力的成像后或显影后元件，例如平板印版。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102317075A
公开(公告)日：2012-01-11
申请号：CN201080007877.3
申请日：2010-01-28
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: B41C1/1008 , B41C1/1016 , B41C2201/02 , B41C2201/14 , B41C2210/04 , B41C2210/06 , B41C2210/08 , B41C2210/10 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , G03F7/092 , G03F7/105 , Y10S430/117 , Y10S430/121 , Y10S430/145
Abstract: 阴图制版可成像元件可用于制备平版印刷印版。这些元件包含水溶性对比染料，所述染料的λmax在450至750nm范围内且在用于曝光的波长下的吸光率比所述元件中对辐射敏感的化合物的吸光率低10％。所述对比染料以足够的H-聚集存在，使得低于所述对比染料的整个吸收光谱的40％由非H-聚集形式的对比染料贡献。
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公开(公告)号：CN101228479B
公开(公告)日：2011-09-14
申请号：CN200680026706.9
申请日：2006-07-03
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: G03F7/027 , B41C1/1008 , B41C1/1016 , B41C2201/02 , B41C2201/14 , B41C2210/02 , B41C2210/04 , B41C2210/06 , B41C2210/20 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41M5/368 , B41M5/41 , B41M5/42 , B41M2205/40
Abstract: 一种射线敏感元件，其包括(a)基底，和(b)射线敏感涂层，所述涂层包含(i)至少一种选自光引发剂和敏化剂/共引发剂系统的组分，该组分吸收250-1，200nm波长的辐射；(ii)至少一种式(I)的低聚物A其中X1、X2和X3独立选自直链或环状C4-C12亚烷基和C6-C10亚芳基、杂环基、杂芳基及上述两种或多种的组合，R1、R2和R3独立选自(II)和(III)，其条件为(1)在R1、R2和R3的至少一个基团中，n＝0，和(2)在R1、R2和R3的至少一个基团中，n＞2，及(3)在式(III)中，至少一个基团R6不为H。
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公开(公告)号：CN101884014A
公开(公告)日：2010-11-10
申请号：CN200880118874.X
申请日：2008-11-21
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: G03F7/033 , B41C1/1008 , B41C1/1016 , B41C2201/02 , B41C2201/14 , B41C2210/02 , B41C2210/04 , B41C2210/06 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262 , B41C2210/266 , Y10S430/121
Abstract: 辐射敏感组合物和可成像元件包括在可成像层中的聚合物或非聚合物组分，该组分包括1H-四唑基团。非聚合物组分可以为可自由基聚合化合物。聚合物组分可以具有挂在主链上的1H-四唑基团。在负片型或正片型可成像元件中使用这些成分提供了高曝光速度和改进的可显影性，以提供具有改进的耐化学品性和耐印力的成像后或显影后元件，例如平板印版。
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公开(公告)号：CN102317075B
公开(公告)日：2014-05-07
申请号：CN201080007877.3
申请日：2010-01-28
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: B41C1/1008 , B41C1/1016 , B41C2201/02 , B41C2201/14 , B41C2210/04 , B41C2210/06 , B41C2210/08 , B41C2210/10 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , G03F7/092 , G03F7/105 , Y10S430/117 , Y10S430/121 , Y10S430/145
Abstract: 阴图制版可成像元件可用于制备平版印刷印版。这些元件包含水溶性对比染料，所述染料的λmax在450至750nm范围内且在用于曝光的波长下的吸光率比所述元件中对辐射敏感的化合物的吸光率低10％。所述对比染料以足够的H-聚集存在，使得低于所述对比染料的整个吸收光谱的40％由非H-聚集形式的对比染料贡献。
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公开(公告)号：CN101228479A
公开(公告)日：2008-07-23
申请号：CN200680026706.9
申请日：2006-07-03
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: G03F7/027 , B41C1/1008 , B41C1/1016 , B41C2201/02 , B41C2201/14 , B41C2210/02 , B41C2210/04 , B41C2210/06 , B41C2210/20 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41M5/368 , B41M5/41 , B41M5/42 , B41M2205/40
Abstract: 一种射线敏感元件，其包括(a)基底，和(b)射线敏感涂层，所述涂层包含(i)至少一种选自光引发剂和敏化剂/共引发剂系统的组分，该组分吸收250－1,200nm波长的辐射；(ii)至少一种式(I)的低聚物A，其中X1、X2和X3独立选自直链或环状C4－C12亚烷基和C6－C10亚芳基、杂环基、杂芳基及上述两种或多种的组合，R1、R2和R3独立选自(II)和(III)，其条件为(1)在R1、R2和R3的至少一个基团中，n＝0，和(2)在R1、R2和R3的至少一个基团中，n＞2，及(3)在式(III)中，至少一个基团R6不为H。
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