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公开(公告)号：CN109323759B
公开(公告)日：2020-11-24
申请号：CN201811359327.2
申请日：2018-11-15
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G01J1/02
Abstract: 本发明公开了一种提高激光倍频系统温度主动跟随补偿精度的方法，倍频晶体的最佳匹配角是针对某一温度设定，外界环境的温度波动将会引起晶体匹配角失谐，倍频效率下降。本发明基于倍频晶体温度实时检测、角度动态调节的方法，从晶体温度探测方法、晶体匹配角随温度变化规律及角度调节机构等方面进行了优化，建立了系统精确的激光倍频系统温度主动跟随补偿技术。本发明提高了该技术晶体最佳匹配角的控制精度，为大口径高功率激光高效稳定输出奠定了基础。
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公开(公告)号：CN109683309A
公开(公告)日：2019-04-26
申请号：CN201811486222.3
申请日：2018-12-06
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G02B27/00
CPC classification number: G02B27/00
Abstract: 本发明公开了一种用于改善真空窗口元件激光诱发损伤的系统和方法，属于高功率激光装置研究与设计领域。该系统沿光路方向依次包括：聚焦透镜(2)、真空窗口(3)、真空靶室(6)、第二屏蔽片(9)、第一屏蔽片(4)；所述聚焦透镜(2)将入射主激光(1)汇聚于真空靶室(6)的焦平面(5)上，真空窗口(3)用于隔离靶室的真空环境(8)和终端系统的大气环境(7)。本发明提出的系统和方法实现了真空窗口多种需求的功能分离，从而可针对性地对真空窗口的使用环境进行管控；增加屏蔽片作为耗材承担真空面易损伤的特性，能将真空窗口和屏蔽片之间形成低压密闭动态的气体环境，可进一步提升真空窗口元件的使用寿命，为含真空腔体的光学和结构设计提供了技术指导。
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公开(公告)号：CN105927858B
公开(公告)日：2017-12-15
申请号：CN201610306547.3
申请日：2016-05-11
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明提供了一种放置在真空环境的玻璃隔板的防爆破方法。该方法利用真空规管、真空开关、高真空电磁阀、安全爆破片的特点，结合PLC控制系统软硬件，充分考虑到各种潜在的安全隐患，在抽气流程、放气流程、保压工作流程中，在整个真空度5×102Pa~1×105 Pa的范围内实施防爆破。特别是在保压流程中进行了四级实时保护，第一级是声光报警保护，第二级是PLC程序自动控制开阀保护，第三级是真空开关电气硬件控制开阀泄压防护，第四级则完全由机械爆破片泄压实现安全防护。本发明的放置在真空环境的玻璃隔板的防爆破方法具有安全性好、响应快、可靠性高的优点，对处于复杂而特殊的真空环境中的玻璃隔板起到了很好的安全保护作用。
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公开(公告)号：CN106448748A
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201610793917.0
申请日：2016-08-31
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G21B1/19
Abstract: 本发明公开了一种激光瞄准定位装置，该装置在激光装置激光发射打靶前，先将激光束进行波前校正，然后将激光光点精确定位到实验靶预先设定的弹着点位置，最后发射激光打靶。本发明通过保护仓将激光束靶耦合单元和激光波前校正测试单元集成到一体，由保护仓的防护门作为进出通道，激光束靶耦合单元和激光波前校正测试单元的进出运动通过电气控制系统进行互锁安全控制。本发明的装置具有体积小、结构简单、成本低、装校容易，无需专人定期维护等优点，尤其在激光打靶时能有效自保护，以此实现长期重复使用，特别适用于激光装置真空靶室中，实验靶和靶座体积庞大，打靶时有强电磁干扰、大量高压蒸汽和高速碎片产生的恶劣环境中的激光瞄准定位打靶。
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公开(公告)号：CN110336181B
公开(公告)日：2024-02-13
申请号：CN201910716378.4
申请日：2019-08-05
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: H01S3/109
Abstract: 本发明公开了一种利用倍频系统实现会聚光束高效四倍频的方法，本发明中基频光通过二倍频晶体转化为二倍频光，然后利用聚焦透镜将二倍频光束会聚，在二倍频会聚光束后放置四倍频DKDP晶体实现光束的四倍频，该DKDP晶体氘含量沿z轴方向连续变化，通过设计DKDP晶体氘含量的变化梯度可以匹配不同F数聚焦的需求，且通过温控系统控制DKDP晶体的温度，使得四倍频过程中晶体上各点实现相位匹配，从而获得会聚光束的高效四倍频输出。本发明可以显著提高会聚光束四倍频转换效率，改善四倍频光束质，解决聚焦透镜前置方案的局限性，为提升高功率激光系统负载能力奠定基础。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111336998A
