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公开(公告)号：CN103342476B
公开(公告)日：2015-08-26
申请号：CN201310275909.3
申请日：2013-07-03
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: C03C23/00
Abstract: 本发明用于抑制光学表面中高频误差的离子束牺牲层加工方法，S1检测有中高频误差的光学元件表面初始面形数据；S2根据光学元件面形误差值和误差分布计算所需牺牲层的厚度及胶的浓度；S3对光学元件的表面甩胶、烘干；S4检测含有胶层的光学元件表面面形，获得胶层低频误差；S5检测含有甩厚胶层光学平面基底的面形分布构建胶层去除函数；S6利用离子束抛光去除胶层低频误差，使得胶层平滑覆盖光学元件表面的中高频误差，获得胶层平滑覆盖高频误差的光学元件；S7检测胶层平滑覆盖高频误差的光学元件的面形；S8判断光学元件表面胶层的低频误差是否被去除；S9根据胶层去除函数和胶层厚度、加工时间，对光学元件表面遍历扫描并去除胶层。
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公开(公告)号：CN103495909A
公开(公告)日：2014-01-08
申请号：CN201310473603.9
申请日：2013-10-11
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: B24B1/04
CPC classification number: B24B1/04
Abstract: 本发明是一种光学元件表面高频振动共形加工装置和方法，该方法基于精密气缸、龙门架、高速马达、精密变频器、凸轮、摆臂、磨头和旋转台等部件，实现具有基底层、柔性层和抛光层的抛光磨头以一定压力紧贴工件表面做高频振动抛光。本发明高频振动共形抛光方法采用全口径共形覆盖式抛光，不受待加工工件表面特征的限制，能够对各种异形光学表面进行抛光，实现对待加工表面的高速材料去除，抛光效率较常规方法提高10-50倍，同时对工件表面中高频误差具有平滑作用，适应于轴对称的中小口径平面、球面、非球面元件、异形元件的快速抛光和中高频误差抑制。
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公开(公告)号：CN102328259A
公开(公告)日：2012-01-25
申请号：CN201110329791.9
申请日：2011-10-26
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: B24B13/00
Abstract: 本发明公开一种对光学元件超光滑表面抛光的装置，该装置包括剪切射流抛光盘、数控机床、工件装夹平台、浴法射流抛光平台、抛光头控制装置、射流抛光系统和液体管路，通过采用一个剪切射流抛光盘，安装在浴法数控机床上的抛光头上，通过管路与射流抛光系统相连，抛光液从经射流抛光系统的增压系统加速从剪切射流抛光盘射出，在与剪切射流抛光盘下端面紧贴的光学元件表面产生剪切射流，通过射流的剪切作用力实现光学元件的超光滑表面抛光。本发明用于光学玻璃、微晶玻璃、半导体材料及单晶材料的超精密、超光滑抛光。
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公开(公告)号：CN102501154B
公开(公告)日：2014-01-29
申请号：CN201110329856.X
申请日：2011-10-26
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: B24B13/005 , H01L21/67
Abstract: 本发明是离子束抛光过程中工件装卡装置和方法，所述工件装卡装置包括四槽旋转台固定在装卡主平台上，四个沟槽正交对称分布在四槽旋转台上；四个滑动固定柱分别装在四槽旋转台的四个槽上，拧动滑动固定柱上的固定螺栓使滑动固定柱固定或松动；陶瓷帽片固定在滑动固定柱的上面；在滑动固定柱侧面有一个挂钩，在挂钩的下侧有一装卡在滑动固定柱上的升降支架结构。本发明亦具有工件装卡方法在装卡主平台上安装一个四槽旋转台，通过可滑动固定柱把工件装卡在四槽旋转台结构上，通过采用千分表旋转四槽旋转台测量距可滑动固定柱的距离，不断移动可滑动固定柱的位置调节距离一致，确保工件的中心与装卡主平台的中心一致，从而实现工件位置的精确装卡。
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公开(公告)号：CN103342476A
公开(公告)日：2013-10-09
申请号：CN201310275909.3
申请日：2013-07-03
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: C03C23/00
Abstract: 本发明用于抑制光学表面中高频误差的离子束牺牲层加工方法，S1检测有中高频误差的光学元件表面初始面形数据；S2根据光学元件面形误差值和误差分布计算所需牺牲层的厚度及胶的浓度；S3对光学元件的表面甩胶、烘干；S4检测含有胶层的光学元件表面面形，获得胶层低频误差；S5检测含有甩厚胶层光学平面基底的面形分布构建胶层去除函数；S6利用离子束抛光去除胶层低频误差，使得胶层平滑覆盖光学元件表面的中高频误差，获得胶层平滑覆盖高频误差的光学元件；S7检测胶层平滑覆盖高频误差的光学元件的面形；S8判断光学元件表面胶层的低频误差是否被去除；S9根据胶层去除函数和胶层厚度、加工时间，对光学元件表面遍历扫描并去除胶层。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103495909B
