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公开(公告)号：CN103831675B
公开(公告)日：2016-03-30
申请号：CN201410103275.8
申请日：2014-03-19
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: B24B1/00
Abstract: 本发明涉及一种大口径光学元件的离子束加工装置及方法，所述装置包括一主真空舱、副真空舱、被加工件夹持机构、试验样品夹持机构、试验样品传输机构、离子源、数控三坐标位移台和气动真空门，主真空舱为大口径光学元件及样品材料提供真空加工环境；试验样品夹持机构用于夹持工件样品；试验样品传输机构用于在主真空舱与副真空舱之间来回移动样品；离子源用于光学零件表面面形材料的去除；数控三坐标位移台用于驱动离子源运动；气动真空门用于连通与隔离主真空舱和副真空舱。所述加工方法能对大型光学元件进行分块加工，即便加工过程中离子源性能劣化，该加工方法依然能获得整个表面形貌一致优良的光学元件。
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公开(公告)号：CN102615526B
公开(公告)日：2014-03-05
申请号：CN201210103829.5
申请日：2012-04-10
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明涉及一种精密夹具，该夹具包括基准盘，回转盘，卡爪，卡爪调节机构，周向定位装置。所述基准盘固定于加工设备上，回转盘绕基准盘中心转动，卡爪安装于回转盘上，并可以通过卡爪调节机构调节卡爪与基准盘的径向相对位置，周向定位装置以基准盘基准面及周向基准孔进行定位，用来调节卡爪与基准盘的周向相对位置。本发明所述夹具通过动态测量工件基准面相对盘体基准面同轴度及周向零位，并通过调节机构细微调节，从而实现工件与盘体基准面的相对位置要求。
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公开(公告)号：CN102672518A
公开(公告)日：2012-09-19
申请号：CN201210133515.X
申请日：2012-05-03
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: B23Q7/00
Abstract: 本发明公开了一种输送工件的移动平台，用来将工件从待加工区输送到加工区。其特点是含有机架(1)、导向杆(4)、轨道(5)、活动托盘(7)和箱体(10)的机械结构，活动托盘(7)配合适当的夹具可以装载工件。机架(1)可以在箱体(10)内来回移动；机架(1)上装有两个或两个以上活动托盘(7)，每个活动托盘都可以在水平面内与机架(1)运动方向垂直的方向上移动。在输送工件过程中，根据活动托盘(7)的个数，可以一次性输送多个工件，节约待机时间，提高加工效率；驱动简单，适用于自动化作业需求，可以作为一个结构单元应用于各种机械设备中。
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公开(公告)号：CN104526499B
公开(公告)日：2017-04-12
申请号：CN201510002041.9
申请日：2015-01-04
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: B24B13/005
Abstract: 本发明公开了一种离子束抛光设备中的工件夹具，包括圆形基准盘，夹爪以及粗调和微调机构组成。圆形基准盘下表面具有以基准盘同心的若干同心圆刻度，作为粗调的基准，夹爪可以通过粗调机构和微调机构驱动在基准盘上径向移动，在装夹工件的同时，确保工件中心和装夹盘中心对齐，实现工件的精确定位装夹。本发明的工件夹具操作方便快捷的优点，可实现工件的快速装夹，大幅提高设备的加工效率。
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公开(公告)号：CN104539188B
公开(公告)日：2017-01-18
申请号：CN201510001927.1
申请日：2015-01-04
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明涉及一种高精度压力驱动装置，所述装置包括压电陶瓷(1)、方向导槽(2)、弹性簧片陶瓷放置于方向导槽中，方向导槽上端存在一个开孔，压电陶瓷的上端可从开孔中部分伸出，方向导槽下端也存在一个开孔，用于与安装底座连接。压电陶瓷的作用在于实现超微量超快速的位移动作；弹性簧片的作用在于承受压电陶瓷的作用力，并产生相应的弹性形变。所述装置可在作用力输出端存在不断变化的微小位移的情形下，精确快速地输出恒定的作用力。由于本发明装置的直接输出为作用力，且物体形变与作用力成线性关系，因而本装置能够对被控制面进行线性控制，更准确地控制面形。(3)、微位移探测器(4)和安装底座(5)，其中压电
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104570329A
公开(公告)日：2015-04-29
申请号：CN201510059382.X
