一种P型射频横向双扩散金属氧化物半导体器件

    公开(公告)号:CN104600120A

    公开(公告)日:2015-05-06

    申请号:CN201510021174.0

    申请日:2015-01-15

    Applicant: 东南大学

    CPC classification number: H01L29/7816 H01L29/42364

    Abstract: 一种P型射频横向双扩散金属氧化物半导体器件,包括:N型衬底、N型外延层,在N型外延层中形成有P型轻掺杂漏区和N阱,N阱的一侧和所述P型轻掺杂漏区的一侧相接触;在所述P型轻掺杂漏区中形成有P型重掺杂漏区;在所述N阱中形成有P型重掺杂源区,在N阱的另一侧形成有N型重掺杂引出区,N型重掺杂引出区穿过N型外延层与N型硅衬底相接触;在N阱上形成有栅氧化层,且栅氧化层的两个边界分别位于P型重掺杂源区及P型轻掺杂漏区的边界上方;在N型重掺杂引出区和P型重掺杂源区上连接有源极金属,在P型重掺杂漏区上连接有漏极金属,其特征在于,所述栅氧化层为阶梯状,在栅氧化层的下方设有P型掺杂区且所述P型掺杂区位于N阱中。

    一种P型射频横向双扩散金属氧化物半导体器件

    公开(公告)号:CN104600120B

    公开(公告)日:2017-11-14

    申请号:CN201510021174.0

    申请日:2015-01-15

    Applicant: 东南大学

    Abstract: 一种P型射频横向双扩散金属氧化物半导体器件,包括:N型衬底、N型外延层,在N型外延层中形成有P型轻掺杂漏区和N阱,N阱的一侧和所述P型轻掺杂漏区的一侧相接触;在所述P型轻掺杂漏区中形成有P型重掺杂漏区;在所述N阱中形成有P型重掺杂源区,在N阱的另一侧形成有N型重掺杂引出区,N型重掺杂引出区穿过N型外延层与N型硅衬底相接触;在N阱上形成有栅氧化层,且栅氧化层的两个边界分别位于P型重掺杂源区及P型轻掺杂漏区的边界上方;在N型重掺杂引出区和P型重掺杂源区上连接有源极金属,在P型重掺杂漏区上连接有漏极金属,其特征在于,所述栅氧化层为阶梯状,在栅氧化层的下方设有P型掺杂区且所述P型掺杂区位于N阱中。

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