公开(公告)日：2016-11-30
申请号：CN201310473603.9
申请日：2013-10-11
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: B24B1/04
Abstract: 本发明是一种光学元件表面高频振动共形加工装置和方法，该方法基于精密气缸、龙门架、高速马达、精密变频器、凸轮、摆臂、磨头和旋转台等部件，实现具有基底层、柔性层和抛光层的抛光磨头以一定压力紧贴工件表面做高频振动抛光。本发明高频振动共形抛光方法采用全口径共形覆盖式抛光，不受待加工工件表面特征的限制，能够对各种异形光学表面进行抛光，实现对待加工表面的高速材料去除，抛光效率较常规方法提高10‑50倍，同时对工件表面中高频误差具有平滑作用，适应于轴对称的中小口径平面、球面、非球面元件、异形元件的快速抛光和中高频误差抑制。
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公开(公告)号：CN102501154A
公开(公告)日：2012-06-20
申请号：CN201110329856.X
申请日：2011-10-26
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: B24B13/005 , H01L21/67
Abstract: 本发明是离子束抛光过程中工件装卡装置和方法，所述工件装卡装置包括四槽旋转台固定在装卡主平台上，四个沟槽正交对称分布在四槽旋转台上；四个滑动固定柱分别装在四槽旋转台的四个槽上，拧动滑动固定柱上的固定螺栓使滑动固定柱固定或松动；陶瓷帽片固定在滑动固定柱的上面；在滑动固定柱侧面有一个挂钩，在挂钩的下侧有一装卡在滑动固定柱上的升降支架结构。本发明亦具有工件装卡方法在装卡主平台上安装一个四槽旋转台，通过可滑动固定柱把工件装卡在四槽旋转台结构上，通过采用千分表旋转四槽旋转台测量距可滑动固定柱的距离，不断移动可滑动固定柱的位置调节距离一致，确保工件的中心与装卡主平台的中心一致，从而实现工件位置的精确装卡。
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公开(公告)号：CN104608024B
公开(公告)日：2017-01-25
申请号：CN201510031740.6
申请日：2015-01-22
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: B24B13/00
Abstract: 本发明涉及一种针对离子束牺牲层中高频误差抑制加工的复合牺牲层加工方法，属于先进光学制造与检测领域。提出甩胶、模压和修形的三步骤方法，来实现元件的均匀甩胶，有效的提升了甩胶的均匀性，提升了离子束牺牲层加工中高频误差的有效性。本发明虽然在模压环节增加了模具的制作时间和制作成本，但被加工元件(平面、球面)在传统抛光过程中需要采用样板来指导加工，可采用该样板作为模压过程的模具，因此，对于平面、球面被加工元件是不需要另外制作模具，对于非球面才需要制作模具。本发明可以有效实现对被加工元件基底面形实现均匀覆盖，弥补单独甩胶过程造成的胶层与基底面形一致的问题，适合用于超光滑、超高精度元件的批量化生产过程中。
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公开(公告)号：CN104608024A
公开(公告)日：2015-05-13
申请号：CN201510031740.6
申请日：2015-01-22
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: B24B13/00
Abstract: 本发明涉及一种针对离子束牺牲层中高频误差抑制加工的复合牺牲层加工方法，属于先进光学制造与检测领域。提出甩胶、模压和修形的三步骤方法，来实现元件的均匀甩胶，有效的提升了甩胶的均匀性，提升了离子束牺牲层加工中高频误差的有效性。本发明虽然在模压环节增加了磨具的制作时间和制作成本，但被加工元件(平面、球面)在传统抛光过程中需要采用样板来指导加工，可采用该样板作为模压过程的磨具，因此，对于平面、球面被加工元件是不需要另外制作模具，对于非球面才需要制作模具。本发明可以有效实现对被加工元件基底面形实现均匀覆盖，弥补单独甩胶过程造成的胶层与基底面形一致的问题，适合用于超光滑、超高精度元件的批量化生产过程中。
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公开(公告)号：CN102501180A
公开(公告)日：2012-06-20
申请号：CN201110329852.1
申请日：2011-10-26
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: B24C1/08 , G05B19/404
Abstract: 本发明是一种对轻质反射镜压印效应误差的修正方法，是确定轻质反射镜压印效应的误差分布数据，把轻质反射镜对准安装在抛光机床上，确定轻质反射镜在抛光机床坐标系上的误差分布的位置；获得射流抛光轻质反射镜材料的去除函数和去除函数数据；根据压印效应的误差分布数据和去除函数数据，计算射流抛光过程中的驻留时间分布；根据轻质反射镜压印效应误差位置的分布情况，规划射流抛光误差修正过程中的射流抛光运动轨迹；基于驻留时间分布和运动轨迹，生成相应抛光机床的数控代码；开启射流抛光系统和机床数控系统，射流抛光头在数控机床的控制下，冲击射流对准轻质反射镜上不同点进行材料去除加工，从而实现轻质反射镜全口径或局部的误差修正。
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