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公开(公告)号：CN103959447B
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201280059884.7
申请日：2012-12-04
Applicant: 东京毅力科创株式会社 , 东华隆株式会社
IPC: H01L21/3065 , C23C4/04 , H05H1/46
CPC classification number: H05H1/46 , H01J37/32477 , H01J37/32495
Abstract: 本发明提供一种等离子体处理装置(10)，其特征在于，包括：能够减压的处理容器(12)；兼作在处理容器内载置晶片(W)的载置台(20)的下部电极；以与下部电极相对的方式配置的上部电极或天线电极；向处理容器内导入包含含卤气体和氧气的气体的气体供给源(32)；对上部电极、天线电极和下部电极中的至少任一个电极施加等离子体生成用的高频电力的高频电力源(18)；和利用等离子体生成用的高频电力使上述气体等离子体化，利用等离子体的作用对载置台上的晶片进行等离子体处理的单元，处理容器内的暴露于等离子体的面中，至少位于比晶片的载置位置更靠上部电极侧、天线电极侧或下部电极侧的高度的面的一部分或全部由氟化化合物覆盖。
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公开(公告)号：CN103959447A
公开(公告)日：2014-07-30
申请号：CN201280059884.7
申请日：2012-12-04
Applicant: 东京毅力科创株式会社 , 东华隆株式会社
IPC: H01L21/3065 , C23C4/04 , H05H1/46
CPC classification number: H05H1/46 , H01J37/32477 , H01J37/32495
Abstract: 本发明提供一种等离子体处理装置(10)，其特征在于，包括：能够减压的处理容器(12)；兼作在处理容器内载置晶片(W)的载置台(20)的下部电极；以与下部电极相对的方式配置的上部电极或天线电极；向处理容器内导入包含含卤气体和氧气的气体的气体供给源(32)；对上部电极、天线电极和下部电极中的至少任一个电极施加等离子体生成用的高频电力的高频电力源(18)；和利用等离子体生成用的高频电力使上述气体等离子体化，利用等离子体的作用对载置台上的晶片进行等离子体处理的单元，处理容器内的暴露于等离子体的面中，至少位于比晶片的载置位置更靠上部电极侧、天线电极侧或下部电极侧的高度的面的一部分或全部由氟化化合物覆盖。
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公开(公告)号：CN100539036C
公开(公告)日：2009-09-09
申请号：CN200680008277.2
申请日：2006-01-19
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 绿川良太郎
IPC: H01L21/3065 , H01J37/30
CPC classification number: H01L21/3065 , H01J37/32642 , H01J37/32935 , H01L21/30655 , H01L21/67069 , H01L21/67253 , H01L21/67276
Abstract: 即使在执行处理条件不同的多个种类的处理时，也可以不管各个处理的种类的执行比率的变动而准确的预测消耗部件的消耗量。本发明包括：计数器，测量在处理室(102)执行的每种处理种类消耗部件(例如聚焦环132)的RF放电时间；存储单元，存储具有每种处理种类的消耗系数的消耗系数信息；以及控制部(200)，取得由计数器测量的每种处理种类的RF放电时间，并通过存储单元的消耗系数信息取得每种处理种类的消耗系数，根据每种处理种类的RF放电时间和每种处理种类的消耗系数计算消耗部件的消耗度，并根据计算出来的消耗度进行消耗部件的管理处理。
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公开(公告)号：CN101142660A
公开(公告)日：2008-03-12
申请号：CN200680008277.2
申请日：2006-01-19
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 绿川良太郎
IPC: H01L21/3065 , H01J37/30
CPC classification number: H01L21/3065 , H01J37/32642 , H01J37/32935 , H01L21/30655 , H01L21/67069 , H01L21/67253 , H01L21/67276
Abstract: 即使在执行处理条件不同的多个种类的处理时，也可以不管各个处理的种类的执行比率的变动而准确的预测消耗部件的消耗量。本发明包括：计数器，测量在处理室(102)执行的每种处理种类消耗部件(例如聚焦环132)的RF放电时间；存储单元，存储具有每种处理种类的消耗系数的消耗系数信息；以及控制部(200)，取得由计数器测量的每种处理种类的RF放电时间，并通过存储单元的消耗系数信息取得每种处理种类的消耗系数，根据每种处理种类的RF放电时间和每种处理种类的消耗系数计算消耗部件的消耗度，并根据计算出来的消耗度进行消耗部件的管理处理。
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