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公开(公告)号：CN110501812A
公开(公告)日：2019-11-26
申请号：CN201910839155.7
申请日：2019-09-05
Applicant: 上海汽车集团股份有限公司 , 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开了一种MEMS扫描镜，包括：镜体；所述镜体的两侧均连接有能够弯曲的应力弯曲梁，所述应力弯曲梁沿厚度方向残余应力由顶层向底层缩小；可动梳齿，所述可动梳齿安装在所述应力弯曲梁的侧面；固定梳齿，所述固定梳齿一端固定布置，另一端与所述应力弯曲梁间隔布置；扭转梁，所述扭转梁一端与所述应力弯曲梁另一端相连，所述扭转梁另一端与固定件相连。利用加工工艺中的残余应力带来的应力不匹配，使应力弯曲梁翘曲变形而带动可动梳齿自发与固定梳齿产生高度差。残余应力在微纳加工工艺中是难以避免的，总是或多或少存在，因此，基于残余应力实现垂直梳齿不需要额外的加工手段，降低了成本，且具有自组装、自对准等优势。
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公开(公告)号：CN111965811A
公开(公告)日：2020-11-20
申请号：CN202010946950.9
申请日：2020-09-10
Applicant: 上海汽车集团股份有限公司 , 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明提供的三维MEMS扫描镜，应用于微机电系统技术领域，包括镜片和二维扫描机构，所述镜片包括镜片本体和电控形变层，电控形变层覆盖镜片本体上的预设区域，并且电控形变层的控制端与控制电源相连，根据接收的电流或电压，电控形变层可带动镜片本体产生离面位移。在实际使用中，通过控制电源输出不同的电流或电压，控制电控形变层带动镜片本体产生离面位移，进而改变镜面曲率，调整焦距，再辅之以二维扫描机构，实现三维扫描。因此，本发明提供的扫描镜镜片不依赖现有镜片结构中的空腔即可改变镜面曲率，降低镜片的加工难度和加工成本。
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公开(公告)号：CN110879466A
公开(公告)日：2020-03-13
申请号：CN201911224150.X
申请日：2019-12-04
Applicant: 中国科学院光电技术研究所 , 上海汽车集团股份有限公司
IPC: G02B26/08
Abstract: 本发明公开了一种实现低频大角度MEMS扫描镜的装置，包括可绕一扭转轴扭转的镜面，还包括偶数组梳齿驱动器，其中一半梳齿驱动器与另一半梳齿驱动器的位置关于镜面扭转轴对称，分别位于轴的两侧，所有梳齿驱动器均由固定梳齿和可动梳齿组成，其中可动梳齿与镜面直接相连或通过梁、杆等与镜面相连，所有梳齿驱动器中位于镜面扭转轴同一侧的一半为垂直梳齿驱动器，另一半为常规梳齿驱动器，扫描镜工作时所有的固定梳齿之间同电势，所有的可动梳齿之间同电势。本发明解决了现有技术需要2倍频驱动电源，且最大扫描角不稳定的问题。
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公开(公告)号：CN119622189A
公开(公告)日：2025-03-14
申请号：CN202411883445.9
申请日：2024-12-19
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G06F17/18
Abstract: 本发明提出一种对数尺度自适应多窗功率谱密度估计方法，通过偏差和方差的均衡关系调整锥度数，解决现有自适应正弦窗算法存在的分辨率不高，算法复杂度高的问题，实现对自适应正弦窗算法的改进。本发明首先初始化锥度数，所有频率处锥度数设为定值，计算功率谱密度初始值。其次针对低频的信号进行锥度数梯度处理，不同频率段采用不同强度滤波器平滑锥度数，进而获取全频域最佳锥度数。最后通过对锥度数及功率谱密度进行迭代运算，得出最优功率谱密度估计值。通过本发明与LPSD算法、自适应正弦窗算法及LISA‑LPSD算法比较，表明该方法具有频谱分辨率高、算法复杂度低等优点。
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公开(公告)号：CN118393826A
公开(公告)日：2024-07-26
申请号：CN202410827569.9
申请日：2024-06-25
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G03F7/20
Abstract: 本公开提供一种高阶套刻误差矫正系统、方法、光刻系统及光刻方法，高阶套刻误差矫正系统包括：非接触式加热单元，被配置为基于光功率投影图案，对晶圆的待矫正区域进行投影式加热，使晶圆发生形变以矫正套刻误差；对准单元，被配置为测量待矫正区域的套刻误差，基于套刻误差确定矫正套刻误差所需的温度场载荷，基于温度场载荷确定光功率投影图案；工件台，被配置为承载晶圆。该高阶套刻误差矫正系统通过非接触式加热单元对晶圆的待矫正区域进行投影式加热，结构简单，避免了接触式加热方式晶圆卡盘设计加工难度大的问题，有利于实现高阶套刻误差的矫正。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115741584B
公开(公告)日：2024-06-25
申请号：CN202211645084.5
申请日：2022-12-20
