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公开(公告)号：CN109952816A
公开(公告)日：2019-06-28
申请号：CN201780063567.5
申请日：2017-10-04
Applicant: 东京毅力科创株式会社 , 东京计器株式会社
IPC: H05H1/46
Abstract: 本发明的一实施方式的微波输出装置中，从方向性耦合器输出自微波产生部传播至输出部的行进波的一部分。在第1测定部中，利用二极管检波产生与行进波的一部分的功率对应的模拟信号，将该模拟信号转换为数字值。并且，选择与对微波输出装置中被指定的微波的设定频率及设定功率建立对应的一个以上的校正系数。通过将所选择的一个以上的校正系数与数字值相乘来确定测定值。
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公开(公告)号：CN109952816B
公开(公告)日：2021-10-15
申请号：CN201780063567.5
申请日：2017-10-04
Applicant: 东京毅力科创株式会社 , 东京计器株式会社
IPC: H05H1/46
Abstract: 本发明的一实施方式的微波输出装置中，从方向性耦合器输出自微波产生部传播至输出部的行进波的一部分。在第1测定部中，利用二极管检波产生与行进波的一部分的功率对应的模拟信号，将该模拟信号转换为数字值。并且，选择与对微波输出装置中被指定的微波的设定频率及设定功率建立对应的一个以上的校正系数。通过将所选择的一个以上的校正系数与数字值相乘来确定测定值。
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公开(公告)号：CN114302547A
公开(公告)日：2022-04-08
申请号：CN202111141272.X
申请日：2021-09-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 金子和史
IPC: H05H1/46
Abstract: 本发明提供等离子体处理装置和等离子体处理方法。等离子体处理装置包括处理容器、气体供给部、电功率供给部和控制装置。处理容器收纳基片。气体供给部向处理容器内供给处理气体。电功率供给部通过向处理容器内供给电功率，来从被供给到处理容器内的处理气体生成等离子体，用所生成的等离子体来处理基片。控制装置控制电功率供给部。并且，控制装置执行以下步骤：步骤a，在从处理气体生成等离子体时，控制电功率供给部，以向处理容器内供给包含第一带宽的频带中所含的频率成分的电功率；步骤b，在用所生成的等离子体处理基片时，控制电功率供给部，以向处理容器内供给包含第一带宽以下的第二带宽的频带中所含的频率成分的电功率。根据本发明，能够更可靠地生成等离子体并且稳定地维持等离子体。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109845411A
公开(公告)日：2019-06-04
申请号：CN201780063583.4
申请日：2017-10-04
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H05H1/46
Abstract: 本发明的一实施方式的微波输出装置中，从方向性耦合器输出自微波产生部传播至输出部的行进波的一部分。在第1测定部中，利用二极管检波产生与行进波的一部分的功率对应的模拟信号，将该模拟信号转换为数字值。并且，选择与对微波输出装置中被指定的微波的设定频率、设定功率及设定带宽建立对应的一个以上的校正系数。通过将所选择的一个以上的校正系数与数字值相乘来确定测定值。
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公开(公告)号：CN114496697A
公开(公告)日：2022-05-13
申请号：CN202111224195.4
申请日：2021-10-20
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种等离子体处理装置，目的在于高精度地控制具有由多载波实现的带宽的电力的经脉冲调制后的功率。装置包括能够产生具有带宽的电力的电力供给部，电力供给部产生的电力的功率被实施了脉冲调制使得具有高水平功率和低水平功率，并且，由设定脉冲频率和设定占空比决定的脉冲接通时间比具有带宽的电力所具有的功率变动周期长。
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公开(公告)号：CN118542074A
公开(公告)日：2024-08-23
申请号：CN202380017153.4
申请日：2023-01-16
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 金子和史
IPC: H05H1/46
Abstract: 对于等离子体生成用的高频，在更短的时间内搜索使从处理空间反射的反射波的功率最小化的频率。等离子体处理装置具有推理部，所述推理部在多个处理条件各自下进行等离子体处理时，对通过使用学习用数据进行了学习的已学习模型输入进行等离子体处理时的处理条件来推理所述等离子体生成用的高频的设定频率，所述学习用数据包含通过使等离子体生成用的高频的设定频率变化而搜索到的、使从处理空间反射的反射波的功率最小化的设定频率和与该设定频率对应的处理条件。
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公开(公告)号：CN109845411B
公开(公告)日：2021-10-26
申请号：CN201780063583.4
申请日：2017-10-04
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H05H1/46
Abstract: 本发明的一实施方式的微波输出装置中，从方向性耦合器输出自微波产生部传播至输出部的行进波的一部分。在第1测定部中，利用二极管检波产生与行进波的一部分的功率对应的模拟信号，将该模拟信号转换为数字值。并且，选择与对微波输出装置中被指定的微波的设定频率、设定功率及设定带宽建立对应的一个以上的校正系数。通过将所选择的一个以上的校正系数与数字值相乘来确定测定值。
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公开(公告)号：CN118844118A
公开(公告)日：2024-10-25
申请号：CN202380026725.5
申请日：2023-03-06
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H05H1/46 , H01L21/3065
Abstract: 本发明提供能够使等离子体处理稳定化的等离子体处理装置、分析装置和分析程序。作为一个方式的等离子体处理装置，能够在第一高频电源和第二高频电源各自产生脉冲、且匹配器控制所述第二高频电源的负载侧的阻抗的同时执行等离子体处理，所述等离子体处理装置的特征在于，包括：计算部，其用于获取基于不同的设定参数使所述第一高频电源产生连续脉冲、且使所述第二高频电源产生间歇脉冲时的对应的反射波的功率，计算表示反射波的状态的指标值；和确定部，其用于基于计算出的指标值各自的偏差，确定对所述第一高频电源和所述第二高频电源指定的设定参数，并且导出从计算用于所述匹配器的控制的指标值时的计算对象排除的范围。
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