申请日：2015-02-05
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G02B26/06
Abstract: 本发明涉及一种光学变形镜系统，该变形镜系统包括框架(1)，变形镜(2)，转接头(3)，夹紧螺钉(4)，缩减机构(5)，隔架(6)，调节螺套(7)，紧固螺钉(8)，锁紧螺母(9)和压板(10)。本发明光学变形镜系统通过与缩减机构(5)相连接的转接头(3)的微量进退来实现变形镜(2)在转接头(3)接触处的微量移动，并且变形镜(2)在转接头(3)接触处的位移是双向的，或凸出或凹进。本发明的优点在于：其一，采用比例元件，变形镜驱动位移成比例缩减；其二，元件间不采用粘胶，消除粘胶带来的灵敏度、精度不能显著提高的弊端，在驱动元件前伸、后缩过程中，均能保持很高的控制精度。
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公开(公告)号：CN104526499A
公开(公告)日：2015-04-22
申请号：CN201510002041.9
申请日：2015-01-04
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: B24B13/005
CPC classification number: B24B13/005
Abstract: 本发明公开了一种离子束抛光设备中的工件夹具，包括圆形基准盘，夹爪以及粗调和微调机构组成。圆形基准盘下表面具有以基准盘同心的若干同心圆刻度，作为粗调的基准，夹爪可以通过粗调机构和微调机构驱动在基准盘上径向移动，在装夹工件的同时，确保工件中心和装夹盘中心对齐，实现工件的精确定位装夹。本发明的工件夹具操作方便快捷的优点，可实现工件的快速装夹，大幅提高设备的加工效率。
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公开(公告)号：CN103831675A
公开(公告)日：2014-06-04
申请号：CN201410103275.8
申请日：2014-03-19
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: B24B1/00
CPC classification number: B24B13/00 , B24B13/0055 , B24B49/02
Abstract: 本发明涉及一种大口径光学元件的离子束加工装置及方法，所述装置包括一主真空舱、副真空舱、被加工件夹持机构、试验样品夹持机构、试验样品传输机构、离子源、数控三坐标位移台和气动真空门，主真空舱为大口径光学元件及样品材料提供真空加工环境；试验样品夹持机构用于夹持工件样品；试验样品传输机构用于在主真空舱与副真空舱之间来回移动样品；离子源用于光学零件表面面形材料的去除；数控三坐标位移台用于驱动离子源运动；气动真空门用于连通与隔离主真空舱和副真空舱。所述加工方法能对大型光学元件进行分块加工，即便加工过程中离子源性能劣化，该加工方法依然能获得整个表面形貌一致优良的光学元件。
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公开(公告)号：CN102615526A
公开(公告)日：2012-08-01
申请号：CN201210103829.5
申请日：2012-04-10
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明涉及一种精密夹具，该夹具包括基准盘，回转盘，卡爪，卡爪调节机构，周向定位装置。所述基准盘固定于加工设备上，回转盘绕基准盘中心转动，卡爪安装于回转盘上，并可以通过卡爪调节机构调节卡爪与基准盘的径向相对位置，周向定位装置以基准盘基准面及周向基准孔进行定位，用来调节卡爪与基准盘的周向相对位置。本发明所述夹具通过动态测量工件基准面相对盘体基准面同轴度及周向零位，并通过调节机构细微调节，从而实现工件与盘体基准面的相对位置要求。
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公开(公告)号：CN104315997B
公开(公告)日：2017-02-15
申请号：CN201410620938.3
申请日：2014-11-06
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G01B11/25
Abstract: 本发明公开了一种在平面镜检测中标记检测数据坐标系的装置和方法，装置包括菲索移相干涉仪，平面标准镜，被测平面镜，千分表，千分表支架，大理石平台，转台，六维调整平台，方镜，计算机，标记平面镜。其中标记平面镜的中心位置有十字刻线；方镜左右表面中心有垂直于上表面的刻线，上表面有两个过上表面中心的十字刻线，两十字刻线连线长度已知，方向与长边平行。该装置通过方镜和标记平面镜上刻线标示的使用，将被测平面镜的侧面刻线标示转移到测出的面形图中，实现了测量被测平面镜面形的同时，标定出被测平面镜的中心、侧面刻线标示在面形图上的对应位置和图像的像素分辨率，即确定出了检测数据的坐标系，从而为加工人员根据检测结果度修正被测平面镜面形提供更准确的数据。
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