公开(公告)号：CN118291944A

公开(公告)日：2024-07-05

申请号：CN202410586161.7

申请日：2024-05-13

Applicant: 东北大学

Inventor： 谢元华 ,  李永晟 ,  刘坤 ,  郝明 ,  鲁现航 ,  马刚强 ,  高晨

IPC: C23C14/54 ,  C23C14/24 ,  G06F30/27 ,  G06F30/25 ,  G06N3/006 ,  G06F111/10 ,  G06F119/08 ,  G06F119/14

Abstract: 本发明公开了一种基于数值模拟的膜厚调控方法，该膜厚调控方法包括：为蒸发镀膜建立CAD模型；为CAD模型设定边界条件；在CAD模型中设置监测位置的膜厚目标值；为CAD模型的蒸发参数设置初值；根据边界条件和蒸发参数初值模拟计算指定监测位置的膜厚值；调整蒸发参数使指定监测位置的膜厚值接近目标值。本发明还公开一种蒸镀装置，可根据上述膜厚调控方法得到的蒸发参数，快速实现蒸发参数的调节，实现优化蒸发参数下的膜厚均匀分布，节约人力调控成本和时间，解决膜厚分布不均问题。