-
公开(公告)号:CN1176381A
公开(公告)日:1998-03-18
申请号:CN96116505.7
申请日:1996-09-12
Applicant: 中国科学院上海技术物理研究所
IPC: G01N21/17
Abstract: 本发明提供了一种在超高真空条件下非接触式的原位AlxGa1-xAs组分检测技术,它把分子束外延系统的超高真空条件,与调制光谱系统有机地结合起来,形成了一个测量AlxGa1-xAs薄膜Al组分的准确有效的方法,本发明介绍了该系统的结构,包括光路结构与分子束外延系统的结合,及测量控制系统与数据采集系统,在硬件及软件上形成一整套完善的系统,尤其适宜于对超薄层及对有多层复杂结构的AlxGa1-xAs生长过程中在位组分检测。
-
公开(公告)号:CN1088190C
公开(公告)日:2002-07-24
申请号:CN96116505.7
申请日:1996-09-12
Applicant: 中国科学院上海技术物理研究所
IPC: G01N21/17
Abstract: 本发明提供了一种在超高真空条件下非接触式的原位AlxGa1-xAs组分检测技术,它把分子束外延系统的超高真空条件,与调制光谱系统有机地结合起来,形成了一个测量AlxGa1-xAs薄膜Al组分的准确有效的方法,本发明介绍了该系统的结构,包括光路结构与分子束外延系统的结合,及测量控制系统与数据采集系统,在硬件及软件上形成一整套完善的系统,尤其适宜于对超薄层及对有多层复杂结构的AlxGa1-xAs生长过程中在位组分检测。
-