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公开(公告)号：CN110227968B
公开(公告)日：2020-08-21
申请号：CN201910410490.5
申请日：2019-05-16
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了基于小波变换的磁流变去除函数寄生条纹消除方法及装置，该方法能够准确去除寄生条纹，达到磁流变去除函数的精确提取，适用范围广，对于传统频域带阻滤波无法解决的寄生条纹和原始数据频谱严重混叠的情况，仍然适用，是一种较好的寄生条纹去除方法，可以有效应用于消除磁流变去除函数寄生条纹，实现磁流变去除函数的准确提取。同时也可以较好的用于其它超精密加工方式,如气囊抛光、离子束抛光等的去除函数寄生条纹的消除，便于推广应用。
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公开(公告)号：CN115638959A
公开(公告)日：2023-01-24
申请号：CN202211262261.1
申请日：2022-10-14
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G01M11/02
Abstract: 本发明公开了一种适用于大口径高陡度非球面的高精度补偿器，包括：沿同一光轴依次设置的补偿镜和场镜组，补偿镜用于平衡待测非球面的初级球差，场镜组用于将补偿镜成像在待测非球面上，并平衡待测非球面的高级球差，场镜组包括沿光轴依次设置的第一场镜和第二场镜。本发明可以实现非球面高精度检测，为同等难度及其以下的非球面高精度检测提供了一种有效的初始结构。
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公开(公告)号：CN110245384A
公开(公告)日：2019-09-17
申请号：CN201910407038.3
申请日：2019-05-16
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G06F17/50
Abstract: 本发明公开了一种基于特征频谱带阻滤波的寄生条纹消除方法及装置，该方法包括：获取含有寄生条纹的干涉仪采斑测量面形数据矩阵f(x,y)；计算寄生条纹的相关参数和所述面形数据矩阵f(x,y)频谱放大倍数N；根据所述相关参数和放大倍数N，对寄生条纹的频谱和频域特征进行处理，生成频谱数据；对所述频谱数据进行FFT反变换，得到消除寄生条纹的面形数据。该方法只消除寄生条纹的频谱，完全保留去除函数自身频谱，不会改变去除函数自身形态，使得在滤除寄生条纹的同时，去除函数自身形态得到了保持，提高了磁流变去除函数的提取精度。
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公开(公告)号：CN110237755A
公开(公告)日：2019-09-17
申请号：CN201910551348.2
申请日：2019-06-24
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种抛光磁流变液搅拌匀滑装置，包括：箱体支架、中心轴、旋转桶、连接架和电机；中心轴上安装有连接架，并且两端通过轴承安装在箱体支架上；旋转桶通过连接架均匀分布在圆周方向上；且相邻旋转桶之间通过桶端连接架相连；旋转桶用于放置储液瓶；且储液瓶和旋转桶之间存在间隙；电机带动中心轴转动。通过公转和自转效应，最终实现磁流变液搅拌均匀。
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公开(公告)号：CN110245317B
公开(公告)日：2022-03-15
申请号：CN201910407648.3
申请日：2019-05-16
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种磁流变抛光去除函数的提取方法及装置，该方法包括：获取基片元件采斑前和采斑后的面形检测数据；所述基片元件边缘处带有位置标记；根据所述采斑前、采斑后的面形检测数据及基片元件的位置标记，计算得残差数据；对所述残差数据进行中值滤波处理；对滤波处理后的残差数据，采用椭圆弧逼近去除函数轮廓，生成多个含有相同参数的去除函数；对所述多个含有相同参数的去除函数，执行数据偏移、求平均操作，提取去除函数。该方法能够准确提取磁流变抛光去除函数，提高去除函数准确性与磁流变加工精度。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110238708A
公开(公告)日：2019-09-17
申请号：CN201910539278.9
申请日：2019-06-20
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种磁流变抛光机床磁流变液循环系统，包括：储液罐、第一蠕动泵和变径背压管路；所述第一蠕动泵的一端与所述储液罐相连，另一端与所述变径背压管路相连，所述变径背压管路的末端连接喷嘴；所述喷嘴对准抛光轮；其中，所述变径背压管路中设置有脉冲阻尼器，且所述变径背压管路的管径从大逐渐变小，然后再逐渐变大。利用脉冲阻尼器消除大尺度的流量波动，利用变径背压管路进一步消除小尺度磁流变流量脉冲，使得磁流变液流量稳定，即便在低流量工况下也具有很高的控制精度。
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公开(公告)号：CN110227968A
公开(公告)日：2019-09-13
申请号：CN201910410490.5
申请日：2019-05-16
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了基于小波变换的磁流变去除函数寄生条纹消除方法及装置，该方法能够准确去除寄生条纹，达到磁流变去除函数的精确提取，适用范围广，对于传统频域带阻滤波无法解决的寄生条纹和原始数据频谱严重混叠的情况，仍然适用，是一种较好的寄生条纹去除方法，可以有效应用于消除磁流变去除函数寄生条纹，实现磁流变去除函数的准确提取。同时也可以较好的用于其它超精密加工方式,如气囊抛光、离子束抛光等的去除函数寄生条纹的消除，便于推广应用。
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公开(公告)号：CN110237755B
公开(公告)日：2024-08-09
申请号：CN201910551348.2
申请日：2019-06-24
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: B01F29/321 , B01F29/34 , B01F35/30 , B01F35/32 , B01F35/43
Abstract: 本发明公开了一种抛光磁流变液搅拌匀滑装置，包括：箱体支架、中心轴、旋转桶、连接架和电机；中心轴上安装有连接架，并且两端通过轴承安装在箱体支架上；旋转桶通过连接架均匀分布在圆周方向上；且相邻旋转桶之间通过桶端连接架相连；旋转桶用于放置储液瓶；且储液瓶和旋转桶之间存在间隙；电机带动中心轴转动。通过公转和自转效应，最终实现磁流变液搅拌均匀。
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公开(公告)号：CN110134915B
公开(公告)日：2022-02-18
申请号：CN201910411413.1
申请日：2019-05-16
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种磁流变抛光驻留时间的处理方法及装置，该方法通过采用驻留点矩阵的方法，保持了在卷积计算时矩阵E、P的整体连续性，因此在计算卷积时，可以采用更高效的卷积计算方法；同时该方法从机床动态性能匹配的角度出发，实现了驻留时间计算过程中速度、加速度、速度匀滑性的有效控制，使得驻留时间计算方法具有面形收敛精度高、计算速度快与机床动态性能匹配等优点，适用于磁流变加工中驻留时间的求解，尤其是在大规模计算时相比于矩阵法具有较高的计算效率，是一种有效的驻留时间计算方法，可以提高磁流变加工的面形收敛精度，是值得推广的一种驻留时间计算方法。
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公开(公告)号：CN110394693B
公开(公告)日：2021-03-09
申请号：CN201910621157.9
申请日：2019-07-10
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种基于磁流变加工的连续型螺旋相位板制备方法，基于梯度匹配方法选择磁流变去除函数，并利用磁流变加工技术去除函数尺寸小、修形能力强、加工确定性高的特点，直接在基本光学元件表面加工出螺旋相位板的设计图案，该方法具有工艺简单、加工精度高、成形效率高等优点。
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