掩模板、套刻对准方法及制备脊形波导激光器的方法

    公开(公告)号:CN104460223A

    公开(公告)日:2015-03-25

    申请号:CN201410815582.9

    申请日:2014-12-23

    CPC classification number: G03F1/42 G03F9/00 H01S5/22

    Abstract: 本发明提供了一种掩模板、套刻对准方法及制备脊形波导激光器的方法。该掩模板包括:第一条形图案;以及辅助对准窗口,为与所述第一条形图案垂直的条形图案;其中,所述第一条形图案与辅助对准窗口均为透明图案,在曝光之前,通过所述辅助对准窗口可观察所述第一条形图案与下方半导体基体上的第二条形图案的对准情况。本发明能够借助辅助对准窗口观察第一条形图案是否与下方半导体基体上的第二条形图案对准,方便了两者位置的修正,从而达到提高对版精度和研发效率。

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