高反射比、高透射比光学测量装置

    公开(公告)号:CN101923000A

    公开(公告)日:2010-12-22

    申请号:CN201010225957.8

    申请日:2010-07-13

    Abstract: 本发明公开了一种高反射比、高透射比光学测量装置,属于光学计量测试领域。该装置包括光源组件,激光稳功率单元,含有楔形分束镜和陷阱探测器的监视系统,含有积分球探测器的探测系统及装有测量软件包的计算机;光源组件输出的激光经激光稳功率单元后形成不稳定性小于0.01%的稳定光束,该光束被楔形分束镜分成两束光,一束光由陷阱探测器接收,另一束光经被测样品后由积分球探测器接收,陷阱探测器和积分球探测器的输出送入计算机;计算机对接收的信号进行相应的处理,最终给出被测样品反射比或透射比的测量结果。本发明解决了光学元件高反射比和高透射比的精确测量问题,其测量范围为99.5%~99.99%,具有测量准确度高,重复性好,应用前景广的特点。

    高反射比、高透射比光学测量装置

    公开(公告)号:CN101923000B

    公开(公告)日:2012-07-25

    申请号:CN201010225957.8

    申请日:2010-07-13

    Abstract: 本发明公开了一种高反射比、高透射比光学测量装置,属于光学计量测试领域。该装置包括光源组件,激光稳功率单元,含有楔形分束镜和陷阱探测器的监视系统,含有积分球探测器的探测系统及装有测量软件包的计算机;光源组件输出的激光经激光稳功率单元后形成不稳定性小于0.01%的稳定光束,该光束被楔形分束镜分成两束光,一束光由陷阱探测器接收,另一束光经被测样品后由积分球探测器接收,陷阱探测器和积分球探测器的输出送入计算机;计算机对接收的信号进行相应的处理,最终给出被测样品反射比或透射比的测量结果。本发明解决了光学元件高反射比和高透射比的精确测量问题,其测量范围为99.5%~99.99%,具有测量准确度高,重复性好,应用前景广的特点。

    成像光电系统光谱响应非均匀性测量方法

    公开(公告)号:CN103105286A

    公开(公告)日:2013-05-15

    申请号:CN201310026239.1

    申请日:2013-01-24

    Abstract: 本发明公开了一种成像光电系统光谱响应非均匀性测量方法,属于光学计量测试领域。该方法利用可调谐激光光源、激光稳功率控制器结合积分球形成比较稳定的均匀的激光束,均匀的激光束经过准直透镜准直后由均匀性补偿器对准直的激光束进行均匀性修正,再由带有二维扫描机构的类针孔辐射计对修正后的均匀激光束进行均匀性测量,然后根据被测成像光电系统的像元数通过算法对激光束的均匀性数组进行匀滑处理,得到被测成像光电系统每个像元对应的修正系数,从而实现成像光电系统不同波长处的光谱响应非均匀性测量。该方法解决了目前成像光电系统光谱响应非均匀性的测量难题,具有测量准确度高,应用前景广的特点。

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