一种增强电子束流均匀性的装置

    公开(公告)号:CN102097265B

    公开(公告)日:2012-07-11

    申请号:CN201010617898.9

    申请日:2010-12-31

    Abstract: 本发明涉及一种增强电子束流均匀性的装置,属于空间应用技术领域。本发明所述的一种增强电子束流均匀性的装置为电子散射网,所述电子散射网设置在距离产生散射型低能电子流的设备的发射口30~70mm处,电子散射网中孔隙的直径为0.1~0.5mm,电子散射网采用金属材料制成;散射型低能电子流的设备为电子枪时,将电子枪中的灯丝通过固定架固定在石棉座上。使用本发明的电子散射网,可使散射型低能电子流的设备发射出的电子束流散射面积增大大,电子束流均匀性增强,使用本发明的石棉座固定后的电子枪的灯丝不易发生形变。

    一种增强电子束流均匀性的装置

    公开(公告)号:CN102097265A

    公开(公告)日:2011-06-15

    申请号:CN201010617898.9

    申请日:2010-12-31

    Abstract: 本发明涉及一种增强电子束流均匀性的装置,属于空间应用技术领域。本发明所述的一种增强电子束流均匀性的装置为电子散射网,所述电子散射网设置在距离产生散射型低能电子流的设备的发射口30~70mm处,电子散射网中孔隙的直径为0.1~0.5mm,电子散射网采用金属材料制成;散射型低能电子流的设备为电子枪时,将电子枪中的灯丝通过固定架固定在石棉座上。使用本发明的电子散射网,可使散射型低能电子流的设备发射出的电子束流散射面积增大大,电子束流均匀性增强,使用本发明的石棉座固定后的电子枪的灯丝不易发生形变。

    一种材料辐射诱导电导率参数的测量装置

    公开(公告)号:CN102147431A

    公开(公告)日:2011-08-10

    申请号:CN201010617912.5

    申请日:2010-12-31

    Abstract: 本发明涉及一种材料辐射诱导电导率参数的测量装置,属于空间应用技术领域。所述装置包括上盖、上电极、下电极、绝缘层和底座;上盖和底座连接构成装置的接地外壳,在外壳中,上电极位于下电极上方,上、下电极与上盖、底座之间设有绝缘层,上、下电极之间安放需测试的材料,材料的上、下表面分别与上、下电极相接触;上盖、上电极、下电极、绝缘层和底座固定连接,有正对材料的通孔贯穿上盖、上电极以及上盖和上电极之间的绝缘层,通孔的面积小于材料面积。通过所述装置,可测得材料在电子环境下的电流和电压,再通过公式δ=l·I/S/V即可计算得到材料的辐射诱导电导率,为评价材料在空间中的使用性能提供了方便快捷的装置和方法。

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