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公开(公告)号：CN119452736A
公开(公告)日：2025-02-14
申请号：CN202380050533.8
申请日：2023-08-24
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H05H1/46 , H01L21/205 , H01L21/3065
Abstract: 一种等离子体处理方法，是使用了等离子体处理装置的等离子体处理方法，所述等离子体处理方法包括以下工序：获取包含第一初始电力值、初始电力施加时间以及输出抑制比的参数；获取包含作为第二初始电力值的制程设定电力值的处理制程；以及从所述第一初始电力值和所述第二初始电力值中的某一者中决定对等离子体激发用天线的初始接通电力，在将所述第一初始电力值决定为所述初始接通电力的情况下，所述等离子体处理方法包括以下工序：用至少所述初始电力施加时间以上的时间长度向所述等离子体激发用天线供给所决定的所述初始接通电力；以及使向所述等离子体激发用天线供给的高频电力的输出从所述初始接通电力逐步地上升到所述制程设定电力值。
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