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公开(公告)号：CN101696485A
公开(公告)日：2010-04-21
申请号：CN200910164224.5
申请日：2009-08-21
Applicant: 中国核动力研究设计院
Abstract: 本发明提供了一种Zr-Sn、Zr-Sn-Nb合金板材的再加工工艺，通过对锆合金成品板材进行预处理、热轧、冷轧及退火等工序再加工后，使得锆合金板材之间具有良好冶金结合性能，最大限度地减小或避免了再加工对板材显微组织、耐腐蚀及力学性能的影响。
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公开(公告)号：CN101629276A
公开(公告)日：2010-01-20
申请号：CN200910060257.5
申请日：2009-08-05
Applicant: 中国核动力研究设计院
Abstract: 本发明属于材料制造技术领域，提供了一种锆钇合金靶件的制备方法。本发明的制备方法是通过真空感应熔炼，在熔炼过程充氩抑制挥发，加热炉保温浇注成型制成锆钇合金锭，再通过包覆热轧、淬火热处理、去应力退火热处理得到锆钇合金靶件。本发明的制备方法制备的锆钇合金靶件金属钇质量含量为5％～20％，钇均匀性偏差在±1％以内，密度大于98％TD(理论密度)，晶粒度在5级以上，可用于电弧离子镀和反应磁控溅射制备氧化钇稳定氧化锆(YSZ)涂层，满足电弧离子镀和反应磁控溅射制备优良氧化钇稳定的氧化锆(YSZ)涂层对靶件的技术要求。
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公开(公告)号：CN101629276B
公开(公告)日：2010-12-29
申请号：CN200910060257.5
申请日：2009-08-05
Applicant: 中国核动力研究设计院
Abstract: 本发明属于材料制造技术领域，提供了一种锆钇合金靶件的制备方法。本发明的制备方法是通过真空感应熔炼，在熔炼过程充氩抑制挥发，加热炉保温浇注成型制成锆钇合金锭，再通过包覆热轧、淬火热处理、去应力退火热处理得到锆钇合金靶件。本发明的制备方法制备的锆钇合金靶件金属钇质量含量为5％～20％，钇均匀性偏差在±1％以内，密度大于98％TD(理论密度)，晶粒度在5级以上，可用于电弧离子镀和反应磁控溅射制备氧化钇稳定氧化锆(YSZ)涂层，满足电弧离子镀和反应磁控溅射制备优良氧化钇稳定的氧化锆(YSZ)涂层对靶件的技术要求。
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公开(公告)号：CN205085122U
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：CN201520791049.3
申请日：2015-10-14
Applicant: 中国核动力研究设计院
IPC: B08B13/00
Abstract: 本实用新型公开了一种限位式表面清洗处理专用清洗挂具，包括内部中空且两端开口的底支撑框，所述底支撑框的空腔中设置有两组相互平行的限位机构，限位机构与底支撑框的空腔内壁和顶面固定，限位机构主要由限位架以及设置在限位架上的限位槽构成，限位架的侧壁与底支撑框的空腔内壁和顶面固定，限位槽为限位架端面内凹形成的若干个凹槽结构，并且限位槽与限位架中朝向底支撑框内部的侧壁连通，在其中一组限位架上的限位槽对应与另一组限位架的限位槽设置在同一水平线上。该挂具改善了表面酸洗处理质量、减少了酸液消耗量和提高了表面处理生产效率。
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公开(公告)号：CN205032464U
公开(公告)日：2016-02-17
申请号：CN201520790996.0
申请日：2015-10-14
Applicant: 中国核动力研究设计院
Abstract: 本实用新型公开了一种卡槽式表面清洗处理专用清洗挂具，包括内部中空且两端开口的边支撑框，所述边支撑框的空腔中设置有两组相互平行的卡紧机构，卡紧机构与边支撑框固定，卡紧机构主要由支撑架、卡紧柱以及疏水台构成，支撑架的侧壁与边支撑框的空腔内壁接触，卡紧柱设置在支撑架的内壁中，在同一支撑架中的卡紧柱的中心线设置在同一直线上，且卡紧柱的底端与支撑架的内壁底面固定，疏水台设置在卡紧柱之间，疏水台的底端与支撑架的内壁底面固定，且疏水台分别与靠近的卡紧柱侧壁固定。该装置改善了表面酸洗处理质量、减少酸液消耗量和提高表面处理生产效率。
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