一种纳米ZnO的化学制备方法及装置

    公开(公告)号:CN114589152A

    公开(公告)日:2022-06-07

    申请号:CN202210199666.9

    申请日:2022-03-02

    Abstract: 本发明涉及纳米材料制造设备技术领域,具体公开了一种纳米ZnO的化学制备方法及装置,包括清洗筒、支撑柱、安装基座、电机、搅拌组件、观察板、排液组件和排氧化锌组件,每根支撑柱分别与清洗筒固定连接,并分别位于清洗筒的下方,每个安装基座分别与对应的支撑柱固定连接,且电机的输出端贯穿清洗筒并与搅拌组件固定连接,清洗筒具有开口,贯穿板与清洗筒固定连接,并嵌于开口的内部,排液组件与清洗筒连通,并位于清洗筒的外表壁,排氧化锌组件与清洗筒连通,并位于清洗筒的下端。以上结构的设置,可以减少人工对氧化锌的接触,同时在清洗筒内部,可以减少氧化锌的浪费。

    一种纳米材料氧化锌的制备方法及装置

    公开(公告)号:CN114455625A

    公开(公告)日:2022-05-10

    申请号:CN202210134813.4

    申请日:2022-02-14

    Abstract: 本发明涉及氧化锌制备技术领域,具体公开了一种纳米材料氧化锌的制备方法及装置,包括工作架、两块竖板、沉淀桶、清洗机构和热解箱,两块竖板均与工作架固定连接,沉淀桶均与两块竖板转动连接,清洗机构包括电机、盖板、两根连接杆、滚筒刷、安装块、多组刮除组件、管体和阀门,盖板与沉淀桶拆卸连接,安装块设置有多个凹槽,每个凹槽内均设置有刮除组件,每组刮除组件包括弹簧和第一刮片,弹簧设置在对应的凹槽内,弹簧的一端与安装块固定连接,弹簧的另一端与对应的第一刮片固定连接,管体与沉淀桶连通,阀门安装在管体上,热解箱与工作架固定连接,通过上述结构设置,以此能够更方便的对沉淀桶进行清洗。

    一种半导体结型ZnO薄膜沉积设备

    公开(公告)号:CN113957416B

    公开(公告)日:2024-01-23

    申请号:CN202111231325.7

    申请日:2021-10-22

    Inventor: 季旭 林丽君 赵栋

    Abstract: 本发明属于氧化物薄膜沉积设备技术领域,具体涉及一种半导体结型ZnO薄膜沉积设备,包括底板,底板上端固定连接有竖板,竖板前端上侧固定连接有箱体,箱体下端均有开口,箱体内侧顶部固定连接有喷淋器,喷淋器的进料管贯穿箱体上端,箱体内侧顶部设有气压传感器,底板上端固定连接有电动升降机构,电动升降机构上侧的升降端固定连接有能与箱体内壁密封滑动连接的基座,通过这种动态调节沉积空间大小的方式能够使沉积空间内的气压处于合理压力范围值内,避免气压过大或者过小而影响沉积效果,由于该气压调节方式不会向外部空间排放反应气体,因此不会浪费反应气体,同时也不会对外部环境造成污染。

    一种ZnO材料及其基本性质研究方法和应用

    公开(公告)号:CN114477993A

    公开(公告)日:2022-05-13

    申请号:CN202210081667.3

    申请日:2022-01-24

    Abstract: 本发明涉及锌的化合物技术领域,具体涉及一种ZnO材料及其基本性质研究方法和应用,ZnO材料按重量计,包括氧化锌85~95份、二氧化硅1~2份、二氧化钛0.5~2份、氧化铝0.2~1份、氧化钇0.1~0.4份、氧化铁0.1~0.5份和硫化锌2.5~5份;ZnO材料的制备方法包括按比例准备各种原材料,并将各种原材料进行粉碎得到粉体;将各种原材料粉体进行混合,混合过程中加入润滑剂,混合后进行球磨,制得球磨粉体;将球磨粉体烘干后进行预烧,制得预烧粉末;将预烧粉末压制成胚体,而后将胚体放置在900℃~1200℃下,保温3~6h,冷却后制得ZnO材料;以硫化锌与氧化钇作为烧结助剂,显著的降低了ZnO材料的电阻率。

    一种半导体结型ZnO薄膜沉积设备

    公开(公告)号:CN113957416A

    公开(公告)日:2022-01-21

    申请号:CN202111231325.7

    申请日:2021-10-22

    Inventor: 季旭 林丽君 赵栋

    Abstract: 本发明属于氧化物薄膜沉积设备技术领域,具体涉及一种半导体结型ZnO薄膜沉积设备,包括底板,底板上端固定连接有竖板,竖板前端上侧固定连接有箱体,箱体下端均有开口,箱体内侧顶部固定连接有喷淋器,喷淋器的进料管贯穿箱体上端,箱体内侧顶部设有气压传感器,底板上端固定连接有电动升降机构,电动升降机构上侧的升降端固定连接有能与箱体内壁密封滑动连接的基座,通过这种动态调节沉积空间大小的方式能够使沉积空间内的气压处于合理压力范围值内,避免气压过大或者过小而影响沉积效果,由于该气压调节方式不会向外部空间排放反应气体,因此不会浪费反应气体,同时也不会对外部环境造成污染。

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