公开(公告)号：CN114496697A

公开(公告)日：2022-05-13

申请号：CN202111224195.4

申请日：2021-10-20

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 金子和史 ,  石田洋平

IPC: H01J37/32

Abstract: 本发明提供一种等离子体处理装置，目的在于高精度地控制具有由多载波实现的带宽的电力的经脉冲调制后的功率。装置包括能够产生具有带宽的电力的电力供给部，电力供给部产生的电力的功率被实施了脉冲调制使得具有高水平功率和低水平功率，并且，由设定脉冲频率和设定占空比决定的脉冲接通时间比具有带宽的电力所具有的功率变动周期长。

公开(公告)号：CN118844118A

公开(公告)日：2024-10-25

申请号：CN202380026725.5

申请日：2023-03-06

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 金子和史 ,  石田洋平

IPC: H05H1/46 ,  H01L21/3065

Abstract: 本发明提供能够使等离子体处理稳定化的等离子体处理装置、分析装置和分析程序。作为一个方式的等离子体处理装置，能够在第一高频电源和第二高频电源各自产生脉冲、且匹配器控制所述第二高频电源的负载侧的阻抗的同时执行等离子体处理，所述等离子体处理装置的特征在于，包括：计算部，其用于获取基于不同的设定参数使所述第一高频电源产生连续脉冲、且使所述第二高频电源产生间歇脉冲时的对应的反射波的功率，计算表示反射波的状态的指标值；和确定部，其用于基于计算出的指标值各自的偏差，确定对所述第一高频电源和所述第二高频电源指定的设定参数，并且导出从计算用于所述匹配器的控制的指标值时的计算对象排除的范围。