一种氟化钇深紫外双折射晶体的生长方法和应用

    公开(公告)号:CN118996600A

    公开(公告)日:2024-11-22

    申请号:CN202411226897.X

    申请日:2024-09-03

    Abstract: 本发明涉及一种氟化钇深紫双折射晶体的生长方法和应用。该晶体的化学式为YF3,分子量为145.90,晶体为正交晶系,空间群为Pnma,晶胞参数a=6.3537(7) Å,b=6.8545(7) Å,c=4.3953(4) Å,β=90,Z=4,单胞体积V=191.42 Å3。采用真空条件生长晶体;通过本发明所述方法获得的氟化钇深紫双折射晶体,可用于制作格兰型棱镜、光分离偏振器等偏振分束棱镜和光隔离器、环形器、光束位移器等光学元件,在光学和通讯领域有重要应用;在1064 nm处双折射为0.051,双折射是MgF2的4倍。

    化合物羟基氟化硼酸铵和羟基氟化硼酸铵双折射晶体及制备方法和用途

    公开(公告)号:CN116121869B

    公开(公告)日:2024-11-12

    申请号:CN202310154647.9

    申请日:2023-02-23

    Abstract: 本发明提供一种化合物羟基氟化硼酸铵双折射晶体及制备方法和用途,所述化合物的化学式为(NH4)2B3O3F4(OH),分子量为209.52,采用水热法或室温溶液法制成,属于单斜晶系,空间群为C2/c,晶胞参数为a=20.151(9)Å,b=7.770(3)Å,c=11.519(5)Å,α=90°,β=117.225(5)°,γ=90°,单胞体积为1603.7(12)Å3,采用水热法或室温溶液法生长晶体,通过该方法获得的(NH4)2B3O3F4(OH)双折射晶体,紫外截止边低于200 nm,双折射率为0.049@1064 nm,该晶体的化学稳定性良好,能够用于制作各种用途的偏光棱镜,相位延迟器件和电光调制器件,例如,格兰棱镜、偏振分束器、补偿器、光隔离器环形器和光学调制器等,在光学和通讯领域有重要作用。

    一种系列硫代磷酸盐中远红外非线性光学晶体及制备方法和应用

    公开(公告)号:CN118854458A

    公开(公告)日:2024-10-29

    申请号:CN202410891439.1

    申请日:2024-07-04

    Abstract: 本发明涉及一种系列硫代磷酸盐中远红外非线性光学晶体,该晶体分子通式为ACaPS4,其中A=Li或Na,化学式为LiCaPS4,分子量分为206.23,为硫磷钙锂单晶颗粒,晶系为正交晶系,结晶于非中心对称空间群Ama2,晶胞参数a=9.780(8)Å,b=9.674(7)Å,c=6.215(3)Å,Z=4,单胞体积V=588.0(7)Å3;化学式为NaCaPS4,分子量为222.28,为硫磷钙钠单晶颗粒,晶系为单斜晶系,结晶于非中心对称空间群P21,晶胞参数a=6.4417(18)Å,b=6.5464(18)Å,c=7.952(2)Å,β=105.800(11)°,Z=2,单胞体积V=322.67(16)Å3;采用真空条件下进行高温熔融自发反应;所获得的晶体的纯样XRD图与理论值吻合;LiCaPS4和NaCaPS4的光学带隙分别为3.82 eV和3.78 eV,二次谐波响应分别为0.6×AGS和0.50×AGS,在高功率红外激光系统中具有重要的应用价值。

    化合物六羟基氯四硼酸铯和六羟基氯四硼酸铯双折射晶体及制备方法和用途

    公开(公告)号:CN114920257B

    公开(公告)日:2024-03-19

    申请号:CN202210472500.X

    申请日:2022-04-29

    Abstract: 本发明涉及一种化合物六羟基氯四硼酸铯和六羟基氯四硼酸铯双折射晶体及制备方法和用途,该化合物的分子式为Cs[B(OH)3][B3O3(OH)3]Cl,分子量为361.65,采用温和的溶剂蒸发法制成,该晶体化学式为Cs[B(OH)3][B3O3(OH)3]Cl,分子量为361.65,属于单斜晶系,空间群是P21/c,晶胞参数a=8.3917(3)Å,b=11.9993(4)Å,c=12.7815(4)Å,β=127.856(2),V=1016.18(6)Å3,Z=4。其紫外透过截止边为180 nm,双折射率约为0.123(532 nm)。采用温和的室温溶液法或水热法生长晶体,通过本发明所述方法获得的六羟基氯四硼酸铯双折射晶体机械硬度适中,易于生长、切割、抛光加工和保存;具有较大的双折射率;在光学和通讯领域有重要应用,可用于制作偏振分束棱镜,相位延迟器件和电光调制器件等。

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