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: B25B27/02
Abstract: 本公开提供一种分块施压压力装置及分块施压方法，分块施压压力装置包括：外围框架、压力头、工装和锁紧螺杆，其中：外围框架设有受压区域，压力头对准受压区域；工装夹设在外围框架内，工装设有多个安装孔，每个安装孔中安装一个压力头，压力头之间相互独立；外围框架上设有与压力头数量相等的第一限位孔，一个第一限位孔插入有一根锁紧螺杆，一根锁紧螺杆对准一个压力头；第一限位孔中设置有与锁紧螺杆配合的螺纹，锁紧螺杆与螺纹相互作用，将力矩转化为沿垂直于受压区域方向推动压力头的作用力。该装置及方法避免了传统整体施压受力均匀度不高的问题，提高了工件装配的成功率，并且，装置整体结构简单，易于装配，适用性强。
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公开(公告)号：CN114022730B
公开(公告)日：2023-08-15
申请号：CN202111260725.0
申请日：2021-10-28
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G06V10/774 , G06V10/82 , G06N3/0464 , G06N3/047 , G06N3/08
Abstract: 本发明公开了一种基于自监督学习神经网络的点目标相位检索方法，利用的系统包括：成像探测器与自监督学习神经网络模块。在训练过程中，自监督学习神经网络将输入的光斑图像的数据样本映射到Zernike系数，然后通过光学成像系统利用Zernike系数计算出光斑图像，根据输入与输出光斑图像之间的相似度计算损失函数实现自监督学习。测试过程中，成像探测器采集的单幅离焦光斑图像输入到自监督学习神经网络中，根据映射关系输出系统所需的波前参数，实现相位检索。该方法不依赖任何标签值，仅通过畸变光斑数据的内在特征，建立采集光斑样本之间的映射关系；有效地避免了传统监督学习需要大量标签样本的技术瓶颈，有利于神经网络相位检索方法的实际应用。
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公开(公告)号：CN115954312A
公开(公告)日：2023-04-11
申请号：CN202211717095.X
申请日：2022-12-29
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: H01L21/683 , H01L21/687
Abstract: 本公开提供一种动态载物台及面形调整方法，动态载物台包括：支撑板，支撑板上设有导线通道和真空通道；面形控制模块，安装在支撑板表面，包括压电陶瓷阵列及气密墙，气密墙围绕压电陶瓷阵列；其中，压电陶瓷阵列由阵列排布的压电陶瓷单元组成，每一个压电陶瓷单元通过穿过导线通道的电极线与外部电路独立连接，外部电路向各个压电陶瓷单元两端独立施加电势差，使压电陶瓷单元独立产生纵向形变；压电陶瓷阵列用于支撑待调整工件，真空通道用于对气密墙、支撑板和待调整工件围成的空间抽真空，将待调整工件吸附在压电陶瓷阵列上。该动态载物台实现了对不同工件面形地灵活精确调整。
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公开(公告)号：CN115019125A
公开(公告)日：2022-09-06
申请号：CN202210570531.9
申请日：2022-05-24
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G06V10/774 , G06V10/74 , G06V10/764 , G06V10/82 , G06N3/04 , G06N3/08
Abstract: 本发明公开了一种基于卷积神经网络的自监督扩展目标像差探测方法，首先，利用物理模型提取出扩展目标中的像差信息，然后将提取的像差信息输入卷积神经网络中，利用其非线性拟合的能力建立图像与Zernike系数的映射关系，然后利用Zernike系数与光学成像模型重建像差信息，并依据输入像差特征与光学模型输出像差特征之间的相似度计算损失函数实现自监督学习。测试过程中，可采集已知离焦量的系统中的在焦面与离焦面扩展目标的图像输入到已经训练好的无监督网络中，输出所需要的相位信息。该种方法在物理模型阶段消除了原目标特征，可实现对多种目标的普适性探测，在扩展目标种类变换与实际应用过程中无法获得准确标签的情况下具有更好的实用性。
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公开(公告)号：CN114660601A
公开(公告)日：2022-06-24
申请号：CN202210269422.3
申请日：2022-03-18
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开了一种应用于合成孔径成像系统的振动抑制方法及装置。本发明引入惯性传感器通过结合经典负反馈和扰动前馈的方法实现振动抑制，结合经典负反馈，组成了基于扰动前馈的复合控制方法，并且在此基础上进一步实现了振动的观测与补偿。构成了一种新型的合成孔径成像系统扰动抑制模式。此方法为合成孔径成像系统的振动抑制提供了理论支撑，能够显著提高系统对内部扰动和外部扰动的抑制能力，缓解了图像传感器延时和子孔径数量对合成孔径成像系统振动抑制能力的限制。这种振动抑制方法对合成孔径成像系统的振动抑制能力有显著的提升。
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