公开(公告)号：CN100474110C

公开(公告)日：2009-04-01

申请号：CN03811876.9

申请日：2003-05-22

Applicant: 伊斯曼柯达公司

Inventor： 陶烃 ,  黄建兵

IPC: G03F7/038 ,  C07C305/04 ,  C07C245/20

CPC classification number: B41C1/1008 ,  B41C2210/04 ,  B41C2210/06 ,  B41C2210/22 ,  B41C2210/24 ,  B41C2210/262 ,  B41C2210/266 ,  C07C245/20 ,  C07C305/06 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/038

Abstract: 一种用于成像光敏元件的产酸剂，所述产酸剂具有结构式(I)，(II)或(III)，式中：R1为取代或未取代的烃基或芳基；X是O，S或Se；Y是S，Se或Te；Ar1是取代或未取代的芳基；R2、R3和R4各自独立地为取代或未取代的烃基或芳基，或者R2，R3和R4中任意两个连接在一起形成环结构；并且R5和R6各自独立地选自取代或未取代的烃基或芳基，或者R5和R6彼此连接形成环结构。

公开(公告)号：CN119698356A

公开(公告)日：2025-03-25

申请号：CN202380058866.5

申请日：2023-07-27

Applicant: 伊斯曼柯达公司

Inventor： C·D·辛普森 ,  S·汉斯曼 ,  M·卡格利 ,  S·沃纳 ,  黄建兵

IPC: B41C1/10

Abstract: IR敏感平版印刷版前体使用独特的IR敏感图像记录层提供稳定的印出。该IR辐射敏感层包括：组分(1)自由基引发剂组合物；组分(2)可自由基聚合的组合物；和组分(3)结构(I)的变色化合物，其在芳族端基之间的共轭链中具有茚结构。诸如卤素基团之类的特定基团与该茚结构直接或间接连接。红外辐射敏感图像记录组合物和红外辐射敏感图像记录层还含有一种或更多种硼酸根离子。在红外成像之后，这些前体展现出合意的新鲜或初始的印出和黑暗储存后的印出。该前体可在机显影。

公开(公告)号：CN117098665A

公开(公告)日：2023-11-21

申请号：CN202280026080.0

申请日：2022-03-15

Applicant: 伊斯曼柯达公司

Inventor： C·辛普森 ,  S·汉斯曼 ,  S·沃纳 ,  黄建兵

IPC: B41C1/10

Abstract: IR敏感平版印版前体使用红外辐射敏感图像记录层中的独特的IR辐射敏感组合物提供稳定的印出图像。该IR辐射敏感组合物包含：(1)包含给电子剂的自由基引发剂组合物；(2)可自由基聚合的组合物；和(3)由结构(I)表示的变色化合物基团，其在芳族端基之间具有共轭碳链，其中R3表示烷基、芳基或杂芳基。该化合物还具有。在IR成像之后，‑这些前SO2‑R3体在新鲜时和黑暗储存之后都展现出合意的印出图像。可以将该前体脱机显影或在机显影。