横向双扩散金属氧化物半导体场效应管

    公开(公告)号:CN112993021B

    公开(公告)日:2023-07-07

    申请号:CN201911310548.5

    申请日:2019-12-18

    Abstract: 本发明涉及一种横向双扩散金属氧化物半导体场效应管,包括:沟槽栅极,包括沟槽内的下部和沟槽外的上部,下部在导电沟道宽度方向上的长度小于上部,下部伸入体区且小于体区的深度;绝缘结构,设于漏极区和沟槽栅极之间并向下伸入漂移区,绝缘结构的深度小于漂移区,绝缘结构在漂移区内的深度大于场氧层在漂移区内的深度,绝缘结构在导电沟道宽度方向上的长度小于漂移区,绝缘结构两侧的表面形成有场氧层,上部延伸至场氧层上。本发明的导电沟道为在漂移区和体区中围绕绝缘结构和沟槽栅极设置的立体化结构。因此器件导通时的电流通路得到了扩展,能够大幅降低导通电阻。且绝缘结构可以有效提高器件的耐压性能,并起到辅助耗尽的作用。

    克里唑替尼前药及其制备方法与用途

    公开(公告)号:CN103373986A

    公开(公告)日:2013-10-30

    申请号:CN201210128875.0

    申请日:2012-04-22

    CPC classification number: Y02P20/55

    Abstract: 本发明涉及克里唑替尼前药及其制备方法与用途,本发明提供一种通式(II)所示的化合物或其立体异构体、或其药学可接受的盐、溶剂化物或水合物:其中,X是O或CH2;m是0或1;R1、R2选自相同或不同的基团,各自独立地是氢、卤素、硝基、氰基、羟基、氨基、C1-C6的饱和或不饱和的链烃基、C1-C6的饱和或不饱和的环烃基;R1与R2也可存在于同一个环中,共同构成3-6元环,该3-6元环可以是取代或未取代的环烷烃、芳环或杂芳环,环上的取代基可选自卤素、硝基、氰基、羟基、氨基、C1-C6烷基、C1-C6烷氧基;R3选自氢、取代或未取代C1-C12的饱和或不饱和的烃基、取代或未取代的苯基或杂芳基、取代或未取代的烷酰氧基、取代或未取代的磷酰氧基、取代或未取代的芳酰氧基或杂芳酰氧基,上述取代基选自卤素、硝基、氰基、羟基、氨基、苯基或杂芳基、C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、C1-C6烯基、C1-C6炔基。

    横向双扩散金属氧化物半导体场效应管

    公开(公告)号:CN112993021A

    公开(公告)日:2021-06-18

    申请号:CN201911310548.5

    申请日:2019-12-18

    Abstract: 本发明涉及一种横向双扩散金属氧化物半导体场效应管,包括:沟槽栅极,包括沟槽内的下部和沟槽外的上部,下部在导电沟道宽度方向上的长度小于上部,下部伸入体区且小于体区的深度;绝缘结构,设于漏极区和沟槽栅极之间并向下伸入漂移区,绝缘结构的深度小于漂移区,绝缘结构在漂移区内的深度大于场氧层在漂移区内的深度,绝缘结构在导电沟道宽度方向上的长度小于漂移区,绝缘结构两侧的表面形成有场氧层,上部延伸至场氧层上。本发明的导电沟道为在漂移区和体区中围绕绝缘结构和沟槽栅极设置的立体化结构。因此器件导通时的电流通路得到了扩展,能够大幅降低导通电阻。且绝缘结构可以有效提高器件的耐压性能,并起到辅助耗尽的作用。

    一种优品质因数横向双扩散金属氧化物半导体器件

    公开(公告)号:CN110808287B

    公开(公告)日:2023-10-17

    申请号:CN201911058197.3

    申请日:2019-10-31

    Applicant: 东南大学

    Abstract: 一种优品质因数横向双扩散金属氧化物半导体器件,包括:P型衬底,在P型衬底的上方设有N型区,在N型区的上方有P型体区和N型漂移区,在P型体区内设有N型源区和P型区,在N型漂移区内设有N型漏区,在N型漏区、N型源区和P型区上设有金属接触,在N型区的上方设有栅氧化层,在栅氧化层上方覆盖有多晶硅栅场板,在栅氧化层和N型漏区之间设有场氧层,在场氧层上方设有源级场板,其特征在于,所述源级场板由一排相互间隔排列且相抵的低位源级场板和高位源级场板组成,高位源级场板与N型漂移区之间的距离大于低位源级场板与N型漂移区之间的距离。本发明可在击穿电压基本不变的基础上,获得较优的品质因数。

    一种优品质因数横向双扩散金属氧化物半导体器件

    公开(公告)号:CN110808287A

    公开(公告)日:2020-02-18

    申请号:CN201911058197.3

    申请日:2019-10-31

    Applicant: 东南大学

    Abstract: 一种优品质因数横向双扩散金属氧化物半导体器件,包括:P型衬底,在P型衬底的上方设有N型区,在N型区的上方有P型体区和N型漂移区,在P型体区内设有N型源区和P型区,在N型漂移区内设有N型漏区,在N型漏区、N型源区和P型区上设有金属接触,在N型区的上方设有栅氧化层,在栅氧化层上方覆盖有多晶硅栅场板,在栅氧化层和N型漏区之间设有场氧层,在场氧层上方设有源级场板,其特征在于,所述源级场板由一排相互间隔排列且相抵的低位源级场板和高位源级场板组成,高位源级场板与N型漂移区之间的距离大于低位源级场板与N型漂移区之间的距离。本发明可在击穿电压基本不变的基础上,获得较优的品质因数。

    克里唑替尼前药及其制备方法与用途

    公开(公告)号:CN103373986B

    公开(公告)日:2016-10-05

    申请号:CN201210128875.0

    申请日:2012-04-22

    CPC classification number: Y02P20/55

    Abstract: 本发明涉及克里唑替尼前药及其制备方法与用途,本发明提供一种通式(II)所示的化合物或其立体异构体、或其药学可接受的盐、溶剂化物或水合物:其中,X是O或CH2;m是0或1;R1、R2选自相同或不同的基团,各自独立地是氢、卤素、硝基、氰基、羟基、氨基、C1‑C6的饱和或不饱和的链烃基、C1‑C6的饱和或不饱和的环烃基;R1与R2也可存在于同一个环中,共同构成3‑6元环,该3‑6元环可以是取代或未取代的环烷烃、芳环或杂芳环,环上的取代基可选自卤素、硝基、氰基、羟基、氨基、C1‑C6烷基、C1‑C6烷氧基;R3选自氢、取代或未取代C1‑C12的饱和或不饱和的烃基、取代或未取代的苯基或杂芳基、取代或未取代的烷酰氧基、取代或未取代的磷酰氧基、取代或未取代的芳酰氧基或杂芳酰氧基,上述取代基选自卤素、硝基、氰基、羟基、氨基、苯基或杂芳基、C1‑C6烷基、C1‑C6烷氧基、C1‑C6烯基、C1‑C6炔基。

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