一种基于AOTF和强度调制高速高光谱全偏振成像装置及方法

    公开(公告)号:CN109115339B

    公开(公告)日:2021-04-20

    申请号:CN201810469091.1

    申请日:2018-05-16

    Applicant: 中北大学

    Abstract: 本发明涉及光谱偏振成像技术领域,更具体而言,涉及一种基于AOTF和强度调制的高速高光谱全偏振成像方法及装置,该装置通过在AOTF前加两个相位延迟器对被测光谱进行偏振强度调制,对AOTF获得偏振强度调制后的光谱进行傅里叶反变换,得到自相关函数,使Stokes参量各元素调制在不同频段上,截取对应频段信号进行解调获得Stokes参量各元素光谱,结合AOTF光谱成像实现高速高光谱全偏振成像测量。该方法偏振解调过程为纯数学计算过程,在测量中偏振调制无需额外花费时间,整个光谱全偏振成像时间与普通AOTF光谱成像时间相当,提高了系统的时间分辨率。

    一种基于AOTF和强度调制高速高光谱全偏振成像装置及方法

    公开(公告)号:CN109115339A

    公开(公告)日:2019-01-01

    申请号:CN201810469091.1

    申请日:2018-05-16

    Applicant: 中北大学

    Abstract: 本发明涉及光谱偏振成像技术领域,更具体而言,涉及一种基于AOTF和强度调制的高速高光谱全偏振成像方法及装置,该装置通过在AOTF前加两个相位延迟器对被测光谱进行偏振强度调制,对AOTF获得偏振强度调制后的光谱进行傅里叶反变换,得到自相关函数,使Stokes参量各元素调制在不同频段上,截取对应频段信号进行解调获得Stokes参量各元素光谱,结合AOTF光谱成像实现高速高光谱全偏振成像测量。该方法偏振解调过程为纯数学计算过程,在测量中偏振调制无需额外花费时间,整个光谱全偏振成像时间与普通AOTF光谱成像时间相当,提高了系统的时间分辨率。

    一种基于偏振多样性与角度多样性结合的激光消散斑装置

    公开(公告)号:CN110082928B

    公开(公告)日:2022-01-11

    申请号:CN201910359541.6

    申请日:2019-04-30

    Applicant: 中北大学

    Abstract: 本发明涉及激光显示技术领域,更具体而言,涉及一种基于偏振多样性与角度多样性结合的激光消散斑装置,沿光路依次设置激光器、准直透镜、合束镜、基于偏振多样性的静态消散斑装置、基于角度多样性的静态消散斑装置、散射片、光通管、中继透镜、数字微镜器件、投影透镜组和观测屏。在光源部分加入相应波片,无需对激光显示系统做任何改变,就可通过非运动方式实现多种散斑抑制技术结合的激光散斑减少。根据激光投影系统的特性设计了激光散斑抑制方案,既不影响投影系统的整体结构,又能抑制激光散斑,结构简单、成本低、系统的一致性和稳定性高。

    一种双通道光栅位移测量方法

    公开(公告)号:CN109029272B

    公开(公告)日:2020-04-28

    申请号:CN201811240765.7

    申请日:2018-10-24

    Applicant: 中北大学

    Abstract: 本发明涉及高精度位移测量技术领域,更具体而言,涉及一种双通道光栅位移测量方法,通过改变传统亚波长双层光栅结构,实现两个相位相差90°的双通道光栅位移传感,结合反正切可实现大量程、全量程灵敏度一致的高精度位移测量。由于该方法可获得一个通道光强随位移为正弦三角函数、另一个通道光强光强随位移为余弦三角函数,并且光栅常数d为亚波长级别,结合高倍细分技术,可实现跟高位移灵敏度的探测。

    一种基于双PEM的中红外波片位相延迟精确测量方法

    公开(公告)号:CN105954014A

    公开(公告)日:2016-09-21

    申请号:CN201610560092.8

    申请日:2016-07-15

    Applicant: 中北大学

    CPC classification number: G01M11/02

    Abstract: 本发明涉及中红外波片位相延迟的测量技术领域,具体涉及一种基于双PEM的中红外波片位相延迟精确测量方法,是一种采用两个弹光调制器差频调制、可实现低速、高精度的中红外位相延迟测量方法;将中红外激光器、起偏器、PEM1调制器、被测中红外波片、PEM2调制器、检偏器、红外点探测器依次排列构成测量光路,双PEM驱动控制电路将PEM1调制器和PEM2调制器差频调制降低调制频率,使红外点探测器可进行有效探测,并将差频信号提供给数字锁相放大器,数字锁相放大器对红外点探测器获得的调制信号进行锁相放大,获得锁相频率信号的幅值,最后通过计算机数据处理获得被测中红外波片的位相延迟;本发明主要应用在中红外波片方面。

