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公开(公告)号：CN111785603A
公开(公告)日：2020-10-16
申请号：CN202010696231.6
申请日：2020-07-20
Applicant: 中国计量大学
IPC: H01J37/18 , H01J37/32 , H01L21/02 , H01L21/67 , H01L21/683
Abstract: 本发明公开了一种微波等离子清洗机，包括上料装置、等离子清洗本体，所述的上料装置包括门把手，电磁门、观察窗、产品支架、载物板、真空吸盘、导轨，所述的等离子清洗本体包括外壳、微波屏蔽板、微波屏蔽罩，石英腔体、微波本体、微波腔、电源、PLC、气体流量控制器、三通配管、真空计、电风扇、微波开关、电磁门开关，控制面板，底座，石英腔体安装在微波屏蔽罩内部，微波腔固定在微波屏蔽板上，微波本体安装在微波腔上部，三通配管固定于出气法兰，与石英腔体相通，真空计固定在三通配管上部，气体流量控制器通过固定板固定在底座上。将待清洗产品放置在产品架上，送入石英腔体，对电子产品进行清洗，清洗效率高。
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公开(公告)号：CN111785603B
公开(公告)日：2023-06-13
申请号：CN202010696231.6
申请日：2020-07-20
Applicant: 中国计量大学
IPC: H01J37/18 , H01J37/32 , H01L21/02 , H01L21/67 , H01L21/683
Abstract: 本发明公开了一种微波等离子清洗机，包括上料装置、等离子清洗本体，所述的上料装置包括门把手，电磁门、观察窗、产品支架、载物板、真空吸盘、导轨，所述的等离子清洗本体包括外壳、微波屏蔽板、微波屏蔽罩，石英腔体、微波本体、微波腔、电源、PLC、气体流量控制器、三通配管、真空计、电风扇、微波开关、电磁门开关，控制面板，底座，石英腔体安装在微波屏蔽罩内部，微波腔固定在微波屏蔽板上，微波本体安装在微波腔上部，三通配管固定于出气法兰，与石英腔体相通，真空计固定在三通配管上部，气体流量控制器通过固定板固定在底座上。将待清洗产品放置在产品架上，送入石英腔体，对电子产品进行清洗，清洗效率高。
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公开(公告)号：CN112490145A
公开(公告)日：2021-03-12
申请号：CN202011222680.3
申请日：2020-11-05
Applicant: 中国计量大学
Abstract: 本发明公开了一种真空脱泡设备，包括安装架，进料装置，脱泡装置，所述进料装置包括载料板，液压缸，导轨，盛料容器，所述脱泡装置包括内腔，外腔，盲孔法兰，进气法兰，出气法兰，热电偶，所述液压缸固定于安装架底部，导轨固定于液压缸的活塞上，所述进气法兰与出气法兰均置于外腔的侧面板，所述内腔及外腔均固定在安装架上。将半导体的常用材料硅片在贴合过程中所产生的堆叠结构放置于盛料容器中，利用进料装置将其送入脱泡装置，对脱泡装置抽真空，充入惰性气体，然后加热去除硅片贴合面的气泡，整个脱泡过程高效有序，装置简便，加热温度高，密封性好，可操作性强。
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公开(公告)号：CN112490145B
公开(公告)日：2024-08-13
申请号：CN202011222680.3
申请日：2020-11-05
Applicant: 中国计量大学
Abstract: 本发明公开了一种真空脱泡设备，包括安装架，进料装置，脱泡装置，所述进料装置包括载料板，液压缸，导轨，盛料容器，所述脱泡装置包括内腔，外腔，盲孔法兰，进气法兰，出气法兰，热电偶，所述液压缸固定于安装架底部，导轨固定于液压缸的活塞上，所述进气法兰与出气法兰均置于外腔的侧面板，所述内腔及外腔均固定在安装架上。将半导体的常用材料硅片在贴合过程中所产生的堆叠结构放置于盛料容器中，利用进料装置将其送入脱泡装置，对脱泡装置抽真空，充入惰性气体，然后加热去除硅片贴合面的气泡，整个脱泡过程高效有序，装置简便，加热温度高，密封性好，可操作性强。
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公开(公告)号：CN112853317B
公开(公告)日：2024-01-23
申请号：CN202110001842.9
申请日：2021-01-04
Applicant: 中国计量大学
IPC: C23C16/455 , C23C16/458 , C23C16/46
Abstract: 本发明公开了一种ALD镀膜设备，包括进料装置、镀膜装置，所述进料装置包括升降液压缸、密封圆板，电机安装槽，电机，转轴，载料台，样品槽，弹簧，屏蔽罩，弹簧固定板，所述镀膜装置包括外腔体，内腔体，前躯体存储器，导管，匀气圆板，进气法兰，出气法兰，所述升降液压缸安装在外腔体底面，密封圆板固定在升降液压缸的活塞杆上，电机安装槽与密封圆板固定连接，电机固定在电机安装槽内部，电机转子通过联轴器与转轴相连，载料台固定在转轴上，所述前躯体存储器固定在外腔体侧面，进气法兰和出气法兰均安装在外腔体侧面，与外腔体和内腔体侧面的通孔相连。将待镀样品固定在样品槽内部，通过电机旋转依次对样品进行如下循环操作：通入前躯体A,吹扫氮气，通入前躯体B,吹扫氮气，整个镀膜过程高效有序。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112563166B
