公开(公告)号：CN100474110C

公开(公告)日：2009-04-01

申请号：CN03811876.9

申请日：2003-05-22

Applicant: 伊斯曼柯达公司

Inventor： 陶烃 ,  黄建兵

IPC: G03F7/038 ,  C07C305/04 ,  C07C245/20

CPC classification number: B41C1/1008 ,  B41C2210/04 ,  B41C2210/06 ,  B41C2210/22 ,  B41C2210/24 ,  B41C2210/262 ,  B41C2210/266 ,  C07C245/20 ,  C07C305/06 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/038

Abstract: 一种用于成像光敏元件的产酸剂，所述产酸剂具有结构式(I)，(II)或(III)，式中：R1为取代或未取代的烃基或芳基；X是O，S或Se；Y是S，Se或Te；Ar1是取代或未取代的芳基；R2、R3和R4各自独立地为取代或未取代的烃基或芳基，或者R2，R3和R4中任意两个连接在一起形成环结构；并且R5和R6各自独立地选自取代或未取代的烃基或芳基，或者R5和R6彼此连接形成环结构。