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公开(公告)号：CN100559145C
公开(公告)日：2009-11-11
申请号：CN200510086657.5
申请日：2005-10-20
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 一种大口径非球面光学元件中高频差检测方法，涉及一种对光学元件面形误差，尤其是表面面形中高频差的检测方法的改进。利用信息处理技术对激光数字干涉仪获取的数据进行处理，采取利用二维功率谱密度求解环围能量评价元件质量，以实现检测目的。本技术提出的方法，全面考虑了被检光学元件面形信息，从而可以更加客观的评价光学元件的面形质量。本发明采用二维功率谱密度对光学元件面形质量进行评价，提供了一条检测面形质量的新途径，对高质量光学元件的质量评价具有重要的应用价值。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1936646A
公开(公告)日：2007-03-28
申请号：CN200610113712.X
申请日：2006-10-13
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G02B27/00
Abstract: 确定工艺参数与工件表面频谱分布特性的方法，涉及一种从空间频谱角度分析光学元件制造误差，尤其是表面面形中高频误差与工艺参数的定性定量关系，利用信息处理技术对测试仪器所获取的光学元件的制造误差数据进行处理，采取一维功率谱密度比值作为评价指标确定工艺参数同频谱分布特性的关系。本发明通过对工艺参数与工件表面频谱分布特性的定性定量研究，提供了一条光学元件面形加工中工艺参数确定的新方法，对高质量光学元件的加工具有重要的应用价值。
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公开(公告)号：CN101013022B
公开(公告)日：2010-06-02
申请号：CN200710063641.1
申请日：2007-02-07
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 一种消除光学元件干涉采样数据中随机误差的方法，涉及一种针对圆形口径光学元件面形误差检测方法的改进。利用信息处理技术对干涉仪所获取的光学元件的面形检测数据进行处理，采取改进的最小二乘方法确定检测数据的圆心位置，根据误差理论对多次检测数据作数据处理，消除随机误差影响，最终确定光学元件的面形。本发明通过对加工现场获得的包含多种随机误差的干涉数据的研究，提供了一条光学元件面形检测中消除随机误差影响的新方法，对高质量光学元件的检测与加工具有重要的应用价值。
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公开(公告)号：CN100582866C
公开(公告)日：2010-01-20
申请号：CN200610113712.X
申请日：2006-10-13
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G02B27/00
Abstract: 确定工艺参数与工件表面频谱分布特性的方法，涉及一种从空间频谱角度分析光学元件制造误差，尤其是表面面形中高频误差与工艺参数的定性定量关系，利用信息处理技术对测试仪器所获取的光学元件的制造误差数据进行处理，采取一维功率谱密度比值作为评价指标确定工艺参数同频谱分布特性的关系。本发明通过对工艺参数与工件表面频谱分布特性的定性定量研究，提供了一条光学元件面形加工中工艺参数确定的新方法，对高质量光学元件的加工具有重要的应用价值。
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公开(公告)号：CN1752730A
公开(公告)日：2006-03-29
申请号：CN200510086657.5
申请日：2005-10-20
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 一种大口径非球面光学元件中高频差检测方法，涉及一种对光学元件面形误差，尤其是表面面形中高频差的检测方法的改进。利用信息处理技术对激光数字干涉仪获取的数据进行处理，采取利用二维功率谱密度求解环围能量评价元件质量，以实现检测目的。本发明提出的方法，全面考虑了被检光学元件面形信息，从而可以更加客观的评价光学元件的面形质量。本发明采用二维功率谱密度对光学元件面形质量进行评价，提供了一条检测面形质量的新途径，对高质量光学元件的质量评价具有重要的应用价值。
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公开(公告)号：CN101013022A
公开(公告)日：2007-08-08
申请号：CN200710063641.1
申请日：2007-02-07
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 一种消除光学元件干涉采样数据中随机误差的方法，涉及一种针对圆形口径光学元件面形误差检测方法的改进。利用信息处理技术对干涉仪所获取的光学元件的面形检测数据进行处理，采取改进的最小二乘方法确定检测数据的圆心位置，根据误差理论对多次检测数据作数据处理，消除随机误差影响，最终确定光学元件的面形。本发明通过对加工现场获得的包含多种随机误差的干涉数据的研究，提供了一条光学元件面形检测中消除随机误差影响的新方法，对高质量光学元件的检测与加工具有重要的应用价值。
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