公开(公告)号：CN105529289B

公开(公告)日：2018-09-07

申请号：CN201510685548.9

申请日：2015-10-20

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 高桥宏幸 ,  风间和典 ,  岩渕纪之 ,  户田聪 ,  高桥哲朗

IPC: H01L21/67

CPC classification number: H01L21/3065 ,  H01L21/31116 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/6719

Abstract: 提供一种基板处理装置和基板处理方法，在使用多个处理部对多个被处理基板分别进行处理时，能够共用排气机构并且实施不同的气体条件的基板处理。该基板处理装置具备对多个被处理基板(Wa、Wb)实施基板处理的多个处理部(11a、11b)、从多个处理部共同排出气体的排气机构(15)、对多个处理部相独立地供给气体的气体供给机构(14)以及控制部(16)，其中，在对多个被处理基板实施基板处理时，控制部一边控制排气机构使得从多个处理部一并排出气体，一边控制气体供给机构使得对多个处理部相独立地供给处理气体并且阻止产生多个处理部之间的压力差。

公开(公告)号：CN105529289A

公开(公告)日：2016-04-27

申请号：CN201510685548.9

申请日：2015-10-20

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 高桥宏幸 ,  风间和典 ,  岩渕纪之 ,  户田聪 ,  高桥哲朗

IPC: H01L21/67

CPC classification number: H01L21/3065 ,  H01L21/31116 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67011

Abstract: 提供一种基板处理装置和基板处理方法，在使用多个处理部对多个被处理基板分别进行处理时，能够共用排气机构并且实施不同的气体条件的基板处理。该基板处理装置具备对多个被处理基板(Wa、Wb)实施基板处理的多个处理部(11a、11b)、从多个处理部共同排出气体的排气机构(15)、对多个处理部相独立地供给气体的气体供给机构(14)以及控制部(16)，其中，在对多个被处理基板实施基板处理时，控制部一边控制排气机构使得从多个处理部一并排出气体，一边控制气体供给机构使得对多个处理部相独立地供给处理气体并且阻止产生多个处理部之间的压力差。

公开(公告)号：CN109244004A

公开(公告)日：2019-01-18

申请号：CN201811000665.7

申请日：2015-10-20

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 高桥宏幸 ,  风间和典 ,  岩渕纪之 ,  户田聪 ,  高桥哲朗

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/311

Abstract: 提供一种基板处理装置和基板处理方法，在使用多个处理部对多个被处理基板分别进行处理时，能够共用排气机构并且实施不同的气体条件的基板处理。该基板处理装置具备对多个被处理基板(Wa、Wb)实施基板处理的多个处理部(11a、11b)、从多个处理部共同排出气体的排气机构(15)、对多个处理部相独立地供给气体的气体供给机构(14)以及控制部(16)，其中，在对多个被处理基板实施基板处理时，控制部一边控制排气机构使得从多个处理部一并排出气体，一边控制气体供给机构使得对多个处理部相独立地供给处理气体并且阻止产生多个处理部之间的压力差。

公开(公告)号：CN1790616A

公开(公告)日：2006-06-21

申请号：CN200510118834.3

申请日：2005-10-28

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 工藤智之 ,  小泽润 ,  中村博 ,  风间和典 ,  守屋刚 ,  中山博之 ,  长池宏史

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/67 ,  H01L21/20 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/31 ,  H01L21/311 ,  H01L21/3205 ,  H01L21/3213 ,  G05B19/04 ,  C23C14/22 ,  C23C16/44 ,  C23F4/00 ,  H01J37/32

Abstract: 本发明提供一种存储有进行基板处理装置的运行方法的程序用的计算机可读取的存储介质。运行方法包括下述工序：在所述真空处理单元的真空准备室和所述输送单元之间进行所述被处理基板的交换时，在打开所述闸阀之前，向所述真空准备室内导入惰性气体；在所述真空准备室的内部压力变成与大气压相同时，停止导入所述惰性气体，开始所述真空准备室的腐蚀性气体的排气，然后，通过使所述真空准备室与大气连通来向大气开放；在所述向大气开放工序后打开所述闸阀。

