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公开(公告)号：CN103567866B
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：CN201310581418.1
申请日：2013-11-19
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: B24B49/00
Abstract: 本发明为去除函数在确定抛光条件下的误差抑制能力的评价方法，步骤S1：利用第j-1次和第j次抛光后光学元件面形数据的功率谱密度函数PSDj-1、PSDj，构建出平滑谱函数H模型即去除函数归一化后的傅里叶变换；步骤S2：将平滑谱函数H两端同时乘以得到关系式(2)：步骤S3：对关系式(2)进行m项求和相加运算，构建出第m次抛光工艺的误差抑制能力计算模型HModified；步骤S4：对n次抛光中的误差抑制能力计算模型进行取平均值计算，构建计算机控制表面成形抛光中去除函数在确定抛光条件下对不同频段误差抑制能力HTIF模型。
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公开(公告)号：CN103395000A
公开(公告)日：2013-11-20
申请号：CN201310315171.9
申请日：2013-07-25
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: B24B49/00
Abstract: 本发明CCOS抛光工艺抑制不同频段误差能力的评价方法，所述方法的步骤如下：步骤S1：利用光学元件抛光前后的功率谱密度函数PSDbef、PSDaft，构建出平滑谱函数H与PSDaft、PSDbef的公式(1)PSDaft＝(1-H)(1-H)*·PSDbef，其中(1-H)*为(1-H)的共轭，*为求共轭的运算符；步骤S2：根据复数运算法则，对公式(1)两边取模得到抛光后面形数据的功率谱密度函数表达式(2)PSDaft＝|(1-H)|2·PSDbef；步骤S3：由于平滑谱函数H为去除函数归一化后的傅里叶变换，所以根据|H|＜1，求解公式(2)，构建出平滑谱函数H的公式(3)公式(3)将CCOS抛光工艺抑制不同频段误差的能力表示为频率的归一化函数，利用抛光前后得到的PSDbef、PSDaft计算平滑谱函数曲线，根据平滑谱函数曲线值的大小来评价CCOS抛光工艺抑制不同频段误差能力的大小。
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公开(公告)号：CN116124005A
公开(公告)日：2023-05-16
申请号：CN202310158204.7
申请日：2023-02-23
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G01B11/00
Abstract: 一种基于视觉的工业机器人光学加工自动定标方法及系统，用于测量光学加工中标记靶纸的坐标。自动定标方法主要包括以下步骤：步骤S1，相机挂载到机械臂末端的加工磨头上，标定相机的内外参数，使用手眼标定方法大概确定相机与机械臂的位姿变换关系。步骤S2，校正相机相对于机器人的位姿。步骤S3，在光学元件的被加工面贴标记靶纸，并在其几何中心建立基坐标。步骤S4，人工操作机器人去拍摄标记靶纸，同时将机器人在基坐标系下的位置信息实时发送到上位机，上位机识别靶纸位置并进行坐标变换，输出靶纸位于基坐标系中的坐标。该方法相比于现有的光学加工定标方法具有更高的效率和较好的精度。
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公开(公告)号：CN107598715A
公开(公告)日：2018-01-19
申请号：CN201710802768.4
申请日：2017-09-08
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: B24B13/00 , B24B13/005 , B24D3/34 , B24B41/04
Abstract: 本发明公开了一种大口径异形平面加工方法，包括如下步骤：成型加工、研磨、粗抛光、环抛机抛光、抛光精修；将毛胚切割成型、成型加工达到设计外形尺寸精度要求，采用激光跟踪仪或者三坐标进行外形尺寸、面形检测；研磨采用传统方法或者数控小工具(或机器人)加工，采用激光跟踪仪或者三坐标进行面形检测；利用面形检测设备对光学镜面进行检测，根据镜面实际加工难易程度及工期需要，抛光精修可通过数控小工具(包括磁流变或离子束)进一步提升镜面面形质量，最后终检镜面质量等要求达到设计要求。本发明提供了一种大口径异形平面镜加工工艺的新方法，为更大的大口径异形平面镜光学元件加工工艺奠定基础，具有重大的实际工程应用价值。
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公开(公告)号：CN104942678B
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：CN201510354630.3
申请日：2015-06-24
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开了一种摆架式主动磨盘加工大口径光学元件的装置，基于摆架式传统古典法加工原理的基础上，对摆架顶针进行了相关改造，该装置包括计算机系统及电控机构、支撑架子、传动轴、45度齿轮、摆架顶针轴、磨盘；计算机系统与电控机构相连接，根据镜面检测的面形进行仿真计算加工，由安装在计算机系统上的控制磨盘速度处理软件控制伺服电机转动，通过伺服电机带动传动轴、45度齿轮、摆架顶针轴、磨盘转动，从而实现可控磨盘主动旋转，同时需要一般数控机床工作台的配合，本发明为高精度大口径光学元件提供摆架式主动磨盘加工的装置，从而消除由于磨盘旋转不均而造成镜面不对称去除现象，避免给加工带来不利的影响，具有重大的实际工程应用价值。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104942678A
