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公开(公告)号:CN113070288B
公开(公告)日:2022-11-22
申请号:CN202110331633.0
申请日:2021-03-26
Applicant: 中国计量大学
Abstract: 本发明公开了一种微波等离子体去胶设备,包括微波装置、去胶装置、机架,进气法兰、抽气法兰、真空计,所述微波装置包括微波模块、微波屏蔽罩、石英腔,所述去胶装置包括主腔体、转接装置、高密金属网组合件、加热盘、腔门,腔门通过铰链与主腔体相连,主腔体固定在机架上,微波模块与微波屏蔽罩相连,石英腔位于微波屏蔽罩内,通过法兰固定在主腔体上表面,转接装置与石英腔通过法兰相连,进气法兰位于微波屏蔽罩上表面,抽气法兰位于主腔体下表面。将样品放置于加热盘上,关闭腔门,抽真空,充入气体,进行微波等离子体去胶,可根据样品胶量的多少调节到达样品表面的等离子体强度,低损伤、去胶效率高。
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公开(公告)号:CN113070288A
公开(公告)日:2021-07-06
申请号:CN202110331633.0
申请日:2021-03-26
Applicant: 中国计量大学
Abstract: 本发明公开了一种微波等离子体去胶设备,包括微波装置、去胶装置、机架,进气法兰、抽气法兰、真空计,所述微波装置包括微波模块、微波屏蔽罩、石英腔,所述去胶装置包括主腔体、转接装置、高密金属网组合件、加热盘、腔门,腔门通过铰链与主腔体相连,主腔体固定在机架上,微波模块与微波屏蔽罩相连,石英腔位于微波屏蔽罩内,通过法兰固定在主腔体上表面,转接装置与石英腔通过法兰相连,进气法兰位于微波屏蔽罩上表面,抽气法兰位于主腔体下表面。将样品放置于加热盘上,关闭腔门,抽真空,充入气体,进行微波等离子体去胶,可根据样品胶量的多少调节到达样品表面的等离子体强度,低损伤、去胶效率高。
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