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发明公开
成像光电系统光谱响应非均匀性测量方法有权

公开(公告)号：CN103105286A

公开(公告)日：2013-05-15

申请号：CN201310026239.1

申请日：2013-01-24

Applicant: 中国兵器工业第二〇五研究所

Inventor： 范纪红 , 俞兵 , 侯西旗 , 袁良 , 李琪 , 卢飞 , 秦艳

IPC: G01M11/02

Abstract: 本发明公开了一种成像光电系统光谱响应非均匀性测量方法，属于光学计量测试领域。该方法利用可调谐激光光源、激光稳功率控制器结合积分球形成比较稳定的均匀的激光束，均匀的激光束经过准直透镜准直后由均匀性补偿器对准直的激光束进行均匀性修正，再由带有二维扫描机构的类针孔辐射计对修正后的均匀激光束进行均匀性测量，然后根据被测成像光电系统的像元数通过算法对激光束的均匀性数组进行匀滑处理，得到被测成像光电系统每个像元对应的修正系数，从而实现成像光电系统不同波长处的光谱响应非均匀性测量。该方法解决了目前成像光电系统光谱响应非均匀性的测量难题，具有测量准确度高，应用前景广的特点。

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