公开(公告)日：2015-09-30
申请号：CN201510354630.3
申请日：2015-06-24
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开了一种摆架式主动磨盘加工大口径光学元件的装置，基于摆架式传统古典法加工原理的基础上，对摆架顶针进行了相关改造，该装置包括计算机系统及电控机构、支撑架子、传动轴、45度齿轮、摆架顶针轴、磨盘；计算机系统与电控机构相连接，根据镜面检测的面形进行仿真计算加工，由安装在计算机系统上的控制磨盘速度处理软件控制伺服电机转动，通过伺服电机带动传动轴、45度齿轮、摆架顶针轴、磨盘转动，从而实现可控磨盘主动旋转，同时需要一般数控机床工作台的配合，本发明为高精度大口径光学元件提供摆架式主动磨盘加工的装置，从而消除由于磨盘旋转不均而造成镜面不对称去除现象，避免给加工带来不利的影响，具有重大的实际工程应用价值。
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公开(公告)号：CN104385064A
公开(公告)日：2015-03-04
申请号：CN201410547326.6
申请日：2014-10-14
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
CPC classification number: B24B13/0018 , B24B13/01
Abstract: 本发明涉及一种数控小工具与环抛机相结合的大口径平面加工方法，包括如下步骤：使用数控小工具对铣磨成形工件进行研磨和粗抛光，研磨去除工件的破坏层及控制面形,研磨完成后转入粗抛光阶段，粗抛光去除研磨产生的表面破坏层，粗抛光结束后再使用数控小工具与环抛机相结合进行精修面形，利用面形检测装置对光学镜面进行面形误差检测，使最后加工的镜面面形精度达到设计要求，本发明解决大口径平面镜加工工艺，提供了一种大口径平面镜加工工艺的新方法，为更大的大口径平面镜光学元件加工工艺奠定基础。
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公开(公告)号：CN103567866A
公开(公告)日：2014-02-12
申请号：CN201310581418.1
申请日：2013-11-19
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: B24B49/00
CPC classification number: B24B49/00
Abstract: 本发明为去除函数在确定抛光条件下的误差抑制能力的评价方法，步骤S1：利用第j-1次和第j次抛光后光学元件面形数据的功率谱密度函数PSDj-1、PSDj，构建出平滑谱函数H模型即去除函数归一化后的傅里叶变换；步骤S2：将平滑谱函数H两端同时乘以得到关系式(2)：步骤S3：对关系式(2)进行m项求和相加运算，构建出第m次抛光工艺的误差抑制能力计算模型HModified；步骤S4：对n次抛光中的误差抑制能力计算模型进行取平均值计算，构建计算机控制表面成形抛光中去除函数在确定抛光条件下对不同频段误差抑制能力HTIF模型。
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公开(公告)号：CN104385064B
公开(公告)日：2016-08-31
申请号：CN201410547326.6
申请日：2014-10-14
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明涉及一种数控小工具与环抛机相结合的大口径平面加工方法，包括如下步骤：使用数控小工具对铣磨成形工件进行研磨和粗抛光，研磨去除工件的破坏层及控制面形,研磨完成后转入粗抛光阶段，粗抛光去除研磨产生的表面破坏层，粗抛光结束后再使用数控小工具与环抛机相结合进行精修面形，利用面形检测装置对光学镜面进行面形误差检测，使最后加工的镜面面形精度达到设计要求，本发明解决大口径平面镜加工工艺，提供了一种大口径平面镜加工工艺的新方法，为更大的大口径平面镜光学元件加工工艺奠定基础。
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公开(公告)号：CN103395000B
公开(公告)日：2015-08-26
申请号：CN201310315171.9
申请日：2013-07-25
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: B24B49/00
Abstract: 本发明CCOS抛光工艺抑制不同频段误差能力的评价方法，所述方法的步骤如下：步骤S1：利用光学元件抛光前后的功率谱密度函数PSDbef、PSDaft，构建出平滑谱函数H与PSDaft、PSDbef的公式(1)PSDaft＝(1-H)(1-H)*·PSDbef，其中(1-H)*为(1-H)的共轭，*为求共轭的运算符；步骤S2：根据复数运算法则，对公式(1)两边取模得到抛光后面形数据的功率谱密度函数表达式(2)PSDaft＝|(1-H)|2·PSDbef；步骤S3：由于平滑谱函数H为去除函数归一化后的傅里叶变换，所以根据|H|＜1，求解公式(2)，构建出平滑谱函数H的公式(3)公式(3)将CCOS抛光工艺抑制不同频段误差的能力表示为频率的归一化函数，利用抛光前后得到的PSDbef、PSDaft计算平滑谱函数曲线，根据平滑谱函数曲线值的大小来评价CCOS抛光工艺抑制不同频段误差能力的大小。
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