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公开(公告)号:CN101769941A
公开(公告)日:2010-07-07
申请号:CN201010101896.4
申请日:2010-01-27
Applicant: 中国科学院上海技术物理研究所
IPC: G01Q60/30
Abstract: 本发明公开了一种GaN基光伏探测器器件结构的电子学检测方法,该方法是通过测量导电探针与器件结构剖面以及上表面的电位差并进行定标,得出器件结构的表面能带分布;再对得到的表面能带分布进行数值拟合,给出所测台面器件结构的表面电荷密度分布、表面及体内的电场分布等信息。本方法可以对GaN基光伏型探测器件功能材料各个区域的电子学分布特性给予直观的评估;对于改善GaN基光伏探测器件性能和优化器件设计都有重要价值。
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公开(公告)号:CN101769941B
公开(公告)日:2013-04-17
申请号:CN201010101896.4
申请日:2010-01-27
Applicant: 中国科学院上海技术物理研究所
IPC: G01Q60/30
Abstract: 本发明公开了一种GaN基光伏探测器器件结构的电子学检测方法,该方法是通过测量导电探针与器件结构剖面以及上表面的电位差并进行定标,得出器件结构的表面能带分布;再对得到的表面能带分布进行数值拟合,给出所测台面器件结构的表面电荷密度分布、表面及体内的电场分布等信息。本方法可以对GaN基光伏型探测器件功能材料各个区域的电子学分布特性给予直观的评估;对于改善GaN基光伏探测器件性能和优化器件设计都有重要价值。
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公开(公告)号:CN101551294B
公开(公告)日:2010-11-17
申请号:CN200910050313.7
申请日:2009-04-30
Applicant: 中国科学院上海技术物理研究所
Abstract: 本发明公开了一种检测光照下半导体光探测器件表面漏电通道的方法,该方法是通过测量不同光照强度下器件表面的电容微分信号,判断由光照引起的表面反型层即表面漏电通道的存在。结合测量数据,通过相应的数值模拟,得出测量区域具体漏电通道的大小。利用本方法可以直接、明确地得出器件具体的表面漏电特性,从而为器件漏电的抑制提供有针对性的参数。本发明对于改善器件性能和优化器件设计都有着十分重要的意义。
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公开(公告)号:CN102175727B
公开(公告)日:2013-01-09
申请号:CN201110008829.2
申请日:2011-01-14
Applicant: 中国科学院上海技术物理研究所
Abstract: 本发明公开了一种半导体材料器件中低背景载流子浓度的测定方法,包括步骤:测量待定区域表面的平带电压和光激发条件下的微分电容响应,待测定及邻近区域的数值建模,比较数值模型拟合和实际测量的待测定区域光激发条件下表面微分电容确定平衡载流子浓度。该方法适用于具有复杂结构的半导体材料或器件中背景载流子浓度低于1015cm-3特定功能区域的精确测定,并且能够对集成或阵列器件中单个微观区块实施检测。
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公开(公告)号:CN101545884A
公开(公告)日:2009-09-30
申请号:CN200910050316.0
申请日:2009-04-30
Applicant: 中国科学院上海技术物理研究所
Abstract: 本发明公开了一种InGaAs/InP平面型光电探测器扩散结的检测方法,包括步骤:待测晶片或器件经过扩散区域的剖面试样制备,剖面上扩散区及其附近区域微分电容显微分布的侦测,由微分电容显微分布特征确定PN结的位置和扩散深度。该方法适用于小尺寸的扩散窗口和平面型光电探测器光敏单元检测,空间分辨高并能提供侧向扩散深度的信息。
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公开(公告)号:CN102175727A
公开(公告)日:2011-09-07
申请号:CN201110008829.2
申请日:2011-01-14
Applicant: 中国科学院上海技术物理研究所
Abstract: 本发明公开了一种半导体材料器件中低背景载流子浓度的测定方法,包括步骤:测量待定区域表面的平带电压和光激发条件下的微分电容响应,待测定及邻近区域的数值建模,比较数值模型拟合和实际测量的待测定区域光激发条件下表面微分电容确定平衡载流子浓度。该方法适用于具有复杂结构的半导体材料或器件中背景载流子浓度低于1015cm-3特定功能区域的精确测定,并且能够对集成或阵列器件中单个微观区块实施检测。
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公开(公告)号:CN101551294A
公开(公告)日:2009-10-07
申请号:CN200910050313.7
申请日:2009-04-30
Applicant: 中国科学院上海技术物理研究所
Abstract: 本发明公开了一种检测光照下半导体光探测器件表面漏电通道的方法,该方法是通过测量不同光照强度下器件表面的电容微分信号,判断由光照引起的表面反型层即表面漏电通道的存在。结合测量数据,通过相应的数值模拟,得出测量区域具体漏电通道的大小。利用本方法可以直接、明确地得出器件具体的表面漏电特性,从而为器件漏电的抑制提供有针对性的参数。本发明对于改善器件性能和优化器件设计都有着十分重要的意义。
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