公开(公告)号：CN109244004B

公开(公告)日：2022-04-15

申请号：CN201811000665.7

申请日：2015-10-20

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 高桥宏幸 ,  风间和典 ,  岩渕纪之 ,  户田聪 ,  高桥哲朗

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/311

Abstract: 提供一种基板处理装置和基板处理方法，在使用多个处理部对多个被处理基板分别进行处理时，能够共用排气机构并且实施不同的气体条件的基板处理。该基板处理装置具备对多个被处理基板(Wa、Wb)实施基板处理的多个处理部(11a、11b)、从多个处理部共同排出气体的排气机构(15)、对多个处理部相独立地供给气体的气体供给机构(14)以及控制部(16)，其中，在对多个被处理基板实施基板处理时，控制部一边控制排气机构使得从多个处理部一并排出气体，一边控制气体供给机构使得对多个处理部相独立地供给处理气体并且阻止产生多个处理部之间的压力差。

公开(公告)号：CN101582378B

公开(公告)日：2011-04-13

申请号：CN200910145487.1

申请日：2005-10-28

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 工藤智之 ,  小泽润 ,  中村博 ,  风间和典 ,  守屋刚 ,  中山博之 ,  长池宏史

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/677 ,  G05B19/04

Abstract: 本发明提供一种存储有进行基板处理装置的运行方法的程序用的计算机可读取的存储介质。运行方法包括下述工序：在所述真空处理单元的真空准备室和所述输送单元之间进行所述被处理基板的交换时，在打开所述闸阀之前，向所述真空准备室内导入惰性气体；在所述真空准备室的内部压力变成与大气压相同时，停止导入所述惰性气体，开始所述真空准备室的腐蚀性气体的排气，然后，通过使所述真空准备室与大气连通来向大气开放；在所述向大气开放工序后打开所述闸阀。

公开(公告)号：CN101582378A

公开(公告)日：2009-11-18

申请号：CN200910145487.1

申请日：2005-10-28

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 工藤智之 ,  小泽润 ,  中村博 ,  风间和典 ,  守屋刚 ,  中山博之 ,  长池宏史

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/677 ,  G05B19/04

Abstract: 本发明提供一种存储有进行基板处理装置的运行方法的程序用的计算机可读取的存储介质。运行方法包括下述工序：在所述真空处理单元的真空准备室和所述输送单元之间进行所述被处理基板的交换时，在打开所述闸阀之前，向所述真空准备室内导入惰性气体；在所述真空准备室的内部压力变成与大气压相同时，停止导入所述惰性气体，开始所述真空准备室的腐蚀性气体的排气，然后，通过使所述真空准备室与大气连通来向大气开放；在所述向大气开放工序后打开所述闸阀。

公开(公告)号：CN100524609C

公开(公告)日：2009-08-05

申请号：CN200510118834.3

申请日：2005-10-28

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 工藤智之 ,  小泽润 ,  中村博 ,  风间和典 ,  守屋刚 ,  中山博之 ,  长池宏史

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/67 ,  H01L21/20 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/31 ,  H01L21/311 ,  H01L21/3205 ,  H01L21/3213 ,  G05B19/04 ,  C23C14/22 ,  C23C16/44 ,  C23F4/00 ,  H01J37/32

Abstract: 本发明提供一种存储有进行基板处理装置的运行方法的程序用的计算机可读取的存储介质。运行方法包括下述工序：在所述真空处理单元的真空准备室和所述输送单元之间进行所述被处理基板的交换时，在打开所述闸阀之前，向所述真空准备室内导入惰性气体；在所述真空准备室的内部压力变成与大气压相同时，停止导入所述惰性气体，开始所述真空准备室的腐蚀性气体的排气，然后，通过使所述真空准备室与大气连通来向大气开放；在所述向大气开放工序后打开所述闸阀。