-
公开(公告)号:CN102544229A
公开(公告)日:2012-07-04
申请号:CN201210036863.5
申请日:2012-02-17
Applicant: 中国科学院半导体研究所
IPC: H01L31/18
CPC classification number: Y02P70/521
Abstract: 本发明公开了一种制备甚长波InAs/GaSb二类超晶格红外探测器材料的方法,该方法是在半绝缘GaSb衬底上依次生长P型掺杂的GaSb缓冲层、P型掺杂的中波InAs/GaSb二类超晶格层、非掺杂的甚长波InAs/GaSb二类超晶格层、N型掺杂的中波InAs/GaSb二类超晶格层以及N型掺杂的InAs上接触层,得到甚长波InAs/GaSb二类超晶格红外探测器材料。利用本发明,由于在界面设计中增加了精心设计的“Sb-soak”和“生长中断”,所以超晶格材料质量进一步得到提高。