一种逆向热蒸发银反射膜加介质保护膜层的制备方法

    公开(公告)号:CN104328378A

    公开(公告)日:2015-02-04

    申请号:CN201410614079.7

    申请日:2014-11-04

    Inventor: 裴文俊 刘洪祥

    CPC classification number: C23C14/26 C23C14/18

    Abstract: 本发明提供一种逆向热蒸发银反射膜加介质保护膜的制备方法,采用的膜层序列为Sub/CrNx/Ag/CrNx/SiOx/Air,制备过程中所有的蒸发源位于镜面上方,逆向热蒸发;承载铬(Cr)材料的主要部件为钨杆,承载银(Ag)材料的主要部件为钨丝环,保护膜材料为一氧化硅(SiO),装载于钽蒸发舟中;在氮气(N2)环境中蒸发Cr形成CrNx,在氧气(O2)环境中蒸发SiO形成SiOx。本发明具有工艺简单、操作方便、设备与材料成本低的优点,能够规避大型光学元件翻面带来的风险。

    一种向下热蒸发介质保护膜层的制备方法

    公开(公告)号:CN103233201B

    公开(公告)日:2016-03-30

    申请号:CN201310161118.8

    申请日:2013-05-03

    Inventor: 裴文俊 刘洪祥

    Abstract: 本发明提供一种向下热蒸发介质保护膜层的制备方法,其特征在于装载介质材料的蒸发源位于真空室内部上方、待镀主镜位于下方自上而下蒸发,采用常见的热蒸方式。保护膜材料为一氧化硅(SiO),装载于经过特殊设计的钼蒸发舟中,加热升华向下运动,与氮气发生作用生成透明、牢固的SiOxNy保护膜层。本发明提供一种为大型主镜自上向下热蒸发介质保护膜层的制备方法,具有结构简单、成本低、应用广泛的优点。

    一种向下热蒸发介质保护膜层的制备方法

    公开(公告)号:CN103233201A

    公开(公告)日:2013-08-07

    申请号:CN201310161118.8

    申请日:2013-05-03

    Inventor: 裴文俊 刘洪祥

    Abstract: 本发明提供一种向下热蒸发介质保护膜层的制备方法,其特征在于:装载介质材料的蒸发源位于真空室内部上方、待镀主镜位于下方自上而下蒸发,采用常见的热蒸方式。保护膜材料为一氧化硅(SiO),装载于经过特殊设计的钼蒸发舟中,加热升华向下运动,与氮气发生作用生成透明、牢固的SiOxNy保护膜层。本发明提供一种为大型主镜自上向下热蒸发介质保护膜层的制备方法,具有结构简单、成本低、应用广泛的优点。

    一种逆向热蒸发银反射膜加介质保护膜层的制备方法

    公开(公告)号:CN104328378B

    公开(公告)日:2017-02-15

    申请号:CN201410614079.7

    申请日:2014-11-04

    Inventor: 裴文俊 刘洪祥

    Abstract: 本发明提供一种逆向热蒸发银反射膜加介质保护膜的制备方法,采用的膜层序列为Sub/CrNx/Ag/CrNx/SiOx/Air,制备过程中所有的蒸发源位于镜面上方,逆向热蒸发;承载铬(Cr)材料的主要部件为钨杆,承载银(Ag)材料的主要部件为钨丝环,保护膜材料为一氧化硅(SiO),装载于钽蒸发舟中;在氮气(N2)环境中蒸发Cr形成CrNx,在氧气(O2)环境中蒸发SiO形成SiOx。本发明具有工艺简单、操作方便、设备与材料成本低的优点,能够规避大型光学元件翻面带来的风险。

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