公开(公告)日：2024-07-16
申请号：CN202011389707.8
申请日：2020-12-01
Applicant: 中国计量大学
Abstract: 本发明公开了一种真空脱泡装置，真空脱泡装置包括进料装置、脱泡装置、温度显示仪，所述进料装置包括水平导轨、竖直导轨、侧面板、驱动液压缸、升降液压缸、双层圆形密封板、输料架，盛料容器、滑动板、压力传感器，所述脱泡装置包括矩形腔体、载料台、底座、加热器、外壳、进气法兰、出气法兰，所述驱动液压缸固定在水平导轨的侧面板上，升降液压缸固定在竖直导轨的水平面板上，将贴合的硅片放置于盛料容器中，在真空和高温环境下去除气泡。整个脱泡过程高效有序，操作简便，实用性强。
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公开(公告)号：CN113070288B
公开(公告)日：2022-11-22
申请号：CN202110331633.0
申请日：2021-03-26
Applicant: 中国计量大学
Abstract: 本发明公开了一种微波等离子体去胶设备，包括微波装置、去胶装置、机架，进气法兰、抽气法兰、真空计，所述微波装置包括微波模块、微波屏蔽罩、石英腔，所述去胶装置包括主腔体、转接装置、高密金属网组合件、加热盘、腔门，腔门通过铰链与主腔体相连，主腔体固定在机架上，微波模块与微波屏蔽罩相连，石英腔位于微波屏蔽罩内，通过法兰固定在主腔体上表面，转接装置与石英腔通过法兰相连，进气法兰位于微波屏蔽罩上表面，抽气法兰位于主腔体下表面。将样品放置于加热盘上，关闭腔门，抽真空，充入气体，进行微波等离子体去胶，可根据样品胶量的多少调节到达样品表面的等离子体强度，低损伤、去胶效率高。
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公开(公告)号：CN113070288A
公开(公告)日：2021-07-06
申请号：CN202110331633.0
申请日：2021-03-26
Applicant: 中国计量大学
Abstract: 本发明公开了一种微波等离子体去胶设备，包括微波装置、去胶装置、机架，进气法兰、抽气法兰、真空计，所述微波装置包括微波模块、微波屏蔽罩、石英腔，所述去胶装置包括主腔体、转接装置、高密金属网组合件、加热盘、腔门，腔门通过铰链与主腔体相连，主腔体固定在机架上，微波模块与微波屏蔽罩相连，石英腔位于微波屏蔽罩内，通过法兰固定在主腔体上表面，转接装置与石英腔通过法兰相连，进气法兰位于微波屏蔽罩上表面，抽气法兰位于主腔体下表面。将样品放置于加热盘上，关闭腔门，抽真空，充入气体，进行微波等离子体去胶，可根据样品胶量的多少调节到达样品表面的等离子体强度，低损伤、去胶效率高。
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公开(公告)号：CN112853317A
公开(公告)日：2021-05-28
申请号：CN202110001842.9
申请日：2021-01-04
Applicant: 中国计量大学
IPC: C23C16/455 , C23C16/458 , C23C16/46
Abstract: 本发明公开了一种ALD镀膜设备，包括进料装置、镀膜装置，所述进料装置包括升降液压缸、密封圆板，电机安装槽，电机，转轴，载料台，样品槽，弹簧，屏蔽罩，弹簧固定板，所述镀膜装置包括外腔体，内腔体，前躯体存储器，导管，匀气圆板，进气法兰，出气法兰，所述升降液压缸安装在外腔体底面，密封圆板固定在升降液压缸的活塞杆上，电机安装槽与密封圆板固定连接，电机固定在电机安装槽内部，电机转子通过联轴器与转轴相连，载料台固定在转轴上，所述前躯体存储器固定在外腔体侧面，进气法兰和出气法兰均安装在外腔体侧面，与外腔体和内腔体侧面的通孔相连。将待镀样品固定在样品槽内部，通过电机旋转依次对样品进行如下循环操作：通入前躯体A,吹扫氮气，通入前躯体B,吹扫氮气，整个镀膜过程高效有序。
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公开(公告)号：CN112563166A
公开(公告)日：2021-03-26
申请号：CN202011389707.8
申请日：2020-12-01
Applicant: 中国计量大学
Abstract: 本发明公开了一种真空脱泡装置及方法，包括进料装置、脱泡装置、温度显示仪，所述进料装置包括水平导轨、竖直导轨、侧面板、驱动液压缸、升降液压缸、双层圆形密封板、输料架，盛料容器、滑动板、压力传感器，所述脱泡装置包括矩形腔体、载料台、底座、加热器、外壳、进气法兰、出气法兰，所述驱动液压缸固定在水平导轨的侧面板上，升降液压缸固定在竖直导轨的水平面板上，将贴合的硅片放置于盛料容器中，在真空和高温环境下去除气泡。整个脱泡过程高效有序，操作简便，实用性强。
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