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公开(公告)号:CN105514156A
公开(公告)日:2016-04-20
申请号:CN201610019752.1
申请日:2016-01-13
Applicant: 中国科学院上海技术物理研究所
IPC: H01L29/778 , H01L29/205 , H01L29/423 , H01L21/335 , H01L21/28
CPC classification number: H01L29/7781 , H01L29/205 , H01L29/42356 , H01L29/66462
Abstract: 本发明公开了一种具有异质结结构的GaN基p型场效应管及制备方法,以具有p型AlGaN材料以及p型GaN材料的多层材料为基体材料。利用电子束蒸发依次生长Ni、Au、Ni和Au形成多层金属,作为器件的源端电极和漏端电极。为了精确控制栅长为2μm的区域,利用ICP刻蚀钝化层,然后用电子束蒸发生长的单层金属Au作为器件的栅电极。本发明的优点在于:利用p型GaN与p型AlGaN形成异质结处高浓度的二维空穴气,提高p型器件的电学性能;所用的外延材料以及工艺与制备日盲紫外器件兼容,为制备有源紫外器件打下了技术基础。
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公开(公告)号:CN205376534U
公开(公告)日:2016-07-06
申请号:CN201620028540.5
申请日:2016-01-13
Applicant: 中国科学院上海技术物理研究所
IPC: H01L29/778 , H01L29/205 , H01L29/423 , H01L21/335 , H01L21/28
Abstract: 本专利公开了一种具有异质结结构的GaN基p型场效应管,以具有p型AlGaN材料以及p型GaN材料的多层材料为基体材料。利用电子束蒸发依次生长Ni、Au、Ni和Au形成多层金属,作为器件的源端电极和漏端电极。为了精确控制栅长为2μm的区域,利用ICP刻蚀钝化层,然后用电子束蒸发生长的单层金属Au作为器件的栅电极。本专利的优点在于:利用p型GaN与p型AlGaN形成异质结处高浓度的二维空穴气,提高p型器件的电学性能;所用的外延材料以及工艺与制备日盲紫外器件兼容,为制备有源紫外器件打下了技术基础。
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