公开(公告)日：2020-06-26
申请号：CN202010187981.0
申请日：2020-03-17
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G01C15/00
Abstract: 本发明公开了一种高功率激光束弹着点误差的检测方法，包括以下步骤根据需要检测的弹着点数量及光束焦斑尺寸，选择相匹配的金属刻线靶；使用靶面传感器在靶室中心定位金属刻线靶，并将金属刻线靶固定，使用靶面传感器的CCD分别测量上下入射激光在靶上的位置；打靶时，金属刻线靶上的纵横画线交点作为激光束的瞄准点，入射激光烧蚀金属刻线靶，并在金属刻线靶上形成弹着点痕迹，使用靶面传感器的CCD记录弹着点图像，该图像包含焦斑和瞄准点的位置特征；对图像进行处理，得到实际的激光打靶弹着点效果图，根据图像可得到激光束弹着点误差。本发明的高功率激光束弹着点误差的检测方法具有图像质量高，弹着点误差检测精度高的优点。
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公开(公告)号：CN108020535B
公开(公告)日：2020-03-24
申请号：CN201711228183.2
申请日：2017-11-29
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G01N21/65
Abstract: 本发明公开了一种测量DKDP晶体氘含量均匀性的方法。本发明利用ν1模拉曼频移作为表征DKDP晶体氘含量的参量，通过显微共聚焦拉曼光谱测量系统测量DKDP晶体不同位置ν1模的拉曼频移获得该晶体氘含量的空间分布，进而可以对其氘含量均匀性进行评估，该测量方法操作简便，降低了仪器测量误差、DKDP晶体表面氘含量衰减、数据处理误差及周围环境等因素的影响，实现了DKDP晶体氘含量均匀性的在线无损测量。
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公开(公告)号：CN110336181A
公开(公告)日：2019-10-15
申请号：CN201910716378.4
申请日：2019-08-05
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: H01S3/109
Abstract: 本发明公开了一种利用倍频系统实现会聚光束高效四倍频的方法，本发明中基频光通过二倍频晶体转化为二倍频光，然后利用聚焦透镜将二倍频光束会聚，在二倍频会聚光束后放置四倍频DKDP晶体实现光束的四倍频，该DKDP晶体氘含量沿z轴方向连续变化，通过设计DKDP晶体氘含量的变化梯度可以匹配不同F数聚焦的需求，且通过温控系统控制DKDP晶体的温度，使得四倍频过程中晶体上各点实现相位匹配，从而获得会聚光束的高效四倍频输出。本发明可以显著提高会聚光束四倍频转换效率，改善四倍频光束质，解决聚焦透镜前置方案的局限性，为提升高功率激光系统负载能力奠定基础。
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公开(公告)号：CN109622555A
公开(公告)日：2019-04-16
申请号：CN201811486698.7
申请日：2018-12-06
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种用于高功率终端光学系统的动态洁净维持系统和方法，属于高功率激光装置技术研究领域。所述系统包括层流单元和风刀单元；所述层流单元用于提供动态洁净层流，所述风刀单元用于提供高压风刀气帘。高功率终端光学系统在长期运行中会在其内部的光学元件表面沉积打靶产生的粉尘和气溶胶污染物，导致光学元件的寿命大大缩短，终端光学元件的洁净控制已经成为限制装置高通量运行的瓶颈，本发明因此提出了风刀气帘防护与洁净层流防护相耦合实现光学元件表面洁净管控的技术措施，可防止打靶产生的粉尘和气溶胶污染物附着于光学元件表面，并将其及时排出终端光学系统，因而可长期维持终端光学系统内光学元件表面的洁净。
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公开(公告)号：CN106448748B
公开(公告)日：2018-01-23
申请号：CN201610793917.0
申请日：2016-08-31
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G21B1/19
CPC classification number: Y02E30/16
Abstract: 本发明公开了一种激光瞄准定位装置，该装置在激光装置激光发射打靶前，先将激光束进行波前校正，然后将激光光点精确定位到实验靶预先设定的弹着点位置，最后发射激光打靶。本发明通过保护仓将激光束靶耦合单元和激光波前校正测试单元集成到一体，由保护仓的防护门作为进出通道，激光束靶耦合单元和激光波前校正测试单元的进出运动通过电气控制系统进行互锁安全控制。本发明的装置具有体积小、结构简单、成本低、装校容易，无需专人定期维护等优点，尤其在激光打靶时能有效自保护，以此实现长期重复使用，特别适用于激光装置真空靶室中，实验靶和靶座体积庞大，打靶时有强电磁干扰、大量高压蒸汽和高速碎片产生的恶劣环境中的激光瞄准定位打靶。
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