芯片级底部填充胶用二氧化硅填料及其制备方法与应用

    公开(公告)号:CN115818652A

    公开(公告)日:2023-03-21

    申请号:CN202211477172.9

    申请日:2022-11-23

    Abstract: 本发明涉及一种芯片级底部填充胶用二氧化硅填料及其制备方法与应用,所述制备方法包括如下步骤:混合助溶剂溶液与硅源化合物,得到溶液A;混合催化剂水溶液与所得溶液A,得到悬浊液;固液分离所得悬浊液,干燥后,得到粉体A;煅烧所得粉体A,得到所述芯片级SiO2填料。本发明所述制备方法制备得到的芯片级二氧化硅填料的纯度高、球形度高、杂质离子含量低,并且粒径分布满足倒装芯片封装的要求。并且,通过助溶剂、催化剂以及硅源化合物配比的调控,制备得到的二氧化硅的平均粒径和切断点可以得到控制,无需后续的分级、筛分和级配工艺操作。

    两性离子液体硅烷偶联剂、合成方法及其应用

    公开(公告)号:CN113512058A

    公开(公告)日:2021-10-19

    申请号:CN202110914812.7

    申请日:2021-08-10

    Abstract: 本发明公开了一种两性离子液体硅烷偶联剂、制备及其应用。本发明通过硅氧烷基团供体、阴离子供体与阳离子供体反应制备一系列两性离子液体硅烷偶联剂,克服了传统离子液体含有卤素粒子等作为平衡阴离子,导致离子迁移,电导率极高的难题,满足无卤素电子封装材料的性能要求。本发明提供的两性离子液体硅烷偶联剂具有低挥发性,通过共价键连接阴阳离子,分子中不含游离态的平衡阴阳离子,整体呈电中性,在电势梯度中不会发生离子迁移,在底部填充胶中使用不会造成电荷迁移。本发明提供的两性离子液体硅烷偶联剂对二氧化硅进行表面修饰后,能够显著增强二氧化硅与有机树脂的相容性,降低二氧化硅填充有机树脂的粘度。

    芯片级底部填充胶用二氧化硅填料及其制备方法与应用

    公开(公告)号:CN115818652B

    公开(公告)日:2024-12-13

    申请号:CN202211477172.9

    申请日:2022-11-23

    Abstract: 本发明涉及一种芯片级底部填充胶用二氧化硅填料及其制备方法与应用,所述制备方法包括如下步骤:混合助溶剂溶液与硅源化合物,得到溶液A;混合催化剂水溶液与所得溶液A,得到悬浊液;固液分离所得悬浊液,干燥后,得到粉体A;煅烧所得粉体A,得到所述芯片级SiO2填料。本发明所述制备方法制备得到的芯片级二氧化硅填料的纯度高、球形度高、杂质离子含量低,并且粒径分布满足倒装芯片封装的要求。并且,通过助溶剂、催化剂以及硅源化合物配比的调控,制备得到的二氧化硅的平均粒径和切断点可以得到控制,无需后续的分级、筛分和级配工艺操作。

    两性离子液体硅烷偶联剂、合成方法及其应用

    公开(公告)号:CN113512058B

    公开(公告)日:2023-10-03

    申请号:CN202110914812.7

    申请日:2021-08-10

    Abstract: 本发明公开了一种两性离子液体硅烷偶联剂、制备及其应用。本发明通过硅氧烷基团供体、阴离子供体与阳离子供体反应制备一系列两性离子液体硅烷偶联剂,克服了传统离子液体含有卤素粒子等作为平衡阴离子,导致离子迁移,电导率极高的难题,满足无卤素电子封装材料的性能要求。本发明提供的两性离子液体硅烷偶联剂具有低挥发性,通过共价键连接阴阳离子,分子中不含游离态的平衡阴阳离子,整体呈电中性,在电势梯度中不会发生离子迁移,在底部填充胶中使用不会造成电荷迁移。本发明提供的两性离子液体硅烷偶联剂对二氧化硅进行表面修饰后,能够显著增强二氧化硅与有机树脂的相容性,降低二氧化硅填充有机树脂的粘度。

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