一种用于193nm水浸式光刻胶顶层涂层的聚合物及其制备方法和顶层涂层组合物

    公开(公告)号:CN116003681A

    公开(公告)日:2023-04-25

    申请号:CN202211642487.4

    申请日:2022-12-20

    Abstract: 本发明涉及光刻胶技术领域,具体涉及一种用于193nm水浸式光刻胶顶层涂层的聚合物及其制备方法和顶层涂层组合物,所述的聚合物具有如下通式:x、y、z分别为聚合物重复单元的质量分数,x选自80‑94%,y选自5‑15%,z选自1‑10%,聚合物分子量选自2000‑10000Da,分子量分散系数选自1.0‑3.0。所述的制备方法为:将单体A、单体B、单体C、自由基引发剂混合后溶解在电子级反应溶剂中制备混合溶液,再将所述混合溶液滴加至电子级反应溶剂中,控制反应温度和反应时间,反应完毕,将反应体系滴加至水中造粒得到所述的聚合物。用该聚合物配制的顶层涂层组合物具有较高的接触角。

    一种三烯类液晶单体的制备方法

    公开(公告)号:CN104844428B

    公开(公告)日:2016-08-24

    申请号:CN201510112264.0

    申请日:2015-03-13

    Abstract: 本发明涉及一种三烯类液晶单体的制备方法,本方法以烷基2,3?二氟苯、烷氧基2,3?二氟苯、1?溴?4?烷基2,3?二氟苯或1?溴?4?烷氧基2,3?二氟苯为原料,经过金属化或格氏反应与环己酮类化合物反应,再经羟基保护,Wittig反应,烯醚水解,羟基脱保护,醇脱水,制成中间体再经Wittig反应,双键异构化反应得到最终产品,其中烯醚水解,羟基脱保护,醇脱水三步反应可以并为一步进行,克服了此类化合物常规制备方法中环己烯酮进行Wittig反应收率极低的缺点,提高了产品的收率,降低了生产成本,有利于规模化生产,具有很高的应用前景。

    一种用于电子束光刻胶的聚合物及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN119161524B

    公开(公告)日:2025-04-08

    申请号:CN202411649152.4

    申请日:2024-11-19

    Abstract: 本发明涉及光刻胶技术领域,具体涉及一种用于电子束光刻胶的聚合物及其制备方法和应用,所述聚合物具有如下结构式:#imgabs0#;x、y、z分别为所述聚合物重复单元的质量分数,x选自60‑74%,y选自25‑35%,z选自1‑10%,所述聚合物重均分子量为2000‑20000Da,分子量分散系数为1.0‑3.0。所述制备方法为:将单体A、单体B、单体C、自由基引发剂混合后溶解在电子级反应溶剂中制备混合溶液,再将所述混合溶液滴加至电子级反应溶剂中,控制反应温度和反应时间,反应完毕,将反应体系滴加至不良溶剂中造粒得到所述的聚合物。用该聚合物配制的光刻胶组合物具有高分辨率、高灵敏度。

    一种光刻胶单体化合物及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN117362164A

    公开(公告)日:2024-01-09

    申请号:CN202311665974.7

    申请日:2023-12-07

    Abstract: 本发明涉及光刻胶材料技术领域,具体涉及一种光刻胶单体化合物及其制备方法和应用,所述光刻胶单体化合物为: ;其中,R为 、 、 、中的任意一种。所述光刻胶单体化合物的制备方法为:在第一溶剂中,间甲氧基苯酚与维尔斯迈尔试剂反应后,水解得到中间体2‑甲氧基‑4‑羟基苯甲醛;在第二溶剂中,2‑甲氧基‑4‑羟基苯甲醛与羟基保护试剂反应,得到酚羟基保护的中间体;在第三溶剂中,酚羟基保护的中间体与wittig试剂进行反应得到目标产品。所述光刻胶单体化合物应用在光刻胶中,光刻胶的敏感度和成像分辨率较高,光刻胶性能优良;而且制备方法中,所用原料价格便宜容易购买,收率较高,反应条件温和,适合工业化。

    用于光刻胶中光酸产生剂浸出量测定的装置及方法

    公开(公告)号:CN114994260A

    公开(公告)日:2022-09-02

    申请号:CN202210797276.1

    申请日:2022-07-06

    Abstract: 本发明涉及用于光刻胶中光酸产生剂浸出量测定的装置及方法,所述的装置包括承载盘、软垫片、压盖和输水泵,所述承载盘的上表面设有通水凹槽,所述软垫片设有通水孔,所述通水孔与所述通水凹槽的上表面形状完全相同,所述软垫片置于所述承载盘的上表面,所述通水孔与所述通水凹槽位置重合,所述软垫片的上表面放置晶圆,晶圆涂有光刻胶的一面与所述软垫片贴合,所述承载盘上设有进水口和出水口,所述通水凹槽的两端分别与所述进水口和出水口相通,所述输水泵通过输水管与所述进水口相通,所述晶圆的上端压合所述压盖。所述的装置结构简单,可以给光刻胶中光酸产生剂浸出量的测定带来极大的便利。

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