一种锥形镜锥角的检测装置和方法

    公开(公告)号:CN108332686B

    公开(公告)日:2019-12-03

    申请号:CN201810078326.4

    申请日:2018-01-26

    Abstract: 一种锥形镜的锥角检测装置,包括干涉仪,球面标准镜,五维调整架,精密移动台,精密位移测量传感器;从所述的干涉仪输出的平面波方向依次是同光轴的球面标准镜,待测锥形镜和精密位移测量传感器;所述待测锥形镜固定在所述五维调整架上,该五维调整架置于所述精密移动台上,该精密位移测量传感器测量所述的精密移动台的移动量,通过移动锥形镜得到两次干涉结果,通过相位差计算出待测锥形镜的锥角。本发明具有装置结构简单,操作方便,测量精度高,通用性高的优点。

    光学成像系统倍率与畸变高精度测量装置及测量方法

    公开(公告)号:CN108106818B

    公开(公告)日:2020-04-03

    申请号:CN201711310720.8

    申请日:2017-12-11

    Abstract: 本发明公开了一种光学成像系统倍率与畸变高精度测量装置,包括至少两个点光源、面阵探测器、物方工作台、像方工作台,其中:由物方工作台承载的两个点光源位于待测光学成像系统的物方视场内,出射光来自同一光源并可相互干涉;而由像方工作台承载的面阵探测器位于待测光学成像系统的像方区域。采用上述装置测量待测光学成像系统的倍率与畸变:首先,测量成像系统中心视场沿物方工作台X和Y方向的倍率作为这两个方向上的理想倍率βx0和βy0;然后,通过测量相邻两个点光源间距及其经过成像系统后所成的两个像点间距,得到成像系统全视场X和Y方向的倍率分布;最后利用各视场点的倍率和坐标值,得到全视场X和Y方向上相对畸变分布。

    双点光源间距的纳米精度测量方法

    公开(公告)号:CN107462179B

    公开(公告)日:2019-05-17

    申请号:CN201710547369.8

    申请日:2017-07-06

    Abstract: 一种双点光源间距的纳米精度测量方法,将面阵探测器放置在两个点光源下方,建立双点光源干涉场的数学模型,通过控制点光源的开闭并结合图像处理技术,获得点光源间距的粗测值,然后保持两个点光源均打开,采集两个点光源的干涉图,求解干涉相位,按照面阵探测器坐标系,对得到的干涉相位进行泽尼克多项式前9项拟合得到泽尼克多项式系数值。通过计算像差项系数的偏导数,并结合面阵探测器采集到的干涉相位拟合泽尼克多项式的系数值,利用偏导数的定义实现对点光源间距d、点光源的连线中心与面阵探测器光敏面的垂直距离Z、面阵探测器旋转角度θ和面阵探测器倾斜角γ的修正。通过迭代计算,得到点光源间距d的精确值,实现两点光源间距的纳米精度测量。

    光学成像系统倍率与畸变高精度测量装置及测量方法

    公开(公告)号:CN108106818A

    公开(公告)日:2018-06-01

    申请号:CN201711310720.8

    申请日:2017-12-11

    Abstract: 本发明公开了一种光学成像系统倍率与畸变高精度测量装置,包括至少两个点光源、面阵探测器、物方工作台、像方工作台,其中:由物方工作台承载的两个点光源位于待测光学成像系统的物方视场内,出射光来自同一光源并可相互干涉;而由像方工作台承载的面阵探测器位于待测光学成像系统的像方区域。采用上述装置测量待测光学成像系统的倍率与畸变:首先,测量成像系统中心视场沿物方工作台X和Y方向的倍率作为这两个方向上的理想倍率βx0和βy0;然后,通过测量相邻两个点光源间距及其经过成像系统后所成的两个像点间距,得到成像系统全视场X和Y方向的倍率分布;最后利用各视场点的倍率和坐标值,得到全视场X和Y方向上相对畸变分布。

    一种锥形镜锥角的检测装置和方法

    公开(公告)号:CN108332686A

    公开(公告)日:2018-07-27

    申请号:CN201810078326.4

    申请日:2018-01-26

    Abstract: 一种锥形镜的锥角检测装置,包括干涉仪,球面标准镜,五维调整架,精密移动台,精密位移测量传感器;从所述的干涉仪输出的平面波方向依次是同光轴的球面标准镜,待测锥形镜和精密位移测量传感器;所述待测锥形镜固定在所述五维调整架上,该五维调整架置于所述精密移动台上,该精密位移测量传感器测量所述的精密移动台的移动量,通过移动锥形镜得到两次干涉结果,通过相位差计算出待测锥形镜的锥角。本发明具有装置结构简单,操作方便,测量精度高,通用性高的优点。

    双点光源间距的纳米精度测量方法

    公开(公告)号:CN107462179A

    公开(公告)日:2017-12-12

    申请号:CN201710547369.8

    申请日:2017-07-06

    CPC classification number: G01B11/14 G01B11/002

    Abstract: 一种双点光源间距的纳米精度测量方法,将面阵探测器放置在两个点光源下方,建立双点光源干涉场的数学模型,通过控制点光源的开闭并结合图像处理技术,获得点光源间距的粗测值,然后保持两个点光源均打开,采集两个点光源的干涉图,求解干涉相位,按照面阵探测器坐标系,对得到的干涉相位进行泽尼克多项式前9项拟合得到泽尼克多项式系数值。通过计算像差项系数的偏导数,并结合面阵探测器采集到的干涉相位拟合泽尼克多项式的系数值,利用偏导数的定义实现对点光源间距d、点光源的连线中心与面阵探测器光敏面的垂直距离Z、面阵探测器旋转角度θ和面阵探测器倾斜角γ的修正。通过迭代计算,得到点光源间距d的精确值,实现两点光源间距的纳米精度测量。

Patent Agency Ranking