一种透明陶瓷微流控芯片及其制备方法

    公开(公告)号:CN115304376A

    公开(公告)日:2022-11-08

    申请号:CN202210950810.8

    申请日:2022-08-09

    Inventor: 唐燕如 孙艳

    Abstract: 本发明公开了一种透明陶瓷微流控芯片及其制备方法,所述微流控芯片的基体为透明陶瓷,所述透明陶瓷的中间平面还设置有可吸收激光的物质或相成分,所述微流控芯片的微通道采用激光聚焦刻蚀加工法构建。步骤S1:选定物质或相成分;步骤S2:称量、球磨、烘干并过筛得到原料粉体一;步骤S3:称量、球磨、烘干并过筛得到原料粉体二;步骤S4:获得密实的陶瓷坯体;步骤S5:将所述陶瓷坯体放置于马弗炉中进行保温,得到陶瓷素坯;步骤S6:烧结,得到透明陶瓷;步骤S7:将所述透明陶瓷进行表面抛光处理后,进行激光聚焦刻蚀加工,激光聚焦于透明陶瓷的中间平面,所述中间平面的物质或相成分可吸收激光实现刻蚀加工,获得微通道构型的透明陶瓷微流控芯片。

    一种红外探测器、红外探测器的探测方法以及存储介质

    公开(公告)号:CN118099241A

    公开(公告)日:2024-05-28

    申请号:CN202410146917.6

    申请日:2024-02-01

    Abstract: 在本说明书提供的一种红外探测器、红外探测器的探测方法以及存储介质中,该红外探测器中包括衬底、菲涅尔波带片、缓冲层、吸收层、窗口层、上电极以及下电极,衬底底部设置有菲涅尔波带片,衬底上方设置有吸收层,吸收层与衬底之间还设置有用于缓解衬底对应的材料与吸收层对应的材料之间的晶格失配的缓冲层,缓冲层上设置有下电极,吸收层上设置有上电极,吸收层与上电极之间设置有用于形成吸收层与上电极之间的欧姆接触的窗口层,入射光线经过菲涅尔波带片的会聚并通过衬底以及缓冲层的透射,聚焦到吸收层,再通过吸收层对其进行吸收并转换成空穴电子对,通过空穴电子对中的空穴以及电子的移动来形成电信号。

    一种透明陶瓷微流控芯片及其制备方法

    公开(公告)号:CN115304376B

    公开(公告)日:2023-04-18

    申请号:CN202210950810.8

    申请日:2022-08-09

    Inventor: 唐燕如 孙艳

    Abstract: 本发明公开了一种透明陶瓷微流控芯片及其制备方法,所述微流控芯片的基体为透明陶瓷,所述透明陶瓷的中间平面还设置有可吸收激光的物质或相成分,所述微流控芯片的微通道采用激光聚焦刻蚀加工法构建。步骤S1:选定物质或相成分;步骤S2:称量、球磨、烘干并过筛得到原料粉体一;步骤S3:称量、球磨、烘干并过筛得到原料粉体二;步骤S4:获得密实的陶瓷坯体;步骤S5:将所述陶瓷坯体放置于马弗炉中进行保温,得到陶瓷素坯;步骤S6:烧结,得到透明陶瓷;步骤S7:将所述透明陶瓷进行表面抛光处理后,进行激光聚焦刻蚀加工,激光聚焦于透明陶瓷的中间平面,所述中间平面的物质或相成分可吸收激光实现刻蚀加工,获得微通道构型的透明陶瓷微流控芯片。

    一种微反应器的加工方法

    公开(公告)号:CN115055137B

    公开(公告)日:2024-02-06

    申请号:CN202210932361.4

    申请日:2022-08-04

    Abstract: 本发明公开了一种微反应器的加工方法,包括以下步骤:步骤S1:将透明陶瓷作为微反应器基片;步骤S2:利用飞秒激光微加工技术在透明陶瓷微反应器基片内部形成改性图样;步骤S3:在透明陶瓷微反应器基片内部形成微通道;步骤S4:利用微通道抛光技术对微通道进行抛光,获得微通道内壁光洁的透明陶瓷微反应器基片;步骤S5:将微通道内壁光洁的透明陶瓷微反应器基片保温退火处理,得到透明陶瓷微反应器。本发明采用透明陶瓷作为微反应器的基体材料,同时利用飞秒激光微加工技术在透明陶瓷微反应器基体内部形成微反应通道。制备的透明陶瓷微反应器,可承受5Mpa以上的流体压力以及‑50℃至1500℃的使用温度,同时可承受酸碱以及有机物腐蚀。