    一种基于MEMS微振镜和光栅的微型光谱成像装置

    公开(公告)号:CN110095187A

    公开(公告)日:2019-08-06

    申请号:CN201910413641.2

    申请日:2019-05-17

    Applicant: 中北大学

    Abstract: 本发明属于光谱成像装置技术领域,具体涉及一种基于MEMS微振镜和光栅的微型光谱成像装置,包括依次设置的MEMS二维扫描振镜、MEMS一维扫描振镜和高速光电点探测器,所述MEMS一维扫描振镜上设有光栅;目标光依次经过MEMS二维扫描振镜和MEMS一维扫描振镜后被高速光电点探测器探测,通过MEMS二维扫描振镜进行二维扫描,通过带光栅的MEMS一维扫描振镜进行光谱扫描,结合高速光电点探测器实现光谱成像。该装置无需阵列探测器和复杂的光学系统就可实现对被测目标的光谱成像多维信息测量,该系统具有体积小、结构简单、功耗小、稳定性好的优点。

    一种基于波长多样性的激光消散斑装置

    公开(公告)号:CN107153277B

    公开(公告)日:2019-03-26

    申请号:CN201710572178.7

    申请日:2017-07-13

    Applicant: 中北大学

    Abstract: 本发明属于激光显示技术领域,具体涉及一种基于波长多样性的激光消散斑装置。本发明激光消斑装置包括散射片、单面镜、方形匀光管、增透玻璃,方形匀光管的入射端面设有单面镜,方形匀光管的出射端面设有增透玻璃,激光器产生的激光光束通过散射片发散,散射片产生的散射光经过单面镜直接耦合到方形匀光管中,其中方形匀光管内设有激光增益介质和微/纳米散射体。本发明根据激光投影系统的特性设计了激光散斑抑制方案,既能得到较好的整形匀场,又能有效抑制激光散斑,并提高光能利用率,体积小、结构简单、成本低、系统的一致性和稳定性高。

    一种用于激光投影系统的静态消散斑装置

    公开(公告)号:CN105676478B

    公开(公告)日:2018-08-07

    申请号:CN201610227827.5

    申请日:2016-04-13

    Applicant: 中北大学

    Abstract: 本发明涉及激光显示技术领域,更具体而言,涉及一种用于激光投影系统的静态消散斑装置,具体是一种结合角度多样性和空间平均的非运动式有效减少或消除激光投影显示系统中散斑的静态装置;该装置只需在投影镜头的出瞳面上放置设计好的静态多孔掩模板,无需对激光投影系统做任何改变,就可通过非运动方式实现角度多样性和空间平均的激光散斑减少;本发明包括:激光器、散射片、会聚透镜、多孔掩模板和屏幕,所述激光器、散射片、会聚透镜、多孔掩模板和屏幕依次排列,所述激光器将激光束通过散射片散射后经会聚透镜收集并由多孔掩模板分成不同区域以不同角度成像在屏幕上;本发明主要应用在激光投影方面。

    一种用于激光投影系统的静态消散斑装置

    公开(公告)号:CN105676478A

    公开(公告)日:2016-06-15

    申请号:CN201610227827.5

    申请日:2016-04-13

    Applicant: 中北大学

    Abstract: 本发明涉及激光显示技术领域,更具体而言,涉及一种用于激光投影系统的静态消散斑装置,具体是一种结合角度多样性和空间平均的非运动式有效减少或消除激光投影显示系统中散斑的静态装置;该装置只需在投影镜头的出瞳面上放置设计好的静态多孔掩模板,无需对激光投影系统做任何改变,就可通过非运动方式实现角度多样性和空间平均的激光散斑减少;本发明包括:激光器、散射片、会聚透镜、多孔掩模板和屏幕,所述激光器、散射片、会聚透镜、多孔掩模板和屏幕依次排列,所述激光器将激光束通过散射片散射后经会聚透镜收集并由多孔掩模板分成不同区域以不同角度成像在屏幕上;本发明主要应用在激光投影方面。

    一种用于晶体化学机械研磨减薄的装置及其使用方法

    公开(公告)号:CN104924194A

    公开(公告)日:2015-09-23

    申请号:CN201510307498.0

    申请日:2015-06-08

    Applicant: 中北大学

    CPC classification number: B24B37/04 B24B37/34 B24B49/12

    Abstract: 本发明涉及机械研磨减薄技术领域,更具体而言,涉及一种用于铌酸锂、石英、蓝宝石等晶体的化学机械研磨减薄的装置及其使用方法;提供一种晶体的化学机械研磨减薄的装置及激光反射校准法,实现对晶体的上下两个面的平行度的高精度校准,减薄后晶体超薄,厚度能达到几十甚至十几个微米,平行度误差1微米以内,校准精度高、易操作;包括:第一固定片、微分头、载物块、修盘环、胶皮垫、第二固定片、加工晶体、有孔校准玻璃和第三固定片,所述微分头通过自身的螺纹与第一固定片固定,所述有孔校准玻璃通过第三固定片与修盘环固定;本发明主要应用于光电探测器敏感层制作、声光器件压电换能器制作等超精密晶体加工相关方面。

Patent Agency Ranking