    一种玻璃陶瓷微反应器的制备方法及微反应器

    公开(公告)号:CN115140942A

    公开(公告)日:2022-10-04

    申请号:CN202210892599.9

    申请日:2022-07-27

    Abstract: 本发明属于微反应器技术领域,公开了一种玻璃陶瓷微反应器的制备方法及微反应器,将玻璃器具加工成玻璃粉,形核剂采用含钙的氧化物或碳酸盐以及含镁的氧化物或碳酸盐,取玻璃粉体与形核剂的混合粉体称量质量的一半将其均匀分布于模具中并施以单轴压力后,再将准备好的模板放置于模具中并将剩余的一半混合粉体均匀覆盖模板,而后再对模具中的模板与粉料施以单轴压力后将坯体进行冷等静压处理获得密实的坯体;将坯体放置于空气气氛的马弗炉中,设置预烧温度制度去除预埋于坯体中的模板材料,在坯体中形成微通道;设置烧结温度制度,烧结得到玻璃陶瓷微反应器。本发明的微通道通过牺牲模板法形成,具有烧制温度低、物化性能稳定、机械强度高等优点。

    一种分子特异性无标记内窥成像系统

    公开(公告)号:CN115886696A

    公开(公告)日:2023-04-04

    申请号:CN202211543671.3

    申请日:2022-12-01

    Abstract: 本发明公开了一种分子特异性无标记内窥成像系统,红外可调谐脉冲光照明装置激发样品特定分子的光热信号,光热信号与样品相互作用产生折射率或者体积的变化,在可见光阵列探测器下表现为样品散射信号的变化,通过内窥成像装置结合可见光阵列探测器进行记录。根据红外可调谐脉冲光照明的有无分别生成热帧和冷帧。最后所得的分子特异性无标记信号是由热帧和冷帧相减得到。通过调谐红外波长可以对不同的分子产生光热作用,呈现不同分子的分布图。本发明可以实现计算机分屏实时显示特异性光热图像与正常的可见光照明内窥图像。可以实现生物组织的边界区分,病变区域的准确诊断和识别等多种功能,简化传统的取样、切片、染色、成像的内窥诊断过程。

    偏振转换超表面结构光超分辨显微芯片及成像系统、方法

    公开(公告)号:CN115629436A

    公开(公告)日:2023-01-20

    申请号:CN202211161213.3

    申请日:2022-09-23

    Abstract: 本发明公开了一种偏振转换超表面结构光超分辨显微芯片及成像系统、方法,该芯片基于两面平行的光透明基底,该基底两面抛光,其中一面作为光场调制面,在波导表面制备超表面光场调制结构,利用超表面对电磁场的自由灵活控制特性,可以实现对耦合光场的偏振控制和耦合效率的提高。由于不需要传统的偏振旋转器件,相比以往提出的结构光超分辨显微芯片,基于该超表面的结构光超分辨显微芯片可以实现更高的集成度、更快的成像速度以及更高的能量利用率。

    一种微反应器的加工方法

    公开(公告)号:CN115055137A

    公开(公告)日:2022-09-16

    申请号:CN202210932361.4

    申请日:2022-08-04

    Abstract: 本发明公开了一种微反应器的加工方法,包括以下步骤:步骤S1:将透明陶瓷作为微反应器基片;步骤S2:利用飞秒激光微加工技术在透明陶瓷微反应器基片内部形成改性图样;步骤S3:在透明陶瓷微反应器基片内部形成微通道;步骤S4:利用微通道抛光技术对微通道进行抛光,获得微通道内壁光洁的透明陶瓷微反应器基片;步骤S5:将微通道内壁光洁的透明陶瓷微反应器基片保温退火处理,得到透明陶瓷微反应器。本发明采用透明陶瓷作为微反应器的基体材料,同时利用飞秒激光微加工技术在透明陶瓷微反应器基体内部形成微反应通道。制备的透明陶瓷微反应器,可承受5Mpa以上的流体压力以及‑50℃至1500℃的使用温度,同时可承受酸碱以及有机物腐蚀。

    一种玻璃陶瓷微反应器的制备方法及微反应器

    公开(公告)号:CN115140942B

    公开(公告)日:2024-03-12

    申请号:CN202210892599.9

    申请日:2022-07-27

    Abstract: 本发明属于微反应器技术领域,公开了一种玻璃陶瓷微反应器的制备方法及微反应器,将玻璃器具加工成玻璃粉,形核剂采用含钙的氧化物或碳酸盐以及含镁的氧化物或碳酸盐,取玻璃粉体与形核剂的混合粉体称量质量的一半将其均匀分布于模具中并施以单轴压力后,再将准备好的模板放置于模具中并将剩余的一半混合粉体均匀覆盖模板,而后再对模具中的模板与粉料施以单轴压力后将坯体进行冷等静压处理获得密实的坯体;将坯体放置于空气气氛的马弗炉中,设置预烧温度制度去除预埋于坯体中的模板材料,在坯体中形成微通道;设置烧结温度制度,烧结得到玻璃陶瓷微反应器。本发明的微通道通过牺牲模板法形成,具有烧制温度低、物化性能稳定、机械强